JPH01281452A - フォトマスク - Google Patents
フォトマスクInfo
- Publication number
- JPH01281452A JPH01281452A JP63111036A JP11103688A JPH01281452A JP H01281452 A JPH01281452 A JP H01281452A JP 63111036 A JP63111036 A JP 63111036A JP 11103688 A JP11103688 A JP 11103688A JP H01281452 A JPH01281452 A JP H01281452A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- adhesive layer
- photomask
- pellicle frame
- change
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 5
- 230000035699 permeability Effects 0.000 abstract description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 208000018999 crinkle Diseases 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野〕
本発明は、ペリクルが装着されたフォトマスクに関する
。
。
第2図は、ペリクルが′A着された従来のフォトマスク
の断面を示す概略図である。
の断面を示す概略図である。
ペリクル(22)は、まず、ペリクル枠(23)に接着
され、更に、このペリクル枠(23)が、フォトマスク
(21)に、接着層(24)を介して接着固定される。
され、更に、このペリクル枠(23)が、フォトマスク
(21)に、接着層(24)を介して接着固定される。
この時、フォトマスク(21)、ペリクル(22)、ペ
リクル枠(23)、及び、接着層(2=1 )で囲まれ
る密閉部分(25)が作られる。
リクル枠(23)、及び、接着層(2=1 )で囲まれ
る密閉部分(25)が作られる。
しかし、前述の従来技術では、以下なる課題を有する。
フォトマスク、ペリクル、ペリクル枠、叉び、接cRj
Jで囲まれる密閉部分が存在し、更に、ペリクルが薄膜
であることから、第2図に示すように、大気圧変化によ
って、ペリクル面か上下動してしまう、また、航空便に
よるマスク輸送や、台風の通過等、急激な大気圧変動で
は、このペリクル面の外形変化に件なって、マスク搬送
トラブルや、光T−特性の変化が生じる。
Jで囲まれる密閉部分が存在し、更に、ペリクルが薄膜
であることから、第2図に示すように、大気圧変化によ
って、ペリクル面か上下動してしまう、また、航空便に
よるマスク輸送や、台風の通過等、急激な大気圧変動で
は、このペリクル面の外形変化に件なって、マスク搬送
トラブルや、光T−特性の変化が生じる。
そこで1本発明は、このような課題を解決するもので、
その目的とするところは、ペリクル面の外形変化に「1
−なう、マスク搬送トラブルや、光学特注の変化を防止
するところにある。
その目的とするところは、ペリクル面の外形変化に「1
−なう、マスク搬送トラブルや、光学特注の変化を防止
するところにある。
ペリクルが、ペリクル枠によって装着されたフォトマス
クにおいて、前記ペリクル枠と、フォトマスクの間の接
C層を、部分的に除去することを特徴とする。
クにおいて、前記ペリクル枠と、フォトマスクの間の接
C層を、部分的に除去することを特徴とする。
第1図は、本発明の実施例におけるペリクルが装着され
たフォ1〜マスクの断面を示す概略図である。
たフォ1〜マスクの断面を示す概略図である。
従来技術と同様に、ペリクル(12)は、まず、ペリク
ル枠(13)に接着され、更に、このペリクル枠(13
)が、接着層(14)を介して、フォトマスク(11)
へ接着固定される。そして、njj記接!ri層の一箇
所(16)が除去されている。
ル枠(13)に接着され、更に、このペリクル枠(13
)が、接着層(14)を介して、フォトマスク(11)
へ接着固定される。そして、njj記接!ri層の一箇
所(16)が除去されている。
木・発明の実施例によれば、前記接着層の一箇所(16
)が除去されているなめに、フォトマスク(11)、ペ
リクル(12)、ペリクル枠(13)、及び、接着層(
14)で囲まれる密閉部分(15)に通気性がもたされ
、大気圧変化によるペリクル面のL下動がなくなり、こ
のへりクル面の外形変化にイ1′なうマスク搬送l・ラ
ブルや、光学特性の変化を防止することができる。
)が除去されているなめに、フォトマスク(11)、ペ
リクル(12)、ペリクル枠(13)、及び、接着層(
14)で囲まれる密閉部分(15)に通気性がもたされ
、大気圧変化によるペリクル面のL下動がなくなり、こ
のへりクル面の外形変化にイ1′なうマスク搬送l・ラ
ブルや、光学特性の変化を防止することができる。
以上、本実施例では、接着層の一箇所を除去した場合に
ついて述べたが、この位、接着層を複数箇所にわたり除
去する場合なども、同様な効果が得られ、更に、本発明
の要旨を逸しない範囲で、種々応用が可能であることは
言うまでもない。
ついて述べたが、この位、接着層を複数箇所にわたり除
去する場合なども、同様な効果が得られ、更に、本発明
の要旨を逸しない範囲で、種々応用が可能であることは
言うまでもない。
以上述べたように、本発明によれば、ペリクルが、ペリ
クル枠によって装着されたフォ1〜マスクにおいて、前
記ペリクル枠と、フォトマスクのHj5の接着層を、部
分的に除去することにより、フォトマスク、ペリクル、
ペリクル枠、及び、m HIJで囲まれる密閉部分に通
気性をもたせ、大気LL変化によるペリクル面の上下動
