JPS6126521A - 石英ガラスの製造方法 - Google Patents
石英ガラスの製造方法Info
- Publication number
- JPS6126521A JPS6126521A JP14485084A JP14485084A JPS6126521A JP S6126521 A JPS6126521 A JP S6126521A JP 14485084 A JP14485084 A JP 14485084A JP 14485084 A JP14485084 A JP 14485084A JP S6126521 A JPS6126521 A JP S6126521A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- quartz glass
- sol
- filter
- passed
- quality
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 49
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- -1 alkyl silicate Chemical compound 0.000 claims description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 7
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 claims description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229940000960 q-gel Drugs 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明はゾルＱゲル法による石英ガラスの製造方法に間
中る。
中る。
石英ガラスは工Ｃ製造行穆中でるつぼやボード、拡散炉
等に使用これるようになり、その有用性がＶめられ、炉
に水酸基の少ないものや光学的均一性の良いものが開発
されたことによって、各種の光学的用途忙使用されるよ
うになり、特に光通信用の石英ガラスファイバーが最近
注目されている。
等に使用これるようになり、その有用性がＶめられ、炉
に水酸基の少ないものや光学的均一性の良いものが開発
されたことによって、各種の光学的用途忙使用されるよ
うになり、特に光通信用の石英ガラスファイバーが最近
注目されている。
このように石英ガラスは種々の分野で使用され、その利
用範囲も広がっている。しかし石英ガラスの製造コスト
は高も、高価なことが問題忙なっている。安価で高品質
の石英ガラスを製造する方法として、ゾルＯゲル法が昭
められている。
用範囲も広がっている。しかし石英ガラスの製造コスト
は高も、高価なことが問題忙なっている。安価で高品質
の石英ガラスを製造する方法として、ゾルＯゲル法が昭
められている。
ゾル・ゲル法を用いて歩留り良く、大型の石英ガラスを
得る方法として、アルキルシリケートを加水分解したゾ
ル中に超微粉末シリカを加え、更Ｋ ＰＨを３〜６に調
整した後、５０〜９０℃で乾燥し、焼結する方法がある
。ドライゲル作製中の馴れの問題と、焼結中の割ｈ、や
クラックの問題を同時に解決（１，たものであり、かな
り大きな石英ガラス（４１ｎｃｈφ以１：）が低コスト
で製造できるよう罠なうた。
得る方法として、アルキルシリケートを加水分解したゾ
ル中に超微粉末シリカを加え、更Ｋ ＰＨを３〜６に調
整した後、５０〜９０℃で乾燥し、焼結する方法がある
。ドライゲル作製中の馴れの問題と、焼結中の割ｈ、や
クラックの問題を同時に解決（１，たものであり、かな
り大きな石英ガラス（４１ｎｃｈφ以１：）が低コスト
で製造できるよう罠なうた。
結晶、気泡、不純物を含まない高品質の石英ガラスを製
造する方法としては、超音波振動により超微粉末シリカ
の分散を効果的に行なう方法、分散が不充分で残存する
塊状物を遠心分離により除去する方法等が提案きれ、そ
わなりお効果をあげている。（かし不定形状異物（数、
μ慴、〜５０μｍ）がわずかながら存在し、完全に均質
な石英ガラスを製造するには至っていない。
造する方法としては、超音波振動により超微粉末シリカ
の分散を効果的に行なう方法、分散が不充分で残存する
塊状物を遠心分離により除去する方法等が提案きれ、そ
わなりお効果をあげている。（かし不定形状異物（数、
μ慴、〜５０μｍ）がわずかながら存在し、完全に均質
な石英ガラスを製造するには至っていない。
不定形状異物は、製造工稈中に混入するゴミや市販され
ている超微粉末シリカ（例えばＣσ、ｂ−θ−５ｉｌ
（ｃａｂｏｔ社製）、Ａｅｒｏｓｉｌ （Ｄｅｇり＋、
ｓｓａ社製）、ｙｒａｎｓｉｌ （ｙｒａｎｓｉｌ ａ
：ＪＩＭ ）、Ｄ、 ｃ、 ５ｉｌｉｃａ （Ｄａ、ｗ
ＣｏＴｎｉｎｇ社製））中に含まれる粗粒（４５μ慴の
フィルターを通らない）が原因と考見られる。ゾル中に
既に存在するこれらの異物を分離し、均質なゾルを調整
できないと高品質の石英ガラスを製造することけできな
い。現在のままでは光学系に使用できない為、その応用
範囲か肇めて限られたものにｔ「っている□ 〔目的〕 本発明はこのような問題点を解決するもので、完全に均
