JPH01232552A

JPH01232552A - 光ディスク基板の製造方法

Info

Publication number: JPH01232552A
Application number: JP63057692A
Authority: JP
Inventors: Seisaburo Shimizu; 清水　征三郎; Shigeru Matake; 茂真竹; Osamu Sasaki; 修佐々木; Sukeaki Matsumaru; 松丸　祐晃
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1988-03-11
Filing date: 1988-03-11
Publication date: 1989-09-18
Anticipated expiration: 2011-10-02
Also published as: JP2538972B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［発明の目的］（産業上の利用分野）本発明は情報記録などに用いられる光ディスク基板に関
する。

（従来の技術）従来より光学的記録媒体（光ディスク）の基板材料とし
ては、ガラス、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、
エポキシ樹脂、ポリオレフィン樹脂などが用いられてい
る。こうした光ディスクでは、高密度な記録を達成する
ために、その基板−ヒに光学的案内溝やビットなどが形
成される。そして、このような基板上に下地層、記録膜
、反射膜などが形成される。

上記のような基板としては従来、おおまかに分類して以
下の３通りの方法により作製されたものが知られており
、長所もあるがそれぞれ欠点がある。

■案内溝などの形状に対応する凹凸が刻設されたスタン
パを含む金型内に、溶融した樹脂を射出して固化させ、
案内溝などを転写する方法、この射出成形による方法で
は、例えばアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ
オレフィン樹脂などの熱硬化性樹脂が用いられる。

この射出成形による方法は量産性に優れている。その反
面、光学特性である複屈折の均一性が悪い、基板が変形
する、通気性であることから記録膜の腐食を招くなどの
問題がある。また、スパッタリングで記録膜などを形成
する際、上記のような耐熱性の低い樹脂からなる基板が
軟化するため、記録膜などとの密着性が悪く、記Ｑ膜に
シワやクラックが発生しやすい、しかも、スタンパなど
との剥離性の改みを目的として、内部離型剤を添加する
ため、記録膜などとの密着性が一層悪くなる。

（２）ガラスなどの透明基板とスタンパとの間に紫外線
硬化型樹脂を流し込み、紫外線を照射して樹脂を硬化さ
せ、基板に固着させて案内溝などを有する硬化型樹脂層
を形成する、ｚＰ法と呼ばれる方法、上記紫外線硬化型
樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂
などがある。

この２Ｐ法は射出成形法よりも量産性に劣る。

また、未露光部に未反応物（モノマーなどの低分子成分
）が残留するため、これを洗浄により除去しなければな
らず、しかも洗浄後に汚れが残りやすい、そして、スパ
ッタリングで記録膜などを形成する際、未反応物が蒸発
し、膜付きが困難である。また、樹脂の耐熱性が低い場
合には、上記と同様に記録膜などにシワやクラックが発
生しやすい、なお、２Ｐ法で作製した基板を注意深く取
り扱えば、膜付は時には記録膜などのシワやクラックの
発生を防止することもできるが、長期間経過するとシワ
やクランクが発生してしまうことがある。

■スタンパを含む金型内に１例えばエポキシ系樹脂など
の反応性樹脂を注型し、反応させて硬化する方法。

この注型法では反応時に生じる内部歪の発生による光学
特性の低下を防ぐため、場合によっては数時間にも及ぶ
長時間の硬化時間を要し、量産性に劣る。また、スタン
パなどとの剥離性の改善を目的として、樹脂中の極性基
を減少させたり、内部離型剤を添加するため、記Ｑ膜な
どとの密着性が悪くなるという欠点を有する。また、樹
脂の耐熱性が低い場合には、上記と同様に記録膜などに
シワやクラックが発生しやすい。

（発明が解決しようとする課題）以上のように従来の光ディスク基板には種々の問題があ
り、特に記録膜などにシワやクラックが発生しやすく、
記録特性が劣化することが最大の問題となっている。

本発明は上記課題を解決するためになされたものであり
、膜付けされる記録膜などにシワやクラックを発生させ
ることのない光ディスク基板を提供することを目的とす
る。

［発明の構成］（課題を解決するための手段と作用）本発明の光ディスク基板は、透明基板上に設けた樹脂層
に案内溝、ビットなどの凹凸形状を転写した光ディスク
基板において、上記樹脂層が熱硬化性のビニル基含有シ
リコーン樹脂からなることを特徴とするものである。

