JPH01279437A - 光ディスク製造用原盤、その製造方法、および光ディスク用成形体 - Google Patents
光ディスク製造用原盤、その製造方法、および光ディスク用成形体Info
- Publication number
- JPH01279437A JPH01279437A JP63107654A JP10765488A JPH01279437A JP H01279437 A JPH01279437 A JP H01279437A JP 63107654 A JP63107654 A JP 63107654A JP 10765488 A JP10765488 A JP 10765488A JP H01279437 A JPH01279437 A JP H01279437A
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- JP
- Japan
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- cross
- master
- forming
- optical disk
- sectional shape
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光ディスク媒体用の成形体、その成形に際し
て利用するスタンバ−を製造するための原盤、および該
原盤の製造方法に関する。
て利用するスタンバ−を製造するための原盤、および該
原盤の製造方法に関する。
(従来の技術)
光ディスクはその基板にトラッキングガイド用溝やアド
レスピットを有する。このような光ディスクを製造する
ために利用されるスタンバ−は、第6図(a)〜(e)
に断面図として示される工程に従って1作製されるのが
通常である。即ち、まず、ガラス板1にカップリング剤
2とフォトレジスト3をr?IHL/ [図、(a)コ
、これをレーザー光にて部分的に露光した後、現像する
ことによりレジストにパターンを形成し、原盤とする[
(b)]。次に、この原盤上に、N1などの金属膜4を
スパッタ等の方法によって設け[(C)]、その後、N
iメツキ層5を形成する[(d)]。こうして、スタン
パ−は作製される。この作製工程で使用されるレーザー
光のビーム断面のエネルギー分Iiiは、第1図(a)
のように、ガウス分布を打する。このため、L配力法で
得られた光ディスク用スタンバ−のパターンの四部断面
形状は第2図(a)のように対称形である。
レスピットを有する。このような光ディスクを製造する
ために利用されるスタンバ−は、第6図(a)〜(e)
に断面図として示される工程に従って1作製されるのが
通常である。即ち、まず、ガラス板1にカップリング剤
2とフォトレジスト3をr?IHL/ [図、(a)コ
、これをレーザー光にて部分的に露光した後、現像する
ことによりレジストにパターンを形成し、原盤とする[
(b)]。次に、この原盤上に、N1などの金属膜4を
スパッタ等の方法によって設け[(C)]、その後、N
iメツキ層5を形成する[(d)]。こうして、スタン
パ−は作製される。この作製工程で使用されるレーザー
光のビーム断面のエネルギー分Iiiは、第1図(a)
のように、ガウス分布を打する。このため、L配力法で
得られた光ディスク用スタンバ−のパターンの四部断面
形状は第2図(a)のように対称形である。
しかしながら、このようなスタンパ−を用いてインジェ
クション成形などにて、第1図(e)のような樹脂成形
基板を得る場合には、光ディスク用スタンパ−表面にお
いて、樹脂の流れに対する抵抗が、大きくなる。そのた
め、樹脂の流れが悪くなり、ティスフの複屈折を小さく
することか困難になったり、樹脂の乱流による外観不良
等の光学的特性が悪くなる。また、インジェクション成
形なとては、スタンパ−形状の樹脂成形基板への転写性
が悪いため、その形状か正確に転写されずに、成形J、
c板はスタンバ−形状と異なった形状となる。このため
、1拝生信号に悪影響を与えることとなる。
クション成形などにて、第1図(e)のような樹脂成形
基板を得る場合には、光ディスク用スタンパ−表面にお
いて、樹脂の流れに対する抵抗が、大きくなる。そのた
め、樹脂の流れが悪くなり、ティスフの複屈折を小さく
することか困難になったり、樹脂の乱流による外観不良
等の光学的特性が悪くなる。また、インジェクション成
形なとては、スタンパ−形状の樹脂成形基板への転写性
が悪いため、その形状か正確に転写されずに、成形J、
c板はスタンバ−形状と異なった形状となる。このため
、1拝生信号に悪影響を与えることとなる。
本発明は、左右非対象な分布をもった高密度ビームでの
露光を利用することにより、トラッキング用溝またはア
ドレスピットに対応する四部の断面形状が第1図(b)
