JPH01283A - シャドウマスクの製造方法 - Google Patents
シャドウマスクの製造方法Info
- Publication number
- JPH01283A JPH01283A JP63-117025A JP11702588A JPH01283A JP H01283 A JPH01283 A JP H01283A JP 11702588 A JP11702588 A JP 11702588A JP H01283 A JPH01283 A JP H01283A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shadow mask
- electron beam
- ferric chloride
- chloride solution
- beam passage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はシャドウマスクの製造方法に係り、特に鉄及び
ニッケルを主成分とする例えばアンバーからなるシャド
ウマスク素材に塩化第２鉄溶液をスプレィ法により吹き
つけ微細精密な電子ビーム通過孔部を穿設するシャドウ
マスクの製造方法に関するものである。
ニッケルを主成分とする例えばアンバーからなるシャド
ウマスク素材に塩化第２鉄溶液をスプレィ法により吹き
つけ微細精密な電子ビーム通過孔部を穿設するシャドウ
マスクの製造方法に関するものである。
例えばカラー受像管に内装するシャドウマスクとしては
一般に純鉄軟鋼板が多く使用されているが、高精密、高
精細度の画面が要求されるデイスプレィ用のカラー受像
管に内装するシャドウマスクはこの画面に対応するよう
に電子ビーム通過孔部の孔径及びピッチも極めて微細な
ものが使用される。−例としてデルタ型に円形電子ビー
ム通過孔部の穿設されたシャドウマスクではピッチ０．
２０■、電子銃側の孔径は直径０．ｌＯ−程度となって
いる。
一般に純鉄軟鋼板が多く使用されているが、高精密、高
精細度の画面が要求されるデイスプレィ用のカラー受像
管に内装するシャドウマスクはこの画面に対応するよう
に電子ビーム通過孔部の孔径及びピッチも極めて微細な
ものが使用される。−例としてデルタ型に円形電子ビー
ム通過孔部の穿設されたシャドウマスクではピッチ０．
２０■、電子銃側の孔径は直径０．ｌＯ−程度となって
いる。
シャドウマスクを内装するカラー受像管の最も重要な特
性は電子銃より発射された電子ビームをシャドウマスク
の電子ビーム通過孔部を通過して忠実に蛍光面を形成す
る所定の蛍光体層に射突させることである。しかしなが
ら、稼動中のシャドウマスクは時間の経過と共に電子ビ
ームの射突による温度上昇を伴い、熱膨張を起し、その
結果。
性は電子銃より発射された電子ビームをシャドウマスク
の電子ビーム通過孔部を通過して忠実に蛍光面を形成す
る所定の蛍光体層に射突させることである。しかしなが
ら、稼動中のシャドウマスクは時間の経過と共に電子ビ
ームの射突による温度上昇を伴い、熱膨張を起し、その
結果。
電子ビームの軌跡と蛍光体層との位置が合致しなくなり
、所謂ミスランディングを生じて色ずれ現象を起すこと
になる。
、所謂ミスランディングを生じて色ずれ現象を起すこと
になる。
このことはカラー受像管としての致命的欠陥となるため
、解決方法として線膨張係数の極めて小さないわゆるア
ンバー材を使用してシャドウマスクを作ることも提案さ
れている。このアンバー材はニッケル鋼の一種であり、
標準組成はＣ＜０．２％、Ｍｎ０．５％、Ｎｉ３６％、
残りがＦｅからなり、線膨張係数が０〜４０℃間で約Ｉ
Ｘ １０−” ／ｄｅｇと小さいことが特徴である。
、解決方法として線膨張係数の極めて小さないわゆるア
ンバー材を使用してシャドウマスクを作ることも提案さ
れている。このアンバー材はニッケル鋼の一種であり、
標準組成はＣ＜０．２％、Ｍｎ０．５％、Ｎｉ３６％、
残りがＦｅからなり、線膨張係数が０〜４０℃間で約Ｉ
Ｘ １０−” ／ｄｅｇと小さいことが特徴である。
この線膨張係数の値は従来のシャドウマスク素材の純鉄
軟鋼材の約１／１０で、この特性は普通の熱膨張と磁気
的体積収縮との重ね合わせにより現れるものと考えられ
ている。
軟鋼材の約１／１０で、この特性は普通の熱膨張と磁気
的体積収縮との重ね合わせにより現れるものと考えられ
ている。
〔背景技術の問題点〕
しかるにアンバー材などの鉄及びニッケルを主成分とす
る合金材は通常塩化第２鉄溶液をエツチング液として、
スプレィ法により電子ビーム通過孔部を穿設するが、こ
の場合、塩化第２鉄溶液中の遊離塩酸量をある範囲より
