JPH0366395B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0366395B2 JPH0366395B2 JP63117025A JP11702588A JPH0366395B2 JP H0366395 B2 JPH0366395 B2 JP H0366395B2 JP 63117025 A JP63117025 A JP 63117025A JP 11702588 A JP11702588 A JP 11702588A JP H0366395 B2 JPH0366395 B2 JP H0366395B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- shadow mask
- ferric chloride
- chloride solution
- beam passage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/10—Etching compositions
- C23F1/14—Aqueous compositions
- C23F1/16—Acidic compositions
- C23F1/28—Acidic compositions for etching iron group metals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はシヤドウマスクの製造方法に係り、特
に鉄及びニツケルを主成分とする例えばアンバー
からなるシヤドウマスク素材に塩化第２鉄溶液を
スプレイ法により吹きつけ微細精密な電子ビーム
通過孔部を穿設するシヤドウマスクの製造方法に
関するものである。
に鉄及びニツケルを主成分とする例えばアンバー
からなるシヤドウマスク素材に塩化第２鉄溶液を
スプレイ法により吹きつけ微細精密な電子ビーム
通過孔部を穿設するシヤドウマスクの製造方法に
関するものである。
例えばカラー受像管に内装するシヤドウマスク
としては一般に純鉄軟鋼板が多く使用されている
が、高精密、高精細度の画面が要求されるデイス
プレイ用のカラー受像管に内装するシヤドウマス
クはこの画面に対応するように電子ビーム通過孔
部の孔径及びピツチも極めて微細なものが使用さ
れる。一例としてデルタ型に円形電子ビーム通過
孔部の穿設されたシヤドウマスクではピツチ0.20
mm、電子銃側の孔径は直径0.10mm程度となつてい
る。
としては一般に純鉄軟鋼板が多く使用されている
が、高精密、高精細度の画面が要求されるデイス
プレイ用のカラー受像管に内装するシヤドウマス
クはこの画面に対応するように電子ビーム通過孔
部の孔径及びピツチも極めて微細なものが使用さ
れる。一例としてデルタ型に円形電子ビーム通過
孔部の穿設されたシヤドウマスクではピツチ0.20
mm、電子銃側の孔径は直径0.10mm程度となつてい
る。
シヤドウマスクを内装するカラー受像管の最も
重要な特性を電子銃より発射された電子ビームを
シヤドウマスクの電子ビーム通過孔部を通過して
忠実に蛍光面を形成する所定の蛍光体積に射突さ
せることである。しかしながら、稼動中のシヤド
ウマスクは時間の経過と共に電子ビームの射突に
よる温度上昇を伴い、熱膨張を起し、その結果、
電子ビームの軌跡と蛍光体層との位置が合致しな
くなり、所謂ミスランデイングを生じて色ずれ現
象を起すことになる。
重要な特性を電子銃より発射された電子ビームを
シヤドウマスクの電子ビーム通過孔部を通過して
忠実に蛍光面を形成する所定の蛍光体積に射突さ
せることである。しかしながら、稼動中のシヤド
ウマスクは時間の経過と共に電子ビームの射突に
よる温度上昇を伴い、熱膨張を起し、その結果、
電子ビームの軌跡と蛍光体層との位置が合致しな
くなり、所謂ミスランデイングを生じて色ずれ現
象を起すことになる。
このことはカラー受像管としての致命的欠陥と
なるため、解決方法として線膨張係数の極めて小
さないわゆるアンバー材を使用してシヤドウマス
クを作ることも提案されている。このアンバー材
はニツケル鋼の一種であり、標準組成はＣ＜0.2
％、Mn0.5％、Ni36％、残りがFeからなり、線
膨張係数が０〜40℃間で約１×10-6／degと小さ
いことが特徴である。この線膨張係数の値は従来
