JPS5932859B2 - シャドウマスク及びその製造方法 - Google Patents
シャドウマスク及びその製造方法Info
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- JPS5932859B2 JPS5932859B2 JP57147740A JP14774082A JPS5932859B2 JP S5932859 B2 JPS5932859 B2 JP S5932859B2 JP 57147740 A JP57147740 A JP 57147740A JP 14774082 A JP14774082 A JP 14774082A JP S5932859 B2 JPS5932859 B2 JP S5932859B2
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- Japan
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- shadow mask
- electron beam
- beam passage
- manufacturing
- etching
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
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- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/07—Shadow masks
- H01J2229/0727—Aperture plate
- H01J2229/0733—Aperture plate characterised by the material
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- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/07—Shadow masks
- H01J2229/0727—Aperture plate
- H01J2229/0777—Coatings
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Heat Treatment Of Sheet Steel (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はテレビ用のシヤドウマスクおよびその製造方法
に関する。
に関する。
従来からカラーテレビ受像管として広く使用されている
受像管としてシヤドウマスク管がある。
受像管としてシヤドウマスク管がある。
このシヤドウマスク管は第１図にその基本構造を斜視的
に示す如く多数の電子ビーム通過孔を持つたシヤドウマ
スク１とその個々の電子ビーム通過孔に対応して形成さ
れた三色螢光面２を有し、電子ビーム通過孔に入射する
電子銃３からの３本の電子ビームのそれぞれの入射角に
より色選択を行つている。なお、前記電子ビーム通過孔
の形状は、例えば第２図に断面的に示す如く散乱電子の
発生を避ける様な形状になつている。
に示す如く多数の電子ビーム通過孔を持つたシヤドウマ
スク１とその個々の電子ビーム通過孔に対応して形成さ
れた三色螢光面２を有し、電子ビーム通過孔に入射する
電子銃３からの３本の電子ビームのそれぞれの入射角に
より色選択を行つている。なお、前記電子ビーム通過孔
の形状は、例えば第２図に断面的に示す如く散乱電子の
発生を避ける様な形状になつている。
しかしながら現在電子ビーム通過孔の形成に用いられて
いるフォトエッチング法では第２図の如く精度よく、均
一に電子ビーム通過孔を設ける事は困難であり、ドーミ
ング現象と呼ばれる色純度の低下を生じ易いという欠点
があつた。特に最近はテレビ画面の「きめの細かさ」に
対する一般的要求が高まり、送信方式が高品位テレビ方
式と呼ばれる方式に変更しつつある。これに対応して受
像管も更に性能を向上し、ドーミング現象がなく明哲で
きめの細かい画像を再現する事が望まれている。その為
電子ビーム通過孔を高密度高精度化じ、ピツチを小さく
したシヤドウマスクの開発がせまられている。またドー
ミング現象を生じる原因として、電子銃から発生する電
子ビームの８０〜８５％がシヤドウマスクに射突する事
による温度上昇に起因してシヤドウマスクが熱膨張し、