多くすると非エツチング部に被着されている感光膜レジ
ストの耐蝕性がもたず不所望部までエツチングされるし
、また少なくすると水酸化ニッケル及び水酸化鉄が生成
され、これがエツチング部に沈着するため第１図に示す
ように電子ビーム通過孔部ωの周縁にぎざぎざ■が発生
し、微細な寸法ばらつきを生じ寸法管理が困難となり、
またユニフオミティも劣り、むらのある画面しか得られ
ない問題点がある。
る合金材は通常塩化第２鉄溶液をエツチング液として、
スプレィ法により電子ビーム通過孔部を穿設するが、こ
の場合、塩化第２鉄溶液中の遊離塩酸量をある範囲より
多くすると非エツチング部に被着されている感光膜レジ
ストの耐蝕性がもたず不所望部までエツチングされるし
、また少なくすると水酸化ニッケル及び水酸化鉄が生成
され、これがエツチング部に沈着するため第１図に示す
ように電子ビーム通過孔部ωの周縁にぎざぎざ■が発生
し、微細な寸法ばらつきを生じ寸法管理が困難となり、
またユニフオミティも劣り、むらのある画面しか得られ
ない問題点がある。
また塩化第２鉄溶液中のエツチングに寄与しないＦｅ”
十及びＮｉ＋十がある範囲以上になるとエツチング界面
でのエツチングイオン（Ｆ ｅ＋＋＋）の交換速度がば
らつきエツチング速度の制御が困難となると同時に電子
ビーム通過孔部が同じく第１図に示すような形状になる
ため、遊離塩酸量の場合と同様に微細な寸法管理が困難
となる問題点がある。
十及びＮｉ＋十がある範囲以上になるとエツチング界面
でのエツチングイオン（Ｆ ｅ＋＋＋）の交換速度がば
らつきエツチング速度の制御が困難となると同時に電子
ビーム通過孔部が同じく第１図に示すような形状になる
ため、遊離塩酸量の場合と同様に微細な寸法管理が困難
となる問題点がある。
また塩化第２鉄溶液の温度もある温度以下では生産性が
悪くなるため設備が大きくなるし、ある温度以上では感
光膜レジストの膨潤により耐蝕性が劣化し、不所望部ま
でエツチングされる問題点がある。
悪くなるため設備が大きくなるし、ある温度以上では感
光膜レジストの膨潤により耐蝕性が劣化し、不所望部ま
でエツチングされる問題点がある。
また温度と液比重との間には相関性があるが。
液比重が低すぎた場合液粘度が低下し、エツチングイオ
ンの拡散速度が一律である鉄−ニッケル合金のエツチン
グではエツチング速度が非常に速くなる。この結果様々
な結晶面を有する多結晶の鉄−ニッケル合金は溶解され
易い面が優先的にエツチングされ、電子ビーム通過孔部
が第１図に示すような形状になり、遊離塩酸量の場合と
同様に微細な寸法管理が困難な問題点がある。逆に液比
重が高すぎた場合、液粘度が上り過ぎエツチングイオン
の移動が抑制されるためエツチング速度が低下し過ぎ量
産に適さない問題点がある。この結果量産面とマスク品
質との両面からある温度と比重の範囲を決める必要があ
る。
ンの拡散速度が一律である鉄−ニッケル合金のエツチン
グではエツチング速度が非常に速くなる。この結果様々
な結晶面を有する多結晶の鉄−ニッケル合金は溶解され
易い面が優先的にエツチングされ、電子ビーム通過孔部
が第１図に示すような形状になり、遊離塩酸量の場合と
同様に微細な寸法管理が困難な問題点がある。逆に液比
重が高すぎた場合、液粘度が上り過ぎエツチングイオン
の移動が抑制されるためエツチング速度が低下し過ぎ量
産に適さない問題点がある。この結果量産面とマスク品
質との両面からある温度と比重の範囲を決める必要があ
る。
本発明は前述した諸問題に鑑みなされたものであり、ア
ンバー材などの鉄及びニッケルを生成物とする合金材か
らなるシャドウマスク素材に塩化第２鉄溶液をスプレィ
法により吹きつけシャドウマスクを製造する場合、塩化
第２鉄溶液の諸特性を限定することにより極めて品質の
よいシャドウマスクを得ることが可能なシャドウマスク
の製造方法を提供することを目的としている。
ンバー材などの鉄及びニッケルを生成物とする合金材か
らなるシャドウマスク素材に塩化第２鉄溶液をスプレィ
法により吹きつけシャドウマスクを製造する場合、塩化
第２鉄溶液の諸特性を限定することにより極めて品質の
よいシャドウマスクを得ることが可能なシャドウマスク
の製造方法を提供することを目的としている。
即ち、本発明は鉄及びニッケルを主成分とする合金材か
らなるシャドウマスク素材に塩化第２鉄溶液をスプレィ
法により吹きつけ微細精密な電子ビーム通過孔部を穿設
するシャドウマスクの製造方法において、塩化第２鉄溶
液が、遊離塩酸量０．３０±０．２０％、（Ｆｅ＋＋、
Ｎ１＋＋３合わせて１５％以下、液温４０〜７０℃の
範囲で比重が、１．４６１−４．６３Ｘ １０−’ Ｘ