のシヤドウマスク素材の純鉄軟鋼材の約１／10
で、この特性は普通の熱膨張と磁気的体積収縮と
の重ね合わせにより現れるものと考えられてい
る。
なるため、解決方法として線膨張係数の極めて小
さないわゆるアンバー材を使用してシヤドウマス
クを作ることも提案されている。このアンバー材
はニツケル鋼の一種であり、標準組成はＣ＜0.2
％、Mn0.5％、Ni36％、残りがFeからなり、線
膨張係数が０〜40℃間で約１×10-6／degと小さ
いことが特徴である。この線膨張係数の値は従来
のシヤドウマスク素材の純鉄軟鋼材の約１／10
で、この特性は普通の熱膨張と磁気的体積収縮と
の重ね合わせにより現れるものと考えられてい
る。
しかるにアンバー材などの鉄及びニツケルを主
成分とする合金材は通常塩化第２鉄溶液をエツチ
ング液として、スプレイ法により電子ビーム通過
孔部を穿設するが、この場合、塩化第２鉄溶液中
の遊離塩酸量をある範囲より多くすると非エツチ
ング部に被着されている感光膜レジストの耐蝕性
がもたず不所望部までエツチングされるし、また
少なくすると水酸化ニツケル及び水酸化鉄が生成
され、これがエツチング部に沈着するため第１図
に示すように電子ビーム通過孔部１の周縁にぎざ
ぎざ２が発生し、微細な寸法ばらつきを生じ寸法
管理が困難となり、またユニフオミテイも劣り、
むらのある画面しか得られない問題点がある。
成分とする合金材は通常塩化第２鉄溶液をエツチ
ング液として、スプレイ法により電子ビーム通過
孔部を穿設するが、この場合、塩化第２鉄溶液中
の遊離塩酸量をある範囲より多くすると非エツチ
ング部に被着されている感光膜レジストの耐蝕性
がもたず不所望部までエツチングされるし、また
少なくすると水酸化ニツケル及び水酸化鉄が生成
され、これがエツチング部に沈着するため第１図
に示すように電子ビーム通過孔部１の周縁にぎざ
ぎざ２が発生し、微細な寸法ばらつきを生じ寸法
管理が困難となり、またユニフオミテイも劣り、
むらのある画面しか得られない問題点がある。
また塩化第２鉄溶液中のエツチングに寄与しな
いFe++及びNi++がある範囲以上になるとエツチ
ング界面でのエツチングイオン（Fe+++）の交換
速度がばらつきエツチング速度の制御が困難とな
ると同時に電子ビーム通過孔部が同じく第１図に
示すような形状になるため、遊離塩酸量の場合と
同様に微細な寸法管理が困難となる問題点があ
る。
いFe++及びNi++がある範囲以上になるとエツチ
ング界面でのエツチングイオン（Fe+++）の交換
速度がばらつきエツチング速度の制御が困難とな
ると同時に電子ビーム通過孔部が同じく第１図に
示すような形状になるため、遊離塩酸量の場合と
同様に微細な寸法管理が困難となる問題点があ
る。
また塩化第２鉄溶液の温度もある温度以下では
生産性が悪くなるため設備が大きくなるし、ある
温度以上では感光膜レジストの膨潤により耐蝕性
が劣化し、不所望部までエツチングされる問題点
がある。
生産性が悪くなるため設備が大きくなるし、ある
温度以上では感光膜レジストの膨潤により耐蝕性
が劣化し、不所望部までエツチングされる問題点
がある。
また温度と液比重との間には相関性があるが、
液比重が低すぎた場合液粘度が低下し、エツチン
グイオンの拡散速度が一律である鉄−ニツケル合
金のエツチングではエツチング速度が非常に速く
なる。この結果様々な結晶面を有する多結晶の鉄
−ニツケル合金は溶解され易い面が優先的にエツ
チングされ、電子ビーム通過孔部が第１図に示す
ような形状になり、遊離塩酸量の場合と同様に微
細な寸法管理が困難な問題点がある。逆に液比重
が高すぎた場合、液粘度が上り過ぎエツチングイ
オンの移動が抑制されるためエツチング速度が低
下し過ぎ量産に適さない問題点がある。この結果
量産面とマスク品質との両面からある温度と比重
の範囲を決める必要がある。
液比重が低すぎた場合液粘度が低下し、エツチン
グイオンの拡散速度が一律である鉄−ニツケル合
金のエツチングではエツチング速度が非常に速く
なる。この結果様々な結晶面を有する多結晶の鉄
−ニツケル合金は溶解され易い面が優先的にエツ
チングされ、電子ビーム通過孔部が第１図に示す
ような形状になり、遊離塩酸量の場合と同様に微
細な寸法管理が困難な問題点がある。逆に液比重
が高すぎた場合、液粘度が上り過ぎエツチングイ
オンの移動が抑制されるためエツチング速度が低
