JPH01290107A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 星菜上些社且立！ この発明は、高密度磁気記録が可能で、高飽和磁束密度
金属薄膜と強磁性金属酸化物の複合材料から成るコアを
用いる磁気へ・ソドに関する。

従沫］ム１ 最近では、８　ｍｍＶ　Ｔ　Ｒ等のように、ｌ／２　Ｖ
ＴＲよりもより一層高密度磁気記録が要求される機器に
おいては、９００〜２００００．というような高抗磁力
で高残留磁束密度のメタルテープが、使用されている。

このことはフロッピーディスク装置においても同じ傾向
にある。このような媒体に対処する磁気ヘッドは、媒体
の５〜６倍の飽和磁束密度を有するコアを用いる必要が
あり、センダスト合金コアなどのメタルコアが使われた
。しかしながら、メタルコアでは、上述のとおり、磁気
特性は、良好であるものの、従来より単結晶フェライト
コアよりも、媒体に対する耐摩耗性が悪＜、シかも加工
性でも劣る欠点がある。そこで、最近では、例えば特開
昭５６−１６９２１４号公報に示されているような、フ
ェライトコアの磁気ギャップ形成面に、センダスト薄膜
をスパッタリング形成するヘッドが考案されている。こ
のようなヘッドは、ＭＩＧヘッド（Ｍｅｔａｌ　　ｉｎ
　　Ｇａｐ　Ｈｅａｄ）と呼ばれ、フェライトが持つ耐
摩耗性や高周波特性、センダストが有する高飽和磁束密
度特性を兼ね具えたものである。

ｇ　イ しかしながら、上記したＭＩＧヘッドは、形状効果ある
いはコンタ効果と称する疑似ギャップパレスによる悪影
響が問題である。すなわち、第３図ａｓ　　ｂ＋　　Ｃ
に示すように、フェライトコア１゜２の磁気ギャップ３
の対向形成部に、センダスト薄膜４，５を形成した場合
、フェライトコア１とセンダスト薄膜４、及びフェライ
トコア２とセンダスト薄膜５との各境界６，７が、磁気
ギャップ３と平行かつ近接していることが災して、疑似
ギャップとして作用し、出力再生波形に不都合なパルス
を生じ、ノイズとなるからである。そこで、この問題を
解決するために、例えば特開昭６１−２８５７１４号公
報や特開昭８ｌ−２Ｇ７９０７号公報等に示されている
ように、境界６，７を磁気ギャップに対して非平行とす
る工夫がなされている。しかし、いずれも定性的には、
疑似ギャップを解消しようとしていると認められるもの
の、定量的な確証がな（、実用化されていない。

二゛−の この発明は、フェライト等の強磁性金属酸化物のコアブ
ロック半体の接合面に、スパッタリング技術等によって
、センダスト等の高飽和磁束密度金属薄膜を付着形成さ
せて、磁気ギャップ形成用非磁性薄膜を介して突き合わ
せ接合し、磁気ギャップを設けるに際して、コアブロッ
ク半体の金属薄膜形成面と、磁気ギャップ形成面とのな
す角度を、５°以上１２″以下に設計する点に特徴があ
る。

作」− 第４図に示すごとくセンダスト−フェライト界面がギャ
ップ面に対してθの角度をなしているとすると、松本光
功著「磁気記録」共立出版等で公知のように、界面の疑
似ギャップで再生するアジマス損失Ｌａは、 で与えられる。

ここでλは再生信号の波長、Ｗはトラック幅である。通
常フロッピーディスク装置等に用いられるトラック幅と
最長記録波長との比較Ｗ／λは１８〜１９である。

アジマス損失Ｌａと上記Ｗ／λの関係は第４図のごとく
となり、