電子ビーム通過孔と螢光体モザイクとの電子ビーム軌通
上の相対位置関係が変化してドーミング現象を生じると
いう欠事もあつた。
いるフォトエッチング法では第２図の如く精度よく、均
一に電子ビーム通過孔を設ける事は困難であり、ドーミ
ング現象と呼ばれる色純度の低下を生じ易いという欠点
があつた。特に最近はテレビ画面の「きめの細かさ」に
対する一般的要求が高まり、送信方式が高品位テレビ方
式と呼ばれる方式に変更しつつある。これに対応して受
像管も更に性能を向上し、ドーミング現象がなく明哲で
きめの細かい画像を再現する事が望まれている。その為
電子ビーム通過孔を高密度高精度化じ、ピツチを小さく
したシヤドウマスクの開発がせまられている。またドー
ミング現象を生じる原因として、電子銃から発生する電
子ビームの８０〜８５％がシヤドウマスクに射突する事
による温度上昇に起因してシヤドウマスクが熱膨張し、
電子ビーム通過孔と螢光体モザイクとの電子ビーム軌通
上の相対位置関係が変化してドーミング現象を生じると
いう欠事もあつた。
本発明は以上の点に鑑み、シヤドウマスクの電子ビーム
通過孔を高密度で、かつ高精度に設けドーミング現象を
生じる事のない受像管を得る事のできるシヤドウマスク
およびその製造方法を提供する事を目的とするものであ
り、さらにシヤドウマスク材を選定する事により電子ビ
ームの射突による熱膨張を抑制し、高性能のものを得る
事ができるというものである。
通過孔を高密度で、かつ高精度に設けドーミング現象を
生じる事のない受像管を得る事のできるシヤドウマスク
およびその製造方法を提供する事を目的とするものであ
り、さらにシヤドウマスク材を選定する事により電子ビ
ームの射突による熱膨張を抑制し、高性能のものを得る
事ができるというものである。
本発明は少なくともシヤドウマスクの螢光面に対向する
面に｛１００｝結晶面が３５％以上集合しているシヤド
ウマスクおよびエツチングにより電子ビーム通過孔を形
成するシヤドウマスクの製造方法において、シヤドウマ
スク材を鍛造後、圧延面に｛１００｝結晶面が集合する
如く熱間圧延を施す工程と、圧延率が５０％／１回を超
えなｋ）冷間圧延および熱処理を施しシヤドウマスク原
板を得る工程と、前記シヤドウマスク原板の｛１００｝
結晶面側にエツチングを施し電子ビーム通過孔を形成す
る工程を具備したシヤドウマスクの製造方法である。
面に｛１００｝結晶面が３５％以上集合しているシヤド
ウマスクおよびエツチングにより電子ビーム通過孔を形
成するシヤドウマスクの製造方法において、シヤドウマ
スク材を鍛造後、圧延面に｛１００｝結晶面が集合する
如く熱間圧延を施す工程と、圧延率が５０％／１回を超
えなｋ）冷間圧延および熱処理を施しシヤドウマスク原
板を得る工程と、前記シヤドウマスク原板の｛１００｝
結晶面側にエツチングを施し電子ビーム通過孔を形成す
る工程を具備したシヤドウマスクの製造方法である。
つまり本発明はシヤドウマスクにフオトエツチングによ
り電子ビーム通過孔を形成する際に、特に面心立法格子
構造、体心立方格子構造からなる合金のシヤドウマスク
にエツチングを施すことにより高密度でかつ、高精度な
電子ビーム通過孔が得られるというものである。
り電子ビーム通過孔を形成する際に、特に面心立法格子
構造、体心立方格子構造からなる合金のシヤドウマスク
にエツチングを施すことにより高密度でかつ、高精度な
電子ビーム通過孔が得られるというものである。
さらに詳述すればシヤドウマスクの電子ビーム通過孔を
フオトエツチングにより形成する際に、その犬きさ、形
状を全面にわたつて微細でかつ均一に設ける為には、エ
ツチング速度がシヤドウマスク全面において一定にする
必要があり、これはエツチング面の結晶面を規定する事
により達成される点に着目したものである。つまりエツ
チング面において、結晶粒が不揃いになり｛１００｝結
晶面の方向が異なつていると、エツチングされ易い結晶
粒と、されにくい結晶粒との部位でエツチング速度が異
なり、微細な電子ビーム通過孔を高密度、高精度で得る
ことが困難となる。そこで本発明に係るシヤドウマスク
は螢光面に対向する面、つまりエツチング処理を施す面
に｛１００｝結晶面が３５％以上集合したものである。
フオトエツチングにより形成する際に、その犬きさ、形
状を全面にわたつて微細でかつ均一に設ける為には、エ
ツチング速度がシヤドウマスク全面において一定にする
必要があり、これはエツチング面の結晶面を規定する事