下し過ぎ量産に適さない問題点がある。この結果
量産面とマスク品質との両面からある温度と比重
の範囲を決める必要がある。
本発明は前述した諸問題に鑑みなされたもので
あり、アンバー材などの鉄及びニツケルを主成物
とする合金材からなるシヤドウマスク素材に塩化
第２鉄溶液をスプレイ法により吹きつけシヤドウ
マスクを製造する場合、塩化第２鉄溶液の諸特性
を限定することにより極めて品質のよいシヤドウ
マスクを得ることが可能なシヤドウマスクの製造
方法を提供することを目的としている。
あり、アンバー材などの鉄及びニツケルを主成物
とする合金材からなるシヤドウマスク素材に塩化
第２鉄溶液をスプレイ法により吹きつけシヤドウ
マスクを製造する場合、塩化第２鉄溶液の諸特性
を限定することにより極めて品質のよいシヤドウ
マスクを得ることが可能なシヤドウマスクの製造
方法を提供することを目的としている。
即ち、本発明は鉄及びニツケルを主成分とする
合金材からなるシヤドウマスク素材に塩化第２鉄
溶液をスプレイ法により吹きつけ微細精密な電子
ビーム通過孔部を穿設するシヤドウマスクの製造
方法において、塩化第２鉄溶液が、遊離塩酸量
0.30±0.20％、〔Fe++、Fe+++〕合わせて15％以
下、液温40〜70℃の範囲で比重が、1.461−4.63
×10-4×Ｔ−1.96×10-6×T2と1.552＋7.79×10-5
×Ｔ−1.18×10-5×T2の式に囲まれた（Ｔは液
温）範囲にあるように制御されていることを特徴
としている。
合金材からなるシヤドウマスク素材に塩化第２鉄
溶液をスプレイ法により吹きつけ微細精密な電子
ビーム通過孔部を穿設するシヤドウマスクの製造
方法において、塩化第２鉄溶液が、遊離塩酸量
0.30±0.20％、〔Fe++、Fe+++〕合わせて15％以
下、液温40〜70℃の範囲で比重が、1.461−4.63
×10-4×Ｔ−1.96×10-6×T2と1.552＋7.79×10-5
×Ｔ−1.18×10-5×T2の式に囲まれた（Ｔは液
温）範囲にあるように制御されていることを特徴
としている。
次に本発明の一実施例を説明する。
先ず本発明者らは種々の塩化第２鉄溶液を使用
し、実際にアンバー材からなるシヤドウマスク素
材に電子ビーム通過孔部を穿設し、この電子ビー
ム通過孔部の形状、感光膜レジストの状態などを
検査する方法を用いて塩化第２鉄溶液の温度と遊
離塩酸量の関係における安全域を調査し第２図の
安全域１１、即ち40℃〜70℃まで遊離塩酸量は
0.10％〜0.50％が安全域１１となる。これは0.30
±0.10％が最適であることを示している。この安
全域１１に遊離塩酸量をおさえることにより、感
光膜レジストは浸蝕されないし、また電子ビーム
通過孔部の形状も完全円形となり、寸法のばらつ
きも少なく、結果としてユニフオミテイもよく、
画面のむらもなくなる。
し、実際にアンバー材からなるシヤドウマスク素
材に電子ビーム通過孔部を穿設し、この電子ビー
ム通過孔部の形状、感光膜レジストの状態などを
検査する方法を用いて塩化第２鉄溶液の温度と遊
離塩酸量の関係における安全域を調査し第２図の
安全域１１、即ち40℃〜70℃まで遊離塩酸量は
0.10％〜0.50％が安全域１１となる。これは0.30
±0.10％が最適であることを示している。この安
全域１１に遊離塩酸量をおさえることにより、感
光膜レジストは浸蝕されないし、また電子ビーム
通過孔部の形状も完全円形となり、寸法のばらつ
きも少なく、結果としてユニフオミテイもよく、
画面のむらもなくなる。
次に同様な検査方法を用いて塩化第２鉄溶液の
温度とFe++とNi++の関係を調査した結果第３図
の安全域１２即ち全温度でFe++とNi++を合わせ
て15％以下とすることにより最適結果が得られ
た。そしてこの安全域１２にFe++をおさえるこ
とによりエツチング速度の制御ができると共に電
子ビーム通過孔部の形状の完全円形とすることが
可能となる。
温度とFe++とNi++の関係を調査した結果第３図
の安全域１２即ち全温度でFe++とNi++を合わせ
て15％以下とすることにより最適結果が得られ
た。そしてこの安全域１２にFe++をおさえるこ
とによりエツチング速度の制御ができると共に電
子ビーム通過孔部の形状の完全円形とすることが
可能となる。
次に同様な検査方法を用いて塩化第２鉄溶液の