Ｔ−１．９６Ｘ １０−’ Ｘ Ｔ”と１．５５２＋
７．７９ＸｌＯ−Ｘ Ｔ−１．１８Ｘ １０−’ Ｘ
Ｔ”の式に囲まれた（Ｔは液温）範囲にあるように制御
されていることを特徴としている。
らなるシャドウマスク素材に塩化第２鉄溶液をスプレィ
法により吹きつけ微細精密な電子ビーム通過孔部を穿設
するシャドウマスクの製造方法において、塩化第２鉄溶
液が、遊離塩酸量０．３０±０．２０％、（Ｆｅ＋＋、
Ｎ１＋＋３合わせて１５％以下、液温４０〜７０℃の
範囲で比重が、１．４６１−４．６３Ｘ １０−’ Ｘ
Ｔ−１．９６Ｘ １０−’ Ｘ Ｔ”と１．５５２＋
７．７９ＸｌＯ−Ｘ Ｔ−１．１８Ｘ １０−’ Ｘ
Ｔ”の式に囲まれた（Ｔは液温）範囲にあるように制御
されていることを特徴としている。
次に本発明の一実施例を説明する。
先ず本発明者らは種々の塩化第２鉄溶液を使用し、実際
にアンバー材からなるシャドウマスク素材に電子ビーム
通過孔部を穿設し、この電子ビ−ム通過孔部の形状、感
光膜レジストの状態などを検査する方法を用いて塩化第
２鉄溶液の温度と遊離塩酸量の関係における安全域を調
査し第２図の安全域（１１）、即ち４０℃〜７０℃まで
遊離塩酸量は０．１０％〜０．５０％が安全域（１１）
となる。これは０．３０±０．１０％が最適であること
を示している。この安全域（１１）に遊離塩酸量をおさ
えることにより、感光膜レジストは浸蝕されないし、ま
た電子ビーム通過孔部の形状も完全円形となり、寸法の
ばらつきも少なく、結果としてユニフォミティもよく。
にアンバー材からなるシャドウマスク素材に電子ビーム
通過孔部を穿設し、この電子ビ−ム通過孔部の形状、感
光膜レジストの状態などを検査する方法を用いて塩化第
２鉄溶液の温度と遊離塩酸量の関係における安全域を調
査し第２図の安全域（１１）、即ち４０℃〜７０℃まで
遊離塩酸量は０．１０％〜０．５０％が安全域（１１）
となる。これは０．３０±０．１０％が最適であること
を示している。この安全域（１１）に遊離塩酸量をおさ
えることにより、感光膜レジストは浸蝕されないし、ま
た電子ビーム通過孔部の形状も完全円形となり、寸法の
ばらつきも少なく、結果としてユニフォミティもよく。
画面のむらもなくなる。
次に同様な検査方法を用いて塩化第２鉄溶液の温度とＦ
、＋ ＋とＮｉ中十の関係を調査した結果第３図の安全
域（１２）即ち全温度でＦ−十とＮｉ”十を合わせて１
５％以下とすることにより最適結果が得られた。
、＋ ＋とＮｉ中十の関係を調査した結果第３図の安全
域（１２）即ち全温度でＦ−十とＮｉ”十を合わせて１
５％以下とすることにより最適結果が得られた。
そしてこの安全域（１２）にＦ−◆をおさえることによ
りエツチング速度の制御ができると共に電子ビーム通過
孔部の形状も完全円形とすることが可能となる。
りエツチング速度の制御ができると共に電子ビーム通過
孔部の形状も完全円形とすることが可能となる。
次に同様な検査方法を用いて塩化第２鉄溶液の温度と比
重の関係を調査した結果第４図の安全域（１３）即ち液
温４０℃〜７０℃の間で１．４６１−４．６３ Ｘ １
０−’Ｘ Ｔ−１．９６Ｘ １０−” Ｘ Ｔ”と１．
５５２＋７．７９Ｘ１０−５×Ｔ−１．１８Ｘ １０−
” Ｘ Ｔ’ の式に囲まれた（Ｔは液温）範囲にする
ことにより感光膜の耐蝕性が劣化することもなく、設備
を増加することがない。更に電子ビーム通過孔部が完全
円形となることは勿論のこと寸法管理も極めて容易にで
きる。
重の関係を調査した結果第４図の安全域（１３）即ち液
温４０℃〜７０℃の間で１．４６１−４．６３ Ｘ １
０−’Ｘ Ｔ−１．９６Ｘ １０−” Ｘ Ｔ”と１．
５５２＋７．７９Ｘ１０−５×Ｔ−１．１８Ｘ １０−
” Ｘ Ｔ’ の式に囲まれた（Ｔは液温）範囲にする
ことにより感光膜の耐蝕性が劣化することもなく、設備
を増加することがない。更に電子ビーム通過孔部が完全
円形となることは勿論のこと寸法管理も極めて容易にで
きる。
前述のようにアンバーなど、鉄及びニッケルを主成分と
する合金材からなるシャドウマスク素材に塩化第２鉄溶
液をスプレィ法により吹きつけ電子ビーム通過孔部を穿
設する時、塩化第２鉄溶液中の遊離塩酸量、Ｆｅ＋＋、
Ｎｉ”、温度、比重、を制御することにより微細、精密
な電子ビーム通過孔部を穿設することが可能となるので
その工業的価値は極めて大である。
する合金材からなるシャドウマスク素材に塩化第２鉄溶
液をスプレィ法により吹きつけ電子ビーム通過孔部を穿
設する時、塩化第２鉄溶液中の遊離塩酸量、Ｆｅ＋＋、
Ｎｉ”、温度、比重、を制御することにより微細、精密
な電子ビーム通過孔部を穿設することが可能となるので
その工業的価値は極めて大である。