質な高品質の石英ガラスを製造中る方法を捷供すへとと
ｋある、 〔概要〕 本発明の石英ガラスの製造方法は、少なくともアル千ル
シリケートおよび超微粉末シリカを原料とするゾル・ゲ
ル法による石英ガラスの製造方法において、ゾルを５Ｑ
ｔａｍより細かいフィルターを用いて１回以上漏過した
稜ゲル化させることを特徴とする。
ている超微粉末シリカ（例えばＣσ、ｂ−θ−５ｉｌ
（ｃａｂｏｔ社製）、Ａｅｒｏｓｉｌ （Ｄｅｇり＋、
ｓｓａ社製）、ｙｒａｎｓｉｌ （ｙｒａｎｓｉｌ ａ
：ＪＩＭ ）、Ｄ、 ｃ、 ５ｉｌｉｃａ （Ｄａ、ｗ
ＣｏＴｎｉｎｇ社製））中に含まれる粗粒（４５μ慴の
フィルターを通らない）が原因と考見られる。ゾル中に
既に存在するこれらの異物を分離し、均質なゾルを調整
できないと高品質の石英ガラスを製造することけできな
い。現在のままでは光学系に使用できない為、その応用
範囲か肇めて限られたものにｔ「っている□ 〔目的〕 本発明はこのような問題点を解決するもので、完全に均
質な高品質の石英ガラスを製造中る方法を捷供すへとと
ｋある、 〔概要〕 本発明の石英ガラスの製造方法は、少なくともアル千ル
シリケートおよび超微粉末シリカを原料とするゾル・ゲ
ル法による石英ガラスの製造方法において、ゾルを５Ｑ
ｔａｍより細かいフィルターを用いて１回以上漏過した
稜ゲル化させることを特徴とする。
ゾルは粘性が高く（数十ｏｐ）、乾燥するとゲル化して
しまう為、濃過操作が難かしい。送液ポンプ等を用いて
、連続的に加圧濃過を行なう方法は大変有効でａす、処
理能力も増加する。
しまう為、濃過操作が難かしい。送液ポンプ等を用いて
、連続的に加圧濃過を行なう方法は大変有効でａす、処
理能力も増加する。
またゾル中Ｋｌ−を巨大粒子（数十μｍ）が混在してお
り、いきなり細かいフィルターを渉すと目づまりを起こ
しやすい。その為、ネず相いフィルターを通した後、順
次より細かいフィルターを用いて濃過する方法が有効で
ある。細かいフィルターを用いるほど、・石英ガラスの
品質は向上する、同じサイズのフィルターでも、数回通
過ζせることにより、品質を向上シせることができるー
〔実施例〕 以下、本発明につｌ／１て実施例に基づ＾詳細に卯明す
る。
り、いきなり細かいフィルターを渉すと目づまりを起こ
しやすい。その為、ネず相いフィルターを通した後、順
次より細かいフィルターを用いて濃過する方法が有効で
ある。細かいフィルターを用いるほど、・石英ガラスの
品質は向上する、同じサイズのフィルターでも、数回通
過ζせることにより、品質を向上シせることができるー
〔実施例〕 以下、本発明につｌ／１て実施例に基づ＾詳細に卯明す
る。
実施例１
エチルシリケート４４ｔと００５規定塩酸水溶液６．６
ｔを激しく攪拌し、無色透明の均一溶液を得た。そこに
超微粉末シリカ（Ａｅｒｏｓｉｌ ｏｘ −５ｏ ）１
、５ Ｋｐを徐々に添加し、充分に攪拌した。ゾルを２
０℃に俣ちながら２１３ＫＨ２の超音波を２時間照射す
ると、粘性は５０ ｃｐ （２５℃）から２５ｃｇに低
下し、平均粒径も０２２μｍから０，１６μｍに減少し
た。
ｔを激しく攪拌し、無色透明の均一溶液を得た。そこに
超微粉末シリカ（Ａｅｒｏｓｉｌ ｏｘ −５ｏ ）１
、５ Ｋｐを徐々に添加し、充分に攪拌した。ゾルを２
０℃に俣ちながら２１３ＫＨ２の超音波を２時間照射す
ると、粘性は５０ ｃｐ （２５℃）から２５ｃｇに低
下し、平均粒径も０２２μｍから０，１６μｍに減少し
た。
更に１５００ Ｇの遠心力を１０分間かけ、分散が不充
分の巨大粒子を沈降略せたー 得らり、た均＠度の高いゾル（以後ゾルＡと呼ぶ）を工
γ−ポンプを用いて孔径５０μｍのフィルター（ポリプ
ロピレン製カートリッジ型フィルター（東洋科学産業株
式会社製））に送り、３ Ｋ？／Ｃｌ１ｌ”の圧力で濃
過を行ｔ「つた。８ｔのゾルが２分間で処理できた。
分の巨大粒子を沈降略せたー 得らり、た均＠度の高いゾル（以後ゾルＡと呼ぶ）を工
γ−ポンプを用いて孔径５０μｍのフィルター（ポリプ
ロピレン製カートリッジ型フィルター（東洋科学産業株
式会社製））に送り、３ Ｋ？／Ｃｌ１ｌ”の圧力で濃
過を行ｔ「つた。８ｔのゾルが２分間で処理できた。
回収し次ゾルをＰＨ４，１に調整してから、ポリプロピ
レン製容器（幅２０硼ｘ２０傭×高ざ１０ａ）に深さが
１ｃｍになる量のゾルを移入し、６０℃で７日間乾燥さ
せた。直径１４傭、厚さ０，７Ｑのドライゲルが得ら力
、１８０℃／ｈｒの昇温速度で１３００℃まで加熱する
と、直径ｊＯｃｍ、厚さ０．５硼の石英ガラスが製造で
きた。
レン製容器（幅２０硼ｘ２０傭×高ざ１０ａ）に深さが
１ｃｍになる量のゾルを移入し、６０℃で７日間乾燥さ
せた。直径１４傭、厚さ０，７Ｑのドライゲルが得ら力
、１８０℃／ｈｒの昇温速度で１３００℃まで加熱する
と、直径ｊＯｃｍ、厚さ０．５硼の石英ガラスが製造で
きた。
石英ガラス中に数十μｍの不定形状異物を若干含むもの
の、ゾルＡをそのままゲル化させて製造した石英ガラス
より品質的にすぐれていた。
の、ゾルＡをそのままゲル化させて製造した石英ガラス
より品質的にすぐれていた。
実施例２
ゾルＡを孔径５０μｍのフィルターを通してから−に孔
径１０μｍのフィルターを通した。３に−２の圧力をか
け８ｔのゾルが３分間で処理でき念。
径１０μｍのフィルターを通した。３に−２の圧力をか
け８ｔのゾルが３分間で処理でき念。