作をなくし、このへりクル面の外形変化に伴なう、マス
ク搬送l・ラブルや、光字特性の変化を防止するという
効果を存するものである。
クル枠によって装着されたフォ1〜マスクにおいて、前
記ペリクル枠と、フォトマスクのHj5の接着層を、部
分的に除去することにより、フォトマスク、ペリクル、
ペリクル枠、及び、m HIJで囲まれる密閉部分に通
気性をもたせ、大気LL変化によるペリクル面の上下動
作をなくし、このへりクル面の外形変化に伴なう、マス
ク搬送l・ラブルや、光字特性の変化を防止するという
効果を存するものである。
第1図は、本発明の一実施例における、ペリクルが装着
されたフォトマスクの断面を示すvA略図である。 第2図は、従来における、ペリクルが装着されたフォ1
〜マスクの断面を示す概略図である。 11・・・フす;〜マスク 12・・・ペリクル 13・・・ペリクル枠 111・・・接着層 15・・・密閉部 16・・・除去された接着層部 21・・・フォトマスク 22・・・ペリクル 23・・・ペリクル枠 24・・・接着層 25・・・密閉部 以上 ′i12(2)
されたフォトマスクの断面を示すvA略図である。 第2図は、従来における、ペリクルが装着されたフォ1
〜マスクの断面を示す概略図である。 11・・・フす;〜マスク 12・・・ペリクル 13・・・ペリクル枠 111・・・接着層 15・・・密閉部 16・・・除去された接着層部 21・・・フォトマスク 22・・・ペリクル 23・・・ペリクル枠 24・・・接着層 25・・・密閉部 以上 ′i12(2)
Claims (1)
- ぺリクルが、ペリクル枠によって装着されたフォトマ
スクにおいて、前記ペリクル枠と、フォトマスクの間の
接着層を部分的に除去したことを特徴とするフォトマス
ク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63111036A JPH01281452A (ja) | 1988-05-07 | 1988-05-07 | フォトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63111036A JPH01281452A (ja) | 1988-05-07 | 1988-05-07 | フォトマスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01281452A true JPH01281452A (ja) | 1989-11-13 |
Family
ID=14550776
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63111036A Pending JPH01281452A (ja) | 1988-05-07 | 1988-05-07 | フォトマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01281452A (ja) |
-
1988
- 1988-05-07 JP JP63111036A patent/JPH01281452A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4737387A (en) | Removable pellicle and method | |
| US6103427A (en) | Pressure relieving pellicle | |
| US7528936B2 (en) | Substrate container with pressure equalization | |
| JP2001133960A (ja) | リソグラフィー用ペリクル及びペリクルの使用方法 | |
| JP7357432B2 (ja) | Euv用ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版、露光方法、及び半導体の製造方法 | |
| DE69528067D1 (de) | Filmschutzmaske | |
| KR20040103384A (ko) | 마스크용 펠리클 | |
| US6813005B2 (en) | Storage containers for lithography mask and method of use | |
| JPH01281452A (ja) | フォトマスク | |
| JPH04196117A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPH03132663A (ja) | ペリクル | |
| JPS6339703Y2 (ja) | ||
| KR100571397B1 (ko) | 포토 마스크용 펠리클 | |
| JPH0627643A (ja) | フォトマスクおよび半導体装置の製造方法 | |
| JPH01105255A (ja) | ガラスマスク | |
| KR20100076691A (ko) | 펠리클이 구비된 포토마스크 | |
| JPH02244046A (ja) | フォトマスク及び半導体装置の製造方法 | |
| JPH01154062A (ja) | ペリクル枠 | |
| JPH04190355A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JPS5569124A (en) | Production of liquid crystal display device | |
| JPH06273921A (ja) | マスク保護用ペリクル | |
| CN201166780Y (zh) | 掩膜保护装置 | |
| JPH01154061A (ja) | ペリクル枠 | |
| JPS6131331Y2 (ja) | ||
| JPH06295056A (ja) | マスク保護用ペリクル |