本発明に係る光ディスク基板は、ガラスなどの透明基板
先にビニル基含有シリコーン樹脂をスピンナなどで塗布
し、乾燥した後、スタンパなどの原盤を加勢圧着して、
透明基板上のシリコーン樹脂に案内溝やビットなどの凹
凸を転写するとともに硬化させ、原盤から剥離すること
により作製することができる。なお、ガラスなどの透明
基板とシリコーン樹脂との密着性を向上させるために。

透明基板をシランカップリング剤で処理してもよい、同
様に、シリコーン樹脂°と記録膜などとの密着性を向上
させるために、シランカップリング剤の蒸気中でシリコ
ーン樹脂を加熱処理したり適当な波長の光を照射するこ
とにより、その表面にカップリング剤を反応させてもよ
い。

本発明の光ディスク基板を構成するシリコーン樹脂は、
スタンパなどとの剥離性が良好であるので、内部離型剤
を用いる必要はない、また、シリコーン樹脂は耐熱性が
高いので、スパッタリングで記録膜を形成する際に軟化
することはない、更に、シリコーン樹脂のシロキサン骨
格は、記録膜などの無機材料との親和性がよい、したが
って、スパッタリングで記録膜などを形成しても、シワ
やクラックが発生しにくい、その他、上記のように工程
が簡単であるうえ、ビニル基含有シリコーン樹脂に対し
て用いられる過酸化物などの反応開始剤として適当なも
のを選択することにより、反応温度や反応待間をある程
度自由に設定することができるので、量産性に関しても
有利性がある。

なお、耐熱性だけに着目すれば、通常の熱硬化性樹脂を
用いることも考えられる。しかし１通常の熱硬化性樹脂
は極性基のためにスタンパなどとの剥離性が悪く、また
記録膜などの無機材料とのの親和性が悪いものが多いた
め、上記のような効果を得ることは困難である。

（実施例）以下、本発明の詳細な説明する。

実施例１直径　１３０ｓ層、厚さ　１．２ｍ鳳の強化ガラス基板
上に、スピンナでビニル基含有シリコーン樹脂（東芝シ
リコーン製、ＹＲ３２２４）を塗布した後、１００℃で
１０分間乾燥した０次に、ガラス基板上のビニル基含有
シリコーン樹脂に、案内溝が形成されたスタンパを圧着
し、１７０℃で１５分間加熱してシリコーン樹脂を硬化
させた後、スタンパを剥離して光ディスク基板を得た０
次いで、スパッタ法によりＳｉ３Ｎ４の下地層、ＴｂＣ
ｏの記録膜、Ａ文の反射膜を順次積層して光ディスクを
作製した。

実施例２実施例１と同様な方法で作製された光ディスク基板をビ
ニルトリエトキシシラン蒸気中、２００℃で１時間加熱
処理した。その後、実施例１と同様にスパッタ法により
下地層、記録膜、反射膜を順次積層して光ディスクを作
製した。

実施例３実施例１と同様な方法で作製された光ディスク基板にビ
ニルトリエトキシシラン蒸気中で紫外線を１０分間照射
する処理を行った。その後、実施例１と同様にスパッタ
法により下地層、記録膜、反射膜を順次積層して光ディ
スクを作製した。

比較例ポリカーボネート樹脂を用いて射出成形により作製され
た光ディスク基板上に、実施例１と同様にスパッタ法に
より下地層、記録膜１反射膜を順次積層して光ディスク
を作製した。

以上のようにして作製された実施例１〜３及び比較例の
光ディスクについて、膜付は直後の記録膜などを顕微鏡
で観察した。また、各光ディスクを８０℃　９０％ＲＨ
で２４時間保持した後、室温で１時間保持する操作を４
サイクル繰り返し、更に８０％ＲＨで９６時間保持する
加速劣化試験を行った後、記録膜などを“顕微鏡で観察
した。

その結果、比較例の光ディスクでは、膜付は直後に記録
膜の一部にシワ、クラックが発生しており、加速劣化試
験後には記録膜の全面にシワ、クラ７りが発生していた
。これに対し、実施例１〜３の光ディスクでは膜付は直
後も、加速劣化試験後にも記録膜にシワやクラックの発
生は全く認められなかった。

［発明の効果］以−Ｌ詳述したように本発明の光ディスク基板を用いれ
ば、その表面に形成される記録膜には長期間にわたって
シワやクラックが発生することがなく、良好な記録特性
を維持することができる。

出願人代理人　弁理士　鈴江武彦

Claims

【特許請求の範囲】

透明基板上に設けた樹脂層に凹凸形状を転写した光ディ
スク基板において、上記樹脂層が熱硬化性のビニル基含
有シリコーン樹脂からなることを特徴とする光ディスク
基板。