のような形状の原盤を形成し、この原盤を基にしたスタ
ンパ−によって、成形時の樹脂の流れ抵抗を押え、光学
特性に優れた光ディスク媒体用成形体を提供し、結果的
に良質な再生信号を取り出そうとするものである。
露光を利用することにより、トラッキング用溝またはア
ドレスピットに対応する四部の断面形状が第1図(b)
のような形状の原盤を形成し、この原盤を基にしたスタ
ンパ−によって、成形時の樹脂の流れ抵抗を押え、光学
特性に優れた光ディスク媒体用成形体を提供し、結果的
に良質な再生信号を取り出そうとするものである。
(課題を解決するための手段)
本発明は、基板−Lに感光層を積層後、その感光層を、
断面のエネルギー分布か非ガウス分布をもった高密度ビ
ームによって露光し、その後、現像する工程を有する原
盤の製法であり、また該製法によりできた原盤、即ち、
基板上に、トラッキング用溝またはアドレスピットに対
応する凹部をイfする感光層が設けられ、該凹部の、該
原盤の半径方向断面形状が、左右非対称であることを特
徴とする原盤であり、さらに、本発明は該原盤を利用し
て製造できる光ディスク用成形体、即ち、トラッキング
用溝またはアドレスピットを有する光ディスク用成形体
であって、トラッキング用溝またはアドレスピットの、
該原盤の半径方向断面形状が、左右非対称であることを
特徴とする成形体である。
断面のエネルギー分布か非ガウス分布をもった高密度ビ
ームによって露光し、その後、現像する工程を有する原
盤の製法であり、また該製法によりできた原盤、即ち、
基板上に、トラッキング用溝またはアドレスピットに対
応する凹部をイfする感光層が設けられ、該凹部の、該
原盤の半径方向断面形状が、左右非対称であることを特
徴とする原盤であり、さらに、本発明は該原盤を利用し
て製造できる光ディスク用成形体、即ち、トラッキング
用溝またはアドレスピットを有する光ディスク用成形体
であって、トラッキング用溝またはアドレスピットの、
該原盤の半径方向断面形状が、左右非対称であることを
特徴とする成形体である。
以ド、本発明の実施態様を説明する。
ガラス基板上に、密着剤、例えば、AZ−八〇、PRO
M0TER−100(商品名、ヘキスト社製)のような
シラン系カップリング剤をコートした後、さらに感光性
レジスト[AZ−1:150 (商品名)ヘキスト社
製等]をコートする。次に慈基板にレーザー光によって
露光する。そのレーザー光としては断面のエネルギー分
布が第1図(b)のようなものを用いる。露光後、現像
することによって、第2図(b)のような断面形状をも
ったレジストパターンか形成できる。こうしてできた原
盤に1例えばNiをスパッタし、次いでNiメツキを施
す。その後、Ni層を剥離することにより、スタンバが
得られる。このスタンバを射出成形や射出圧縮成形など
の成形法で用いることによって、光ディスク媒体用成形
体が多量に生産できる。
M0TER−100(商品名、ヘキスト社製)のような
シラン系カップリング剤をコートした後、さらに感光性
レジスト[AZ−1:150 (商品名)ヘキスト社
製等]をコートする。次に慈基板にレーザー光によって
露光する。そのレーザー光としては断面のエネルギー分
布が第1図(b)のようなものを用いる。露光後、現像
することによって、第2図(b)のような断面形状をも
ったレジストパターンか形成できる。こうしてできた原
盤に1例えばNiをスパッタし、次いでNiメツキを施
す。その後、Ni層を剥離することにより、スタンバが
得られる。このスタンバを射出成形や射出圧縮成形など
の成形法で用いることによって、光ディスク媒体用成形
体が多量に生産できる。
第2図(b)のように、トラッキング用溝またはアドレ
スピットに対応する凹部の底辺の中心が、それと平行す
る辺の中心より内周側にある場合特に、成形時の樹脂の
流れがスムーズになり、複屈折などの光学的特性の良好
な成形品が得られる。
スピットに対応する凹部の底辺の中心が、それと平行す
る辺の中心より内周側にある場合特に、成形時の樹脂の
流れがスムーズになり、複屈折などの光学的特性の良好
な成形品が得られる。
なお、露光時のエネルギー分布を変えることや、現像条
件を変えることによって、第3図(a)〜(c)に示す
ような多数の変曲点をもつ曲線で断面形状が定められた
溝やビットが形成できる。
件を変えることによって、第3図(a)〜(c)に示す
ような多数の変曲点をもつ曲線で断面形状が定められた
溝やビットが形成できる。
また、■記態様では、溝の断面は非対称の台形状である
が、非対称のU形状、■形状としてもよく、これらによ
っても同様な作用効果か得られる。
が、非対称のU形状、■形状としてもよく、これらによ
っても同様な作用効果か得られる。
光ビームにエネルギー分布をもたせる方法は、例えば、
第4図のよに、光ビーム光路にピンホールやスリット7