により達成される点に着目したものである。つまりエツ
チング面において、結晶粒が不揃いになり｛１００｝結
晶面の方向が異なつていると、エツチングされ易い結晶
粒と、されにくい結晶粒との部位でエツチング速度が異
なり、微細な電子ビーム通過孔を高密度、高精度で得る
ことが困難となる。そこで本発明に係るシヤドウマスク
は螢光面に対向する面、つまりエツチング処理を施す面
に｛１００｝結晶面が３５％以上集合したものである。
なお｛１００｝結晶面を３５％以上集合させる事により
高精度でかつ高密度に電子ビーム通過孔が制御されたシ
ヤドウマスクを得る事ができるが、より好ましくは｛１
００｝結晶面を４０％以上集合させる事が望ましい。こ
こで螢光面に対向する面（以後「マスク面」と呼称）に
｛１００｝結晶面が集合している度合とは、次の様に定
義される。
高精度でかつ高密度に電子ビーム通過孔が制御されたシ
ヤドウマスクを得る事ができるが、より好ましくは｛１
００｝結晶面を４０％以上集合させる事が望ましい。こ
こで螢光面に対向する面（以後「マスク面」と呼称）に
｛１００｝結晶面が集合している度合とは、次の様に定
義される。
即ち、多結晶の個々の粒の｛１００｝結晶軸方向の、マ
スク面に垂直方向への成分を、全ての結晶性について集
計した割合で次の量で定義される。″ ここでＶφは粒の体積比でφはマスク面垂直方向と｛１
００｝結晶軸とのなす角である。
スク面に垂直方向への成分を、全ての結晶性について集
計した割合で次の量で定義される。″ ここでＶφは粒の体積比でφはマスク面垂直方向と｛１
００｝結晶軸とのなす角である。
また本発明に係る製造方法は上記の如くエツチング面を
｛１００｝結晶面に揃える製造方法である。
｛１００｝結晶面に揃える製造方法である。
まずシヤドウマスク材を鍛造した後、主たる肉厚減少工
程とする事が望ましい熱間圧延を施す工程において、圧
延面に｛１００｝結晶面を集合させる。次に１回圧延率
５０％以下の冷間加工および熱処理を必要に応じ複数回
繰り返し、シヤドウマスク原板を形成する。なお冷間加
工を圧延率５０％以下／１回で行うのは、強加工を施し
た際、圧延面の結晶方向が｛１００｝面からづれるのを
防止する為である。また上記の冷間圧延時の圧延率は実
用上１０％〜３０％とする事が好ましい。なお本発明に
おいて用いるシヤドウマスク材としては前述の如く、結
晶面を揃える上から面心立方格子構造、体心立方格子構
造を用いる事が好ましく、実用上インバ型合金を用いる
。このインバ型合金とは電子ビームの射突による温度上
昇にかかわらず殆んど膨張しないもので、熱膨張係数が
零に近いものであればよく、具体的にはインバ合金（３
６−ＳＮｐ−６３．５Ｆｅ）、超不変鋼（３２Ｎｉ−５
Ｃ０−６３Ｆｅ）、ステンレス不変鋼（５４Ｃ０−９．
３Ｃｒ−３６．５Ｆｅ）、４３Ｐｄ一５７Ｆｅ合金等を
用いる事が出来る。また本発明において上記冷問圧延後
に施す熱処理は、歪取焼鈍を行い｛１００｝結晶面の安
定化を図る為のものである。
程とする事が望ましい熱間圧延を施す工程において、圧
延面に｛１００｝結晶面を集合させる。次に１回圧延率
５０％以下の冷間加工および熱処理を必要に応じ複数回
繰り返し、シヤドウマスク原板を形成する。なお冷間加
工を圧延率５０％以下／１回で行うのは、強加工を施し
た際、圧延面の結晶方向が｛１００｝面からづれるのを
防止する為である。また上記の冷間圧延時の圧延率は実
用上１０％〜３０％とする事が好ましい。なお本発明に
おいて用いるシヤドウマスク材としては前述の如く、結
晶面を揃える上から面心立方格子構造、体心立方格子構
造を用いる事が好ましく、実用上インバ型合金を用いる
。このインバ型合金とは電子ビームの射突による温度上
昇にかかわらず殆んど膨張しないもので、熱膨張係数が
零に近いものであればよく、具体的にはインバ合金（３
６−ＳＮｐ−６３．５Ｆｅ）、超不変鋼（３２Ｎｉ−５
Ｃ０−６３Ｆｅ）、ステンレス不変鋼（５４Ｃ０−９．
３Ｃｒ−３６．５Ｆｅ）、４３Ｐｄ一５７Ｆｅ合金等を
用いる事が出来る。また本発明において上記冷問圧延後
に施す熱処理は、歪取焼鈍を行い｛１００｝結晶面の安
定化を図る為のものである。
なお所定の冷間圧延および熱処理を施してシヤドウマス
ク原板を得る工程において、例えば圧延率５０％以下／
１回の冷間圧延を複数回施した後、最後に熱処理を施し
てもよいし、また各冷間圧延後に熱処理を施す操作を複
数回繰り返す事もできる。〔発明の実施例〕 実施例 １ ３６％Ｎｉ−Ｆｅなる成分のインバ合金を溶解し、その