回収したゾルを実施例１と同様の操作により石英ガラス
としたところ、１０〜２０μｍの不定形状異物が１−に
数個存在しているのみで、かなり均質閾が高かうた。
としたところ、１０〜２０μｍの不定形状異物が１−に
数個存在しているのみで、かなり均質閾が高かうた。
実施例３
ゾルＡを孔径５０μ空のフィルターを伸してから更に孔
径１０μｍのフィルターを３回通した。
径１０μｍのフィルターを３回通した。
回収したゾルを実施例１と同様の操作により石英ガラス
としたところ、１０μ空以上の不定形状異物は全く存在
せず、極めて高品質だった。
としたところ、１０μ空以上の不定形状異物は全く存在
せず、極めて高品質だった。
実施例４
ゾルＡを孔径５０μｍ及び１０μｍのフィルターを通し
た後、更に孔径５μｍのフィルターを通した。
た後、更に孔径５μｍのフィルターを通した。
５ Ｋｐ／ｃｍ２の圧力をかけ８１のゾルが３分間で処
理できた。
理できた。
回収したゾルを実施例１と同様の操作により石英ガラス
としたところ、１０μｍ以上の不定形状異物は全く存在
せず、極めて高品質だった。
としたところ、１０μｍ以上の不定形状異物は全く存在
せず、極めて高品質だった。
実施例５
ゾル八を孔径５０μｍ及び１０μｍのフィルターを通し
た後、ｕｌに孔径１μ情のフィルターを通しｆｃ１５
Ｋ１７ｃｍ ２の圧力をかけ８ｔのゾルが５分間で処理
できた、 回収したゾルを実施例１と同様の操作忙より石英ガラス
としたところ、完全に均質であり、極めて高品質だった
。
た後、ｕｌに孔径１μ情のフィルターを通しｆｃ１５
Ｋ１７ｃｍ ２の圧力をかけ８ｔのゾルが５分間で処理
できた、 回収したゾルを実施例１と同様の操作忙より石英ガラス
としたところ、完全に均質であり、極めて高品質だった
。
比較例
ゾルＡをフィルターをｙ＃ζず、実施例１と同様の操作
により石英ガラスとしたところ、数十μｍの不定形状異
物が点在し、外部から混入したと思わ灼る糸クズ状のも
のも観察された。
により石英ガラスとしたところ、数十μｍの不定形状異
物が点在し、外部から混入したと思わ灼る糸クズ状のも
のも観察された。
以上述べたように本発明によれば、少なくともアルキル
シリケートおよび超微粉末シリカを原料とするゾル・ゲ
ル法による石英ガラスの製造方法において、ゾルを５０
μｍより細かいフィルターを用いて１回線上濃過した後
ゲル化させること忙より、完全に均質な高品質の石英ガ
ラスを製造できる。その為、製造した石英ガラスを光学
系で用いることが可卯になり、フォトヤスク用石英基盤
、光通信用石英ガラスファイバー、各浦光学甲セＡ・埠
、限りない応用の道が開かれた１、 ｔフ ｈ
シリケートおよび超微粉末シリカを原料とするゾル・ゲ
ル法による石英ガラスの製造方法において、ゾルを５０
μｍより細かいフィルターを用いて１回線上濃過した後
ゲル化させること忙より、完全に均質な高品質の石英ガ
ラスを製造できる。その為、製造した石英ガラスを光学
系で用いることが可卯になり、フォトヤスク用石英基盤
、光通信用石英ガラスファイバー、各浦光学甲セＡ・埠
、限りない応用の道が開かれた１、 ｔフ ｈ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）少なくともアルキルシリケートおよび超微粉末シリ
カを原料とするゾル・ゲル法による石英ガラスの製造方
法において、ゾルを５０μｍより細かいフィルターを用
いて１回以上漏過した後ゲル化させることを特徴とする
石英ガラスの製造方法。 ２）送液ポンプ等を用いて、連続的に加圧漏過を行なう
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の石英ガラ
スの製造方法。 ３）まず粗いフィルターを通した後、順次より細かいフ
ィルターを用いて漏過することを特徴とする特許請求の
範囲第１項又は第２項記載の石英ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14485084A JPS6126521A (ja) | 1984-07-12 | 1984-07-12 | 石英ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14485084A JPS6126521A (ja) | 1984-07-12 | 1984-07-12 | 石英ガラスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6126521A true JPS6126521A (ja) | 1986-02-05 |
| JPH0348140B2 JPH0348140B2 (ja) | 1991-07-23 |
Family
ID=15371867
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14485084A Granted JPS6126521A (ja) | 1984-07-12 | 1984-07-12 | 石英ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6126521A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62246827A (ja) * | 1986-04-16 | 1987-10-28 | Seiko Epson Corp | ガラスの製造方法 |