などによりビームをカットすることによりなしうる。
第4図のよに、光ビーム光路にピンホールやスリット7
などによりビームをカットすることによりなしうる。
実施例1
ガラス基板上に、シラン系カップリング剤をコートした
後、感光性レジスト八Z−1350を1450人の厚さ
にコートした。次に註基板にArレーサー光を部分的に
照射した。出力は200mWであり、露光部分では、途
中光路でカットするため、20mW程度である。
後、感光性レジスト八Z−1350を1450人の厚さ
にコートした。次に註基板にArレーサー光を部分的に
照射した。出力は200mWであり、露光部分では、途
中光路でカットするため、20mW程度である。
F記の工程によって、第5図に示したような形状をもっ
たレジストパターンが形成できた。
たレジストパターンが形成できた。
得られた原盤にNiをスパッタしく厚さ:500〜20
00人)、次いでNiメツキ処理(厚さ二0.3〜0.
6+nm)をなした後、Ni層を剥離することにより、
スタンバを得た。このスタンバを用い、射出成形法によ
って、光ティスフ媒体を生産した。
00人)、次いでNiメツキ処理(厚さ二0.3〜0.
6+nm)をなした後、Ni層を剥離することにより、
スタンバを得た。このスタンバを用い、射出成形法によ
って、光ティスフ媒体を生産した。
比較例1
原盤作製時の露光工程において、ガウス分布をもつレー
ザービームを利用した以外は実施例1と同様な方法で光
ディスク媒体を生産した。
ザービームを利用した以外は実施例1と同様な方法で光
ディスク媒体を生産した。
(評価)
実施例1では、複屈折が小さく、比較例1では複屈折が
大きかった。また、両者、トラッキング信号とアドレス
信号に関しては、同様な信号が得られた。
大きかった。また、両者、トラッキング信号とアドレス
信号に関しては、同様な信号が得られた。
以ト詳細に説明したように、露光用レーザー尤のエネル
ギー分布をコントロールすることにより、トラッキング
用溝またはアドレスピットに対応する凹部の断面形状が
左右非対象な原盤を得ることができ、これを基にしたス
タンバ−を利用することによって、成形時の樹脂の流れ
がスムーズとなり、成形不良が少なく、しかも複屈折な
どの光学特性が優れた光ディスク媒体用成形体が得られ
る。その結果、良好な再生信号を得ることが可能になっ
た。
ギー分布をコントロールすることにより、トラッキング
用溝またはアドレスピットに対応する凹部の断面形状が
左右非対象な原盤を得ることができ、これを基にしたス
タンバ−を利用することによって、成形時の樹脂の流れ
がスムーズとなり、成形不良が少なく、しかも複屈折な
どの光学特性が優れた光ディスク媒体用成形体が得られ
る。その結果、良好な再生信号を得ることが可能になっ
た。
第1図(a)は従来の原盤の作製時に用いるレーサーの
エネルギー分布、第1図(b)は本発明の原盤の作製時
に用いるレーザーのエネルギー分I5、第2図(a)は
従来の原盤のパターンの断面図、第2図(b)は本発明
の原盤のパターンの断面図、第3図(a)〜(C)は本
発明に係る他の原盤のパターンの断面図、第4図は、非
ガウス分布のエネルギー分布をもつ光ビームを得る方法
を示す図、第5図は実施例により得られたレジストパタ
ーンを示す断面図、第6図は従来のスタンバ−作製工程
を示す断面図である。 1ニガラス板 2:カップリング剤 3:フォトレジスト 4:金属膜 5:メツキ層 6:成形基板 7:ピンホールやスリット
エネルギー分布、第1図(b)は本発明の原盤の作製時
に用いるレーザーのエネルギー分I5、第2図(a)は
従来の原盤のパターンの断面図、第2図(b)は本発明
の原盤のパターンの断面図、第3図(a)〜(C)は本
発明に係る他の原盤のパターンの断面図、第4図は、非
ガウス分布のエネルギー分布をもつ光ビームを得る方法
を示す図、第5図は実施例により得られたレジストパタ
ーンを示す断面図、第6図は従来のスタンバ−作製工程
を示す断面図である。 1ニガラス板 2:カップリング剤 3:フォトレジスト 4:金属膜 5:メツキ層 6:成形基板 7:ピンホールやスリット
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)基板上に、トラッキング用溝またはアドレスピット
に対応する凹部を有する感光層が設けられた光ディスク
製造用原盤において、該トラッキング用溝またはアドレ
スピットに対応する凹部の、該原盤の半径方向断面形状
が、左右非対称であることを特徴とする原盤。 2)前記断面形状が実質的に台形であり、該台形におい
て平行する二辺のうち、短辺が前記凹部の底辺をなし、
該短辺の中心が、それと平行する長辺の中心より、原盤
の内周側にある請求項1記載の原盤。 3)基板上に感光層を積層後、その感光層を、断面のエ