第１図は周縁にぎざぎざのある電子ビーム通過孔部を示
す説明図、第２図は塩化第２鉄溶液の温度と遊離塩酸量
との安全域を示すグラフ、第３図は塩化第２鉄溶液の温
度とＦｅ”＋Ｎｉ”十量との安全域を示すグラフ、第４
図は塩化第２鉄溶液の温度と比重との安全域を示すグラ
フである。 １・・・電子ビーム通過孔部 １１、１２．１３・・・安全域 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 第１図
す説明図、第２図は塩化第２鉄溶液の温度と遊離塩酸量
との安全域を示すグラフ、第３図は塩化第２鉄溶液の温
度とＦｅ”＋Ｎｉ”十量との安全域を示すグラフ、第４
図は塩化第２鉄溶液の温度と比重との安全域を示すグラ
フである。 １・・・電子ビーム通過孔部 １１、１２．１３・・・安全域 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 第１図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 鉄及びニッケルを主成分とする合金材からなるシャドウ
マスク素材に塩化第２鉄溶液をスプレィ法により吹きつ
け微細精密な電子ビーム通過孔部を穿設するシャドウマ
スクの製造方法において、前記塩化第２鉄溶液が遊離塩
酸量０．３０±０．２０％、〔Ｆｅ＾＋＾＋、Ｎｉ＾＋
＾＋〕合わせて１５％以下、液温４０℃〜７０℃の範囲
で比重が１．４６１−４．６３×１０＾−＾４×Ｔ−１
．９６×１０＾−＾６×Ｔ＾２と１．５５２＋７．７９
×１０＾−＾５Ｔ−１．１８×１０＾−＾５×Ｔ＾２（
但しＴは液温）の式に囲まれた範囲にあるように制御さ
れていることを特徴とするシャドウマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11702588A JPS64283A (en) | 1988-05-16 | 1988-05-16 | Production of shadow mask |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11702588A JPS64283A (en) | 1988-05-16 | 1988-05-16 | Production of shadow mask |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01283A true JPH01283A (ja) | 1989-01-05 |
| JPS64283A JPS64283A (en) | 1989-01-05 |
| JPH0366395B2 JPH0366395B2 (ja) | 1991-10-17 |
Family
ID=14701582
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11702588A Granted JPS64283A (en) | 1988-05-16 | 1988-05-16 | Production of shadow mask |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS64283A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018178142A (ja) * | 2017-04-04 | 2018-11-15 | 株式会社Adeka | エッチング液組成物及びエッチング方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4838054A (ja) * | 1971-09-16 | 1973-06-05 | ||
| US4061529A (en) * | 1977-02-28 | 1977-12-06 | Rca Corporation | Method for making etch-resistant stencil with dichromate-sensitized casein coating |
| JPS54158342A (en) * | 1978-06-05 | 1979-12-14 | Sumitomo Metal Mining Co | Etching iron alloy |
-
1988
- 1988-05-16 JP JP11702588A patent/JPS64283A/ja active Granted
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