温度と比重の関係を調査した結果第４図の安全域
１３即ち液温40℃〜70℃の間で1.461−4.63×10-4
×Ｔ−1.96×10-6×T2と1.552＋7.79×10-5×Ｔ−
1.18×10-5×T2の式に囲まれた（Ｔは液温）範囲
にすることにより感光膜の耐蝕性が劣化すること
もなく、設備を増加することがない。更に電子ビ
ーム通過孔部が完全円形となることは勿論のこと
寸法管理も極めて容易にできる。
温度と比重の関係を調査した結果第４図の安全域
１３即ち液温40℃〜70℃の間で1.461−4.63×10-4
×Ｔ−1.96×10-6×T2と1.552＋7.79×10-5×Ｔ−
1.18×10-5×T2の式に囲まれた（Ｔは液温）範囲
にすることにより感光膜の耐蝕性が劣化すること
もなく、設備を増加することがない。更に電子ビ
ーム通過孔部が完全円形となることは勿論のこと
寸法管理も極めて容易にできる。
〔発明の効果〕
前述のようにアンバーなど、鉄及びニツケルを
主成分とする合金材からなるシヤドウマスク素材
に塩化第２鉄溶液をスプレイ法により吹きつけ電
子ビーム通過孔部を穿設する時、塩化第２鉄溶液
中の遊離塩酸量、Fe++、Ni++、温度、比重、を
制御することにより微細、精密な電子ビーム通過
孔部を穿設することが可能となるのでその工業的
価値は極めて大である。
主成分とする合金材からなるシヤドウマスク素材
に塩化第２鉄溶液をスプレイ法により吹きつけ電
子ビーム通過孔部を穿設する時、塩化第２鉄溶液
中の遊離塩酸量、Fe++、Ni++、温度、比重、を
制御することにより微細、精密な電子ビーム通過
孔部を穿設することが可能となるのでその工業的
価値は極めて大である。
第１図は周縁にぎざぎざのある電子ビーム通過
孔部を示す説明図、第２図は塩化第２鉄溶液の温
度と遊離塩酸量との安全域を示すグラフ、第３図
は塩化第２鉄溶液の温度とFe++＋Ni++量との安
全域を示すグラフ、第４図は塩化第２鉄溶液の温
度と比重との安全域を示すグラフである。 １…電子ビーム通過孔部、１１，１２，１３…
安全域。
孔部を示す説明図、第２図は塩化第２鉄溶液の温
度と遊離塩酸量との安全域を示すグラフ、第３図
は塩化第２鉄溶液の温度とFe++＋Ni++量との安
全域を示すグラフ、第４図は塩化第２鉄溶液の温
度と比重との安全域を示すグラフである。 １…電子ビーム通過孔部、１１，１２，１３…
安全域。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 鉄及びニツケルを主成分とする合金材からな
るシヤドウマスク素材に塩化第２鉄溶液をスプレ
イ法により吹きつけ微細精密な電子ビーム通過孔
部を穿設するシヤドウマスクの製造方法におい
て、前記塩化第２鉄溶液が遊離塩酸量0.30±0.20
％、〔Fe++、Ni++〕合わせて15％以下、液温40℃
〜70℃の範囲で比重が1.461−4.63×10-4×Ｔ−
1.96×10-6×T2と1.552＋7.79×10-5T−1.18×
10-5×T2（但しＴは液温）の式に囲まれた範囲に
あるように制御されていることを特徴とするシヤ
ドウマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63-117025A JPH01283A (ja) | 1988-05-16 | シャドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63-117025A JPH01283A (ja) | 1988-05-16 | シャドウマスクの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS64283A JPS64283A (en) | 1989-01-05 |
| JPH01283A JPH01283A (ja) | 1989-01-05 |
| JPH0366395B2 true JPH0366395B2 (ja) | 1991-10-17 |
Family
ID=
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS64283A (en) | 1989-01-05 |
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