ネルギー分布が非ガウス分布をもった高密度ビームによ
って露光し、その後、現像する工程を有する請求項1記
載の原盤の製造方法。 4)トラッキング用溝またはアドレスピットを有する光
ディスク用成形体において、トラッキング用溝またはア
ドレスピットの、該原盤の半径方向断面形状が、左右非
対称であることを特徴とする光ディスク用成形体。 5)前記断面形状が実質的に台形であり、該台形におい
て平行する二辺のうち、短辺が前記凹部の底辺をなし、
該短辺の中心が、それと平行する長辺の中心より、成形
体の内周側にある請求項4記載の光ディスク用成形体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63107654A JPH01279437A (ja) | 1988-05-02 | 1988-05-02 | 光ディスク製造用原盤、その製造方法、および光ディスク用成形体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63107654A JPH01279437A (ja) | 1988-05-02 | 1988-05-02 | 光ディスク製造用原盤、その製造方法、および光ディスク用成形体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01279437A true JPH01279437A (ja) | 1989-11-09 |
Family
ID=14464662
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63107654A Pending JPH01279437A (ja) | 1988-05-02 | 1988-05-02 | 光ディスク製造用原盤、その製造方法、および光ディスク用成形体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01279437A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5347510A (en) * | 1992-01-21 | 1994-09-13 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing a master plate where its guide groove has an inclined angle |
| WO1998048417A1 (en) * | 1997-04-24 | 1998-10-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical recording medium and its substrate |
| WO2005006313A3 (en) * | 2003-07-10 | 2005-05-19 | Tdk Corp | Optical recording medium, process for the production thereof, master stamper for optical recording medium and process for the production thereof |
-
1988
- 1988-05-02 JP JP63107654A patent/JPH01279437A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5347510A (en) * | 1992-01-21 | 1994-09-13 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing a master plate where its guide groove has an inclined angle |
| WO1998048417A1 (en) * | 1997-04-24 | 1998-10-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical recording medium and its substrate |
| WO2005006313A3 (en) * | 2003-07-10 | 2005-05-19 | Tdk Corp | Optical recording medium, process for the production thereof, master stamper for optical recording medium and process for the production thereof |
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