鋳塊を連続熱間製線工程により、直径６關の線材とした
。
ク原板を得る工程において、例えば圧延率５０％以下／
１回の冷間圧延を複数回施した後、最後に熱処理を施し
てもよいし、また各冷間圧延後に熱処理を施す操作を複
数回繰り返す事もできる。〔発明の実施例〕 実施例 １ ３６％Ｎｉ−Ｆｅなる成分のインバ合金を溶解し、その
鋳塊を連続熱間製線工程により、直径６關の線材とした
。
この線材を長手方向に直角に鍛造し、厚さ１ｍｍ１巾１
００ｍｍの断面を有する板体とした。次に９００℃の熱
間圧延により０．５ｍｍ厚さとした後、圧延率３０％の
冷間圧延により０．３５７１ｔｍ厚、２８６ｍｍ巾の薄
板を得、これをロールに巻き取り、熱処理として真空中
で５５『Ｃ，２時間の歪焼鈍を施した。さらにこの薄板
を圧延率３０％の冷間圧延により０．２４５厚、４０８
巾の薄板とした後、同様に歪取焼鈍の熱処理を施した。
この様な冷間圧延および熱処理の操作を複数回繰り返し
、０．１７！Ｔ７！Ｌ厚、１０００ｍｍ巾のシヤドウマ
スク原板を得た。なお上記工程における熱間圧延後の表
面状態をＸ線回折を調べたところ、｛１００｝結晶面が
４０％集合しており、またその後の冷間圧延、熱処理後
においても安定した｛１００｝結晶面が維持されていた
。
００ｍｍの断面を有する板体とした。次に９００℃の熱
間圧延により０．５ｍｍ厚さとした後、圧延率３０％の
冷間圧延により０．３５７１ｔｍ厚、２８６ｍｍ巾の薄
板を得、これをロールに巻き取り、熱処理として真空中
で５５『Ｃ，２時間の歪焼鈍を施した。さらにこの薄板
を圧延率３０％の冷間圧延により０．２４５厚、４０８
巾の薄板とした後、同様に歪取焼鈍の熱処理を施した。
この様な冷間圧延および熱処理の操作を複数回繰り返し
、０．１７！Ｔ７！Ｌ厚、１０００ｍｍ巾のシヤドウマ
スク原板を得た。なお上記工程における熱間圧延後の表
面状態をＸ線回折を調べたところ、｛１００｝結晶面が
４０％集合しており、またその後の冷間圧延、熱処理後
においても安定した｛１００｝結晶面が維持されていた
。
次に上記の如き方法により得た｛１００｝結晶面が集合
した面を有するシヤドウマスク原板と、比較例として同
様の熱間圧延を行う後、圧延率８０％／１回の冷間圧延
及び熱処理を施したシヤドウマスクについて、電子ビー
ム通過孔を設ける事のエツチング処理を施した場合の比
較を行つた。
した面を有するシヤドウマスク原板と、比較例として同
様の熱間圧延を行う後、圧延率８０％／１回の冷間圧延
及び熱処理を施したシヤドウマスクについて、電子ビー
ム通過孔を設ける事のエツチング処理を施した場合の比
較を行つた。
例えば塩化第１鉄６％、塩酸０．１％の水溶液を用い、
６５℃塩化第１鉄６％、塩酸０．１％の水溶液を用い、
６５℃の温度でエツチングを施し、電子ビーム通過孔を
設けた。なお電子ビーム通過孔はシヤドウマスク原板の
両面に順次フオトエツチングを施し、第２図の如き形状
とした。
６５℃塩化第１鉄６％、塩酸０．１％の水溶液を用い、
６５℃の温度でエツチングを施し、電子ビーム通過孔を
設けた。なお電子ビーム通過孔はシヤドウマスク原板の
両面に順次フオトエツチングを施し、第２図の如き形状
とした。
電子ビーム通過孔のピンチは約０．３ｍｍとし、１４型
テレビ用シヤドウマスクとして約５２万個の電子ビーム
通過孔を形成した。この時のシヤドウマスク表面におけ
る電子ビーム通過孔を調べ、上記実施例−１によるもの
の部分拡大平面図を第３図に、上記比較例によるもの部
分拡大平面図を第４図に示す。なお図中の９は電子ビー
ム通過孔を示す。この結果から明らかな如く、本発明に
係るシヤドウマスクでは均一かつ高精度に電子ビーム通
過孔が形成されている事は明らかである。
テレビ用シヤドウマスクとして約５２万個の電子ビーム
通過孔を形成した。この時のシヤドウマスク表面におけ
る電子ビーム通過孔を調べ、上記実施例−１によるもの
の部分拡大平面図を第３図に、上記比較例によるもの部
分拡大平面図を第４図に示す。なお図中の９は電子ビー
ム通過孔を示す。この結果から明らかな如く、本発明に
係るシヤドウマスクでは均一かつ高精度に電子ビーム通
過孔が形成されている事は明らかである。
実施例 ２
上記実施例−１において冷間圧延時の１回の圧延率を２
０％とし、他は同様にして｛１００｝結晶面が４２％集
合したシヤドウマスクを製造した。
０％とし、他は同様にして｛１００｝結晶面が４２％集
合したシヤドウマスクを製造した。