| JP2018090440A (ja) * | 2016-12-02 | 2018-06-14 | クアーズテック株式会社 | 鋭角部を有する光学部品の製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5978948A (ja) * | 1982-10-28 | 1984-05-08 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造法 |
| JPS59116135A (ja) * | 1982-12-23 | 1984-07-04 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造方法 |
-
1984
- 1984-07-12 JP JP14485084A patent/JPS6126521A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5978948A (ja) * | 1982-10-28 | 1984-05-08 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造法 |
| JPS59116135A (ja) * | 1982-12-23 | 1984-07-04 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62246827A (ja) * | 1986-04-16 | 1987-10-28 | Seiko Epson Corp | ガラスの製造方法 |
| JP2018090440A (ja) * | 2016-12-02 | 2018-06-14 | クアーズテック株式会社 | 鋭角部を有する光学部品の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0348140B2 (ja) | 1991-07-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3336235C2 (ja) | ||
| Fujiwara et al. | Silica hollow spheres with nano-macroholes like diatomaceous earth | |
| EP0892834A1 (de) | Verfahren zur herstellung agglomeratfreier nanoskaliger eisenoxidteilchen mit hydrolysebeständigem überzug | |
| DE10050343A1 (de) | Poröse Silika-Mikrosphäre als Reinigungsmittel | |
| JP6555483B2 (ja) | 針状炭酸ストロンチウム微粒子及びその分散液 | |
| DE3786933T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von mono-dispergierten Teilchen. | |
| DE102004009569A1 (de) | Verwendung von Kern-Mantel-Partikeln | |
| JPS6126521A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
| JP3203694B2 (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
| CN114772616A (zh) | 一种超细纳米铝溶胶及其制备方法 | |
| JPH01278413A (ja) | シリカゾルの製造方法 | |
| CN111019983A (zh) | 一种玉米淀粉纳米晶的制备方法 | |
| JPH04240112A (ja) | シリカ微粒子の製造方法 | |
| JPH10203820A (ja) | シリカ粒子の製造方法 | |
| JPH01257120A (ja) | 多孔質乾燥ゲルの製造方法 | |
| JPS6296327A (ja) | ゾルの調整方法 | |
| JPS6373225A (ja) | 表示装置 | |
| JP2022030881A (ja) | 多孔性セルロース粒子及びその製造方法 | |
| JP2722627B2 (ja) | シリカ核粒子の成長方法 | |
| JPS62226821A (ja) | ガラス製造法 | |
| CN117510910A (zh) | 一种可再分散的纳米纤维素粉末及其制备方法 | |
| JPH0558604A (ja) | 金属酸化物薄膜の製造方法 | |
| JPH03285833A (ja) | 多孔質ガラスの製造法 | |
| JPS59207839A (ja) | 微粒球状希土類酸化物およびその製造方法 | |
| CN121929703A (zh) | 一种造纸用低ph值表面改性的小粒径硅溶胶的制备方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |