JPH01285333A - 情報記録媒体用基板の製造方法 - Google Patents
情報記録媒体用基板の製造方法Info
- Publication number
- JPH01285333A JPH01285333A JP11362688A JP11362688A JPH01285333A JP H01285333 A JPH01285333 A JP H01285333A JP 11362688 A JP11362688 A JP 11362688A JP 11362688 A JP11362688 A JP 11362688A JP H01285333 A JPH01285333 A JP H01285333A
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- resin substrate
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、凹凸プリフォーマットパターンを有する情報
記録媒体用基板の製造方法に関するものである。
記録媒体用基板の製造方法に関するものである。
[従来の技術]
従来、情報記録媒体用基板(以下、基板と記す)基板と
しては、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート
、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリメチルペンテン
などの透明樹脂材料、またはガラス基板か用いられてい
る。一方、基板に案内溝等の凹凸プリフォーマットを形
成する方法としては1通常、インジェクション法、イン
ジェクションスタンピング法、コンプレッション法(熱
ブレス成形法)などが用いられている。
しては、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート
、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリメチルペンテン
などの透明樹脂材料、またはガラス基板か用いられてい
る。一方、基板に案内溝等の凹凸プリフォーマットを形
成する方法としては1通常、インジェクション法、イン
ジェクションスタンピング法、コンプレッション法(熱
ブレス成形法)などが用いられている。
[発明が解決しようとする課題]
光カードの基板としては、カードの携帯性を考慮すると
、ガラス基板よりも樹脂基板が要求されている。しかし
ながら、樹脂基板の欠点として、水蒸気、空気等の透過
性がガラス基板と比較して十分に大きいために、記録層
として無機材料を用いた場合に腐食による性能の低下が
著しい。したがって、通常、記録層の上下層に水蒸気、
酵素等のバリヤー性のある保護層か設けられている。し
かし、バリヤー性のある保護層を設けるこ、基板の構成
が複雑になると共にコスト高となる。したがって、樹脂
基板の記録材料としては、水との反応性の低い有機材料
を用いることか好ましい。
、ガラス基板よりも樹脂基板が要求されている。しかし
ながら、樹脂基板の欠点として、水蒸気、空気等の透過
性がガラス基板と比較して十分に大きいために、記録層
として無機材料を用いた場合に腐食による性能の低下が
著しい。したがって、通常、記録層の上下層に水蒸気、
酵素等のバリヤー性のある保護層か設けられている。し
かし、バリヤー性のある保護層を設けるこ、基板の構成
が複雑になると共にコスト高となる。したがって、樹脂
基板の記録材料としては、水との反応性の低い有機材料
を用いることか好ましい。
しかしながら、有機染料の多くは染料を溶媒に溶解し、
その溶液を基板上に塗布して記録層な形成している。し
たがって、■塗布性の良い、すなわちヌレ性の良い樹脂
基板表面が要求される。
その溶液を基板上に塗布して記録層な形成している。し
たがって、■塗布性の良い、すなわちヌレ性の良い樹脂
基板表面が要求される。
一方、光カードとしては、厚さ0.7mm以下の樹脂基
板上に案内溝等の凹凸プリフォーマットを形成する必要
がある。この形成方法の一つとして、樹脂基板の表面に
直接凹凸プリフォーマット面を有する金型等の成形型を
用いて、コンプレッション成形(熱プレス成形)する方
法が用いられている。この場合、■成形型からの離型酸
が良好である樹脂が要求される。
板上に案内溝等の凹凸プリフォーマットを形成する必要
がある。この形成方法の一つとして、樹脂基板の表面に
直接凹凸プリフォーマット面を有する金型等の成形型を
用いて、コンプレッション成形(熱プレス成形)する方
法が用いられている。この場合、■成形型からの離型酸
が良好である樹脂が要求される。
上記■の条件を満たすためには、高分子の表面エネルギ
ーか大きい樹脂基板が要求され、また上記■の条件を満
たすためには樹脂基板の高分子の表面エネルギーが小さ
いことが要求される。しかるに、前記■、■の互に反す
る条件を同時に満足することは矛盾する。
ーか大きい樹脂基板が要求され、また上記■の条件を満
たすためには樹脂基板の高分子の表面エネルギーが小さ
いことが要求される。しかるに、前記■、■の互に反す
る条件を同時に満足することは矛盾する。
したがって、離型性の容易な樹脂基板を用いて熱プレス
成形し、次に凹凸プリフォーマットの形成面を親木化処
理することが要求される。また。
成形し、次に凹凸プリフォーマットの形成面を親木化処
理することが要求される。また。
基板表面に記録層を形成するための塗布溶液のヌレ性な
向上させる手段として、コロナ放電、オゾン、プラズマ
放電処理などが知られている。しかし、基板に凹凸プリ
フォーマットを成形した後に別な装置で上記表面処理を
行なうと、工程の増加に伴ない基板にキズ等の欠陥を発
生させる確立が増加し、製造上好ましくない問題がある
。
向上させる手段として、コロナ放電、オゾン、プラズマ
放電処理などが知られている。しかし、基板に凹凸プリ
フォーマットを成形した後に別な装置で上記表面処理を
行なうと、工程の増加に伴ない基板にキズ等の欠陥を発
生させる確立が増加し、製造上好ましくない問題がある
。
また、他の問題として、熱プレス成形時に基板に静電気
が発生し、基板が成形型から離型した直後から静電吸着
によるゴミの付着が起りやすくなる。この場合、付着さ
れるゴミは樹脂基板を成形型から離型するときに、樹脂
基板の端面から発生する。したがって、樹脂基板が成形
型から離型すると同時に樹脂基板に帯電している静電気
を除去する必要がある。
が発生し、基板が成形型から離型した直後から静電吸着
によるゴミの付着が起りやすくなる。この場合、付着さ
れるゴミは樹脂基板を成形型から離型するときに、樹脂
基板の端面から発生する。したがって、樹脂基板が成形
型から離型すると同時に樹脂基板に帯電している静電気
を除去する必要がある。
本発明は、この様な従来の問題に鑑みてなされたもので
あり、基板の製造工程の中に放電処理工程を導入し基板
表面の性質を改質することにより、有機色素溶液を塗布
して記録層を形成する際のヌレ性を良好にし、また静電
気吸着によるゴミ、異物等の付着を減少した基板を容易
に製造する方法を提供することを目的とするものである
。
あり、基板の製造工程の中に放電処理工程を導入し基板
表面の性質を改質することにより、有機色素溶液を塗布
して記録層を形成する際のヌレ性を良好にし、また静電
気吸着によるゴミ、異物等の付着を減少した基板を容易
に製造する方法を提供することを目的とするものである
。
[課題を解決するための手段]
即ち、本発明は、凹凸プリフォーマット面を有する成形
型を用いて樹脂を成形し基板を製造する方法において、
成形、離型後、成形型を電極として成形された基板表面
を放電処理することを特徴とする基板の製造方法である
。
型を用いて樹脂を成形し基板を製造する方法において、
成形、離型後、成形型を電極として成形された基板表面
を放電処理することを特徴とする基板の製造方法である
。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明の基板の製造方法は、熱プレス成形、又は単純な
プレス成形等により樹脂製情報記録媒体用基板へ凹凸プ
リフォーマットを形成する方法において、凹凸プリフォ
ーマット面を有する金型等の成形型を用いて、樹脂を凹
凸プリフォーマットを有する基板に成形し、脱型後、前
記成形型を電極として成形された基板表面を放電処理す
ることを特徴とする。
プレス成形等により樹脂製情報記録媒体用基板へ凹凸プ
リフォーマットを形成する方法において、凹凸プリフォ
ーマット面を有する金型等の成形型を用いて、樹脂を凹
凸プリフォーマットを有する基板に成形し、脱型後、前
記成形型を電極として成形された基板表面を放電処理す
ることを特徴とする。
第1図(a)、(b)は本発明の基板の製造方法の一実
施態様を示す工程図である。同図において、樹脂基板2
を、凹凸プリフォーマット面を有するスタンバ−金型l
と鏡面型3を用いて熱プレス成形した後(第1図(a)
参照)、スタンバ−金型lを樹脂基板2の表面から離型
する6次いで、スタンバ−金型lと鏡面型3を電極とし
て、該電極間に高周波電源4からプレート電流でloO
mAを付与すると、鏡面型3の上に載置された樹脂基板
2の凹・凸プリフォーマット上の放電領域5にコロナ放
電が発生し基板表面の性質が改善され、塗布液のヌレ性
が良好になり、かつ樹脂基板上の静電気の除去が可能と
なる。(第1図(b)参照)樹脂基板2としては、ポリ
メチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリメチルペンテン等の透明樹脂
基板が用いられる。特に表面エネルギーが小さく離型性
が良く、塗布液のヌレ性が悪いポリメチルペンテンを基
板として用いる場合に有効である。
施態様を示す工程図である。同図において、樹脂基板2
を、凹凸プリフォーマット面を有するスタンバ−金型l
と鏡面型3を用いて熱プレス成形した後(第1図(a)
参照)、スタンバ−金型lを樹脂基板2の表面から離型
する6次いで、スタンバ−金型lと鏡面型3を電極とし
て、該電極間に高周波電源4からプレート電流でloO
mAを付与すると、鏡面型3の上に載置された樹脂基板
2の凹・凸プリフォーマット上の放電領域5にコロナ放
電が発生し基板表面の性質が改善され、塗布液のヌレ性
が良好になり、かつ樹脂基板上の静電気の除去が可能と
なる。(第1図(b)参照)樹脂基板2としては、ポリ
メチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリメチルペンテン等の透明樹脂
基板が用いられる。特に表面エネルギーが小さく離型性
が良く、塗布液のヌレ性が悪いポリメチルペンテンを基
板として用いる場合に有効である。
コロナ放電は、通常電極間距離1〜500mm、プレー
ト電流lO〜:100mA、処理時間数秒〜lO分位の
諸条件で行なわれる。要求される樹脂基板の表面状態に
よって、上記処理条件はコントロール可使である。
ト電流lO〜:100mA、処理時間数秒〜lO分位の
諸条件で行なわれる。要求される樹脂基板の表面状態に
よって、上記処理条件はコントロール可使である。
成形型は、凹凸ブリフォーマ・ント面を有する導電性材
料からなる型が用いられ、例えばタングステンカーバイ
ドの表面に窒化チタンの硬化膜をコーティングしたもの
、又は超硬質材料等の金型が挙げられる。また、鏡面型
は導電性材料からなる型で上記金型、超硬質材料等と同
質材料からなるものが好ましい。
料からなる型が用いられ、例えばタングステンカーバイ
ドの表面に窒化チタンの硬化膜をコーティングしたもの
、又は超硬質材料等の金型が挙げられる。また、鏡面型
は導電性材料からなる型で上記金型、超硬質材料等と同
質材料からなるものが好ましい。
[作用]
本発明の基板の製造方法は、凹凸プリフォーマット面を
有する成形型を用いて樹脂を成形し基板を製造する方法
において、成形、離型後、成形型を電極として成形され
た基板表面を放電処理することにより、成形型が樹脂基
板から離型すると同時に基板の凹凸プリフォーマット形
成表面を放電処理することが可能となる。
有する成形型を用いて樹脂を成形し基板を製造する方法
において、成形、離型後、成形型を電極として成形され
た基板表面を放電処理することにより、成形型が樹脂基
板から離型すると同時に基板の凹凸プリフォーマット形
成表面を放電処理することが可能となる。
その結果、樹脂基板の凹凸プリフォーマット形成表面の
表面エネルギーが小さくなり、有機色素記録媒体の塗布
溶液の基板上への塗布性が向上する。また、凹凸プリフ
ォーマット成形時に発生した樹脂基板の静電気な離型直
後に除去することができ、静電吸着によるゴミ、異物等
の基板への付着か減少する。
表面エネルギーが小さくなり、有機色素記録媒体の塗布
溶液の基板上への塗布性が向上する。また、凹凸プリフ
ォーマット成形時に発生した樹脂基板の静電気な離型直
後に除去することができ、静電吸着によるゴミ、異物等
の基板への付着か減少する。
[実施例]
以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。
実施例1
第1図(a)、(b)に示す方法により基板を製造した
。
。
凹凸プリフォーマットを有し、母材としてタングステン
カーバイドを用い表面に窒化チタンの硬化膜をコーティ
ングしてなるスタンバ−金型1とタングステンカーバイ
ドからなる鏡面型からなる成形装置に、厚さ0.5mm
のポリメチルメタクリレートの樹脂基板2をセットし、
140℃に加熱されたスタンバ−金型lで熱成形プレス
をした後、スタンバ−金型lと鏡面型3の電極間を5m
mの間隔に保ち、高周波電源4を用いコロナ放電を発生
させ2分間表面処理を行なった。放電条件はプレート電
流100g*Aであった。
カーバイドを用い表面に窒化チタンの硬化膜をコーティ
ングしてなるスタンバ−金型1とタングステンカーバイ
ドからなる鏡面型からなる成形装置に、厚さ0.5mm
のポリメチルメタクリレートの樹脂基板2をセットし、
140℃に加熱されたスタンバ−金型lで熱成形プレス
をした後、スタンバ−金型lと鏡面型3の電極間を5m
mの間隔に保ち、高周波電源4を用いコロナ放電を発生
させ2分間表面処理を行なった。放電条件はプレート電
流100g*Aであった。
コロナ放電処理後、基板表面の静電気量を測定したとこ
ろI KeV/c曽2以下であった。
ろI KeV/c曽2以下であった。
さらに、表面の臨界表面張力が未処理の状態で:16d
yn/cmであったものか、処理vk41dyn/c+
sになった。
yn/cmであったものか、処理vk41dyn/c+
sになった。
その結果、ポリメチン系有機染料の
をジアセトンアルコールの溶媒に濃度3.0重量%に溶
解した溶液をグラビアコータで塗布したところ、膜厚t
ooo人の均一な塗布膜が記録層として得られた。
解した溶液をグラビアコータで塗布したところ、膜厚t
ooo人の均一な塗布膜が記録層として得られた。
実施例2
実施例1と同様の方法により、基板として厚さ0.5m
鵬のポリメチフレベンテンを用いて、スタンバ−金型に
よる熱ブレス成形後、ポリメチルペンテンの表面に凹凸
プリフォーマットを形成した後、スタンバ−金型と鏡面
型の電極間を5Hの間隔に保ち、約5分間コロナ放電処
理した。
鵬のポリメチフレベンテンを用いて、スタンバ−金型に
よる熱ブレス成形後、ポリメチルペンテンの表面に凹凸
プリフォーマットを形成した後、スタンバ−金型と鏡面
型の電極間を5Hの間隔に保ち、約5分間コロナ放電処
理した。
コロナ放電処理後、ポリメチルペンテン基板の表面の臨
界表面張力は24dyn/cmから32dyn/cmに
変化した。
界表面張力は24dyn/cmから32dyn/cmに
変化した。
その結果、ポリメチン系有機染料の
を表面張力31dyn/cmのジアセトンアルコール溶
液に濃度3.0重量%に溶解した溶液をポリメチルペン
テン基板上に塗布することが可能となった。また、スタ
ンバ−金型を離型直後にコロナ放電処理することによっ
て基板表面の静電気が除電され、基板表面へのゴミなど
の静電付着が減少したために、塗布工程でのゴミのまき
こみが減少し、エラレートの低下した記録層を作成する
ことができた。
液に濃度3.0重量%に溶解した溶液をポリメチルペン
テン基板上に塗布することが可能となった。また、スタ
ンバ−金型を離型直後にコロナ放電処理することによっ
て基板表面の静電気が除電され、基板表面へのゴミなど
の静電付着が減少したために、塗布工程でのゴミのまき
こみが減少し、エラレートの低下した記録層を作成する
ことができた。
[発明の効果]
以上説明した様に、本発明によれば、凹凸プリフォーマ
ット面を有する成形型を用いて樹脂を成形し基板を製造
する方法において、成形、#型後、成形型を電極として
成形された基板表面をすぐに放電処理することによって
。
ット面を有する成形型を用いて樹脂を成形し基板を製造
する方法において、成形、#型後、成形型を電極として
成形された基板表面をすぐに放電処理することによって
。
■基板表面の静電気量が未処理lOにeV以上であるに
もかかわらず処理後I KeV以下に減少させることが
でき、その結果、静電吸着によるゴミの付着か減少し、
生産性の向上および記録膜のエラーレートが減少した。
もかかわらず処理後I KeV以下に減少させることが
でき、その結果、静電吸着によるゴミの付着か減少し、
生産性の向上および記録膜のエラーレートが減少した。
■樹脂基板の表面エネルギーが小さくなり、例えば表面
エネルギーの大きなポリメチルペンテンなどの基板に溶
媒塗布によって有機染料の記録層を形成する場合にも、
均一な膜厚の記録層を容易に形成することか可能となる
。
エネルギーの大きなポリメチルペンテンなどの基板に溶
媒塗布によって有機染料の記録層を形成する場合にも、
均一な膜厚の記録層を容易に形成することか可能となる
。
■成形型を電極として使用することができるので、製造
工程の中に放電処理工程を導入することができ、−貫し
た製造ラインで基板表面の改質を行なうことができる。
工程の中に放電処理工程を導入することができ、−貫し
た製造ラインで基板表面の改質を行なうことができる。
第1図(a) 、 (b)は本発明の基板の製造方法の
一実施態様を示す工程図である。 l・・・スタンバ−金型 2・・・樹脂基板3・・
・鏡面型 4・・・高周波電源5・・・放
電領域
一実施態様を示す工程図である。 l・・・スタンバ−金型 2・・・樹脂基板3・・
・鏡面型 4・・・高周波電源5・・・放
電領域
Claims (1)
- 凹凸プリフォーマット面を有する成形型を用いて樹脂
を成形し情報記録媒体用基板を製造する方法において、
成形、離型後、成形型を電極として成形された基板表面
を放電処理することを特徴とする情報記録媒体用基板の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11362688A JPH01285333A (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 情報記録媒体用基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11362688A JPH01285333A (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 情報記録媒体用基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01285333A true JPH01285333A (ja) | 1989-11-16 |
Family
ID=14616991
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11362688A Pending JPH01285333A (ja) | 1988-05-12 | 1988-05-12 | 情報記録媒体用基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01285333A (ja) |
-
1988
- 1988-05-12 JP JP11362688A patent/JPH01285333A/ja active Pending
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