この結果、実施例−１と同様の結果を得る事ができた。
実施例 ３ 上記実施例−１と同様の鍛造および熱間圧延を施し、０
．５ｍｍ厚さ、２００７ｎｍ巾の薄板を得た後、１回の
圧延率８％程度の冷間圧延を複数回繰り返すいわゆる２
０段ロール法を用い、０．１ｍｍ厚さ、１０００ｍ７！
Ｌ巾で｛１００｝結晶面が４３％集合したシヤドウマス
ク原板を得た。
実施例 ３ 上記実施例−１と同様の鍛造および熱間圧延を施し、０
．５ｍｍ厚さ、２００７ｎｍ巾の薄板を得た後、１回の
圧延率８％程度の冷間圧延を複数回繰り返すいわゆる２
０段ロール法を用い、０．１ｍｍ厚さ、１０００ｍ７！
Ｌ巾で｛１００｝結晶面が４３％集合したシヤドウマス
ク原板を得た。
次に５５０℃，２時間の歪取焼鈍の熱処理を施した後、
実施例−１と同様のフオトエツチングを施した。
実施例−１と同様のフオトエツチングを施した。
この結果、第３図と同様に高精度で均一な電子ビーム通
過孔を得る事ができた。〔発明の効果〕 以上の結果から明らかな如く、本発明の製造方法を用い
るにより、表面に｛１００｝結晶面が集合したシヤドウ
マスク原板を得る事ができ、このシヤドウマスク原板に
フオトエツチングにより電子ビーム通過孔を高密度、高
精度でかつ均一に設ける事ができる。
過孔を得る事ができた。〔発明の効果〕 以上の結果から明らかな如く、本発明の製造方法を用い
るにより、表面に｛１００｝結晶面が集合したシヤドウ
マスク原板を得る事ができ、このシヤドウマスク原板に
フオトエツチングにより電子ビーム通過孔を高密度、高
精度でかつ均一に設ける事ができる。
この結果、従来のシヤドウマスクに比ベピツチ巾を約１
／３とする事ができ、電子ビーム通過孔の数を５倍程度
まで増加させる事が可能となり、かつドーミング現象等
のない高品位のものが得られる。さらに本発明において
はシヤドウマスク材を選定する事により熱膨張に起因し
たドーミング現象をも改良する事ができる。
／３とする事ができ、電子ビーム通過孔の数を５倍程度
まで増加させる事が可能となり、かつドーミング現象等
のない高品位のものが得られる。さらに本発明において
はシヤドウマスク材を選定する事により熱膨張に起因し
たドーミング現象をも改良する事ができる。
第１図はシヤドウマスク管の原理を示す針視図、第２図
は電子ビーム通過孔の形状例を示す断面図、第３図は本
発明に係るシヤドウマスクを示す部分拡大平面図、第４
図は従来のシヤドウマスクを示部分拡大平面図である。 １・・・・・・シヤドウマスク、９・・・・・・電子ビ
ーム通過孔。
は電子ビーム通過孔の形状例を示す断面図、第３図は本
発明に係るシヤドウマスクを示す部分拡大平面図、第４
図は従来のシヤドウマスクを示部分拡大平面図である。 １・・・・・・シヤドウマスク、９・・・・・・電子ビ
ーム通過孔。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ エッチングにより電子ビーム通過孔を形成するシヤ
ドウマスクの製造方法において、シヤドウマスク材を鍛
造後、圧延面に｛１００｝結晶面が集合する如く熱間圧
延を施す工程と、圧延率が５０％／１回を超えない冷間
圧延および熱処理を施しシヤドウマスク原板を得る工程
と、前記シヤドウマスク原板の｛１００｝結晶面側にエ
ッチングを施し電子ビーム通過孔を形成する工程とを具
備した事を特徴とするシヤドウマスクの製造方法。 ２ 少なくともシヤドウマスクの螢光面に対向する面に
｛１００｝結晶面が３５％以上集合している事を特徴と
するシヤドウマスク。 ３ 特許請求の範囲第２項においてシヤドウマスクが面
心立方格子構造、体心立方格子構造を有する合金からな
る事を特徴とするシヤドウマスク。 ４ 特許請求の範囲第２項においてシヤドウマスクがイ
ンバ型合金からなる事を特徴とするシヤドウマスク。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57147740A JPS5932859B2 (ja) | 1982-08-27 | 1982-08-27 | シャドウマスク及びその製造方法 |
| CA000435352A CA1204143A (en) | 1982-08-27 | 1983-08-25 | Textured shadow mask |
| DE8383108417T DE3378442D1 (en) | 1982-08-27 | 1983-08-26 | Shadow mask, color picture tube and color television |
