JPH01278413A - シリカゾルの製造方法 - Google Patents
シリカゾルの製造方法Info
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- JPH01278413A JPH01278413A JP10605288A JP10605288A JPH01278413A JP H01278413 A JPH01278413 A JP H01278413A JP 10605288 A JP10605288 A JP 10605288A JP 10605288 A JP10605288 A JP 10605288A JP H01278413 A JPH01278413 A JP H01278413A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/146—After-treatment of sols
- C01B33/148—Concentration; Drying; Dehydration; Stabilisation; Purification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C03C2203/20—Wet processes, e.g. sol-gel process
- C03C2203/26—Wet processes, e.g. sol-gel process using alkoxides
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ゾル−ゲル法によるガラスおよびセラミック
ス等の製造における原料として、あるいは、研磨剤など
として用いられるシリカゾルの製造方法に関する。
ス等の製造における原料として、あるいは、研磨剤など
として用いられるシリカゾルの製造方法に関する。
従来のアルキルシリケートを塩基性触媒により加水分解
し、シリカ粒子を合成、該シリカ分散液に、濃縮、安定
化などの処理を加えるシリカゾルの製造においては、該
シリカ分散液を、加熱、減圧、限外濾過により濃縮して
いた。
し、シリカ粒子を合成、該シリカ分散液に、濃縮、安定
化などの処理を加えるシリカゾルの製造においては、該
シリカ分散液を、加熱、減圧、限外濾過により濃縮して
いた。
しかし、前述の従来技術は、いずれも、シリカゾル中の
シリカ固形分濃度を高くする際、シリカ粒子相互の電気
的斥力とファンデルワールス引力とのバランスが崩れ、
シリカ粒子が凝集し易く、要求されるシリカ固形分濃度
に対応できないという課題を有する。
シリカ固形分濃度を高くする際、シリカ粒子相互の電気
的斥力とファンデルワールス引力とのバランスが崩れ、
シリカ粒子が凝集し易く、要求されるシリカ固形分濃度
に対応できないという課題を有する。
そこで本発明の目的は、分散性の良好な高濃度シリカゾ
ルを製造する方法を提供するところにある。
ルを製造する方法を提供するところにある。
本発明のシリカゾルの製造方法は、アルキルシリケート
を塩基性触媒により加水分解し、シリカ粒子を合成、該
シリか分散液に、濃縮、安定化などを加えるシリカゾル
の製造において、該シリカ分散液を、加熱、減圧、限外
濾過などにより濃縮する際、超音波を照射することを特
徴とする。
を塩基性触媒により加水分解し、シリカ粒子を合成、該
シリか分散液に、濃縮、安定化などを加えるシリカゾル
の製造において、該シリカ分散液を、加熱、減圧、限外
濾過などにより濃縮する際、超音波を照射することを特
徴とする。
本発明は、シリカゾル中のシリカ固形分の高濃度化の際
に、シリカ粒子相互の電気的斥力よりファンデルワール
ス引力が大きくなるために生ずるシリカ粒子の凝集と、
超音波のキャビテーションにより防ぎ、分散性の良好な
シリカゾルを作製できるものである。
に、シリカ粒子相互の電気的斥力よりファンデルワール
ス引力が大きくなるために生ずるシリカ粒子の凝集と、
超音波のキャビテーションにより防ぎ、分散性の良好な
シリカゾルを作製できるものである。
エチルシリナート、エタノール、水、アンモニア水（２
９％）をモル比で１：１０：４．５：０゜０８の割合に
なるように混合し、約５時間撹拌した後、２５〜３０℃
の室内に静置し、粒子の成長および熟成を約１週間行な
った。ここで得られなシリカ微粒子分散液中のシリカ微
粒子の平均粒子径は０．４２μｍであった。この後、加
熱減圧濃縮を行なった。この際、濃縮が進行し、シリカ
固形分濃度が、およそ３０ ｗ ｔ％程度になった時点
から、２８ＫＨｚの超音波を照射し始め、更に濃縮を継
続し、最終的に分散性の良好な高濃度シリカゾルを得た
。なおここで得られたシリカゾルは、シリカ固形分５２
．５ｗｔ％、比重１，２３、ｐＨ＝９．０６、粘度１６
．５ｃｐ、平均粒子径０゜４２μｍであり、濃縮の前後
において粒度分布に変化はなかっな。
９％）をモル比で１：１０：４．５：０゜０８の割合に
なるように混合し、約５時間撹拌した後、２５〜３０℃
の室内に静置し、粒子の成長および熟成を約１週間行な
った。ここで得られなシリカ微粒子分散液中のシリカ微
粒子の平均粒子径は０．４２μｍであった。この後、加
熱減圧濃縮を行なった。この際、濃縮が進行し、シリカ
固形分濃度が、およそ３０ ｗ ｔ％程度になった時点
から、２８ＫＨｚの超音波を照射し始め、更に濃縮を継
続し、最終的に分散性の良好な高濃度シリカゾルを得た
。なおここで得られたシリカゾルは、シリカ固形分５２
．５ｗｔ％、比重１，２３、ｐＨ＝９．０６、粘度１６
．５ｃｐ、平均粒子径０゜４２μｍであり、濃縮の前後
において粒度分布に変化はなかっな。
以上のように、本発明の方法によれば、シリカ微粒子の
安定性を維持したまま、分散性の良好な通常では得られ
ない高濃度シリカゾルを作製することが可能である。
安定性を維持したまま、分散性の良好な通常では得られ
ない高濃度シリカゾルを作製することが可能である。
したがって、特に高濃度なシリカゾルの使用が有効であ
るゾル−ゲル法によるガラスおよびセラミックス製造用
原料としてはもちろんのこと、各種の反応触媒担体、構
造強化剤、表面処理など、多方面への応用が期待できる
。
るゾル−ゲル法によるガラスおよびセラミックス製造用
原料としてはもちろんのこと、各種の反応触媒担体、構
造強化剤、表面処理など、多方面への応用が期待できる
。
以上
出願人 セイコーエプソン株式会社
Claims (1)
- １）アルキルシリケートを塩基性触媒により加水分解し
、シリカ粒子と合成、該シリカ分散液に、濃縮、安定化
などを加えるシリカゾルの製造において、該シリカ分散
液を、加熱、減圧、限外ろ過などにより、濃縮する際、
超音波を照射することを特徴とするシリカゾルの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10605288A JPH01278413A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | シリカゾルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10605288A JPH01278413A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | シリカゾルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01278413A true JPH01278413A (ja) | 1989-11-08 |
Family
ID=14423853
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10605288A Pending JPH01278413A (ja) | 1988-04-28 | 1988-04-28 | シリカゾルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01278413A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994025406A1 (fr) * | 1993-05-04 | 1994-11-10 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Procede de fabrication de verres denses transparents obtenus a partir d'alcoxydes de silicium ou de metal par voie sol-gel, et verres obtenus selon ce procede |
| US6322600B1 (en) * | 1997-04-23 | 2001-11-27 | Advanced Technology Materials, Inc. | Planarization compositions and methods for removing interlayer dielectric films |
| JP2009091218A (ja) * | 2007-10-11 | 2009-04-30 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | シリカ微粒子分散液の製造方法 |
| JP2012006823A (ja) * | 2010-02-19 | 2012-01-12 | Tokuyama Corp | 無機酸化物粒子分散液の濃縮物の製造方法、及び無機酸化物粒子の製造方法 |
| CN102874822A (zh) * | 2012-10-24 | 2013-01-16 | 河南安彩高科股份有限公司 | 一种二氧化硅溶胶、其制法和应用 |
| US9199852B2 (en) | 2011-09-26 | 2015-12-01 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Method of manufacturing silica particle dispersion |
| JP2020164350A (ja) * | 2019-03-28 | 2020-10-08 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | シリカゾルの製造方法 |
| CN116750975A (zh) * | 2023-08-21 | 2023-09-15 | 上海玻璃钢研究院有限公司 | 一种石英纤维复合材料及其制备方法 |
-
1988
- 1988-04-28 JP JP10605288A patent/JPH01278413A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994025406A1 (fr) * | 1993-05-04 | 1994-11-10 | Essilor International (Compagnie Generale D'optique) | Procede de fabrication de verres denses transparents obtenus a partir d'alcoxydes de silicium ou de metal par voie sol-gel, et verres obtenus selon ce procede |
| FR2704851A1 (fr) * | 1993-05-04 | 1994-11-10 | Essilor Int | Procédé de fabrication de verres denses transparents obtenus à partir d'alcoxydes de silicium ou de métal par voie sol-gel, et verres obtenus selon ce procédé. |
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| US12606444B2 (en) | 2019-03-28 | 2026-04-21 | Fujimi Incorporated | Method for manufacturing silica sol |
| CN116750975A (zh) * | 2023-08-21 | 2023-09-15 | 上海玻璃钢研究院有限公司 | 一种石英纤维复合材料及其制备方法 |
| CN116750975B (zh) * | 2023-08-21 | 2023-10-13 | 上海玻璃钢研究院有限公司 | 一种石英纤维复合材料及其制备方法 |
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