| KR1019830003999A KR870000147B1 (ko) | 1982-08-27 | 1983-08-26 | 새도우마스크 및 그 제조방법 |
| US06/526,824 US4528246A (en) | 1982-08-27 | 1983-08-26 | Shadow mask |
| EP83108417A EP0104453B1 (en) | 1982-08-27 | 1983-08-26 | Shadow mask, color picture tube and color television |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57147740A JPS5932859B2 (ja) | 1982-08-27 | 1982-08-27 | シャドウマスク及びその製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10602485A Division JPS6119737A (ja) | 1985-05-20 | 1985-05-20 | エッチング性に優れた低熱膨張合金薄板及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5940443A JPS5940443A (ja) | 1984-03-06 |
| JPS5932859B2 true JPS5932859B2 (ja) | 1984-08-11 |
Family
ID=15437066
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57147740A Expired JPS5932859B2 (ja) | 1982-08-27 | 1982-08-27 | シャドウマスク及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5932859B2 (ja) |
| KR (1) | KR870000147B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04503401A (ja) * | 1989-02-17 | 1992-06-18 | プフェファーレ・ウイリアム・シー | 内燃機関の作動方法とその装置 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59200721A (ja) * | 1983-04-27 | 1984-11-14 | Toshiba Corp | シヤドウマスクの製造方法 |
| JPH0754671B2 (ja) * | 1985-10-30 | 1995-06-07 | 株式会社東芝 | シャドウマスク原板の製造方法、シャドウマスク原板、シャドウマスクの製造方法、およびシャドウマスク |
| JPH0748652A (ja) * | 1986-06-04 | 1995-02-21 | Nkk Corp | プレス成形性に優れたシャドウマスク原板 |
| KR100418813B1 (ko) * | 1996-11-08 | 2004-04-29 | 엘지마이크론 주식회사 | 섀도우마스크용원소재제조방법 |
-
1982
- 1982-08-27 JP JP57147740A patent/JPS5932859B2/ja not_active Expired
-
1983
- 1983-08-26 KR KR1019830003999A patent/KR870000147B1/ko not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04503401A (ja) * | 1989-02-17 | 1992-06-18 | プフェファーレ・ウイリアム・シー | 内燃機関の作動方法とその装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5940443A (ja) | 1984-03-06 |
| KR870000147B1 (ko) | 1987-02-12 |
| KR840006100A (ko) | 1984-11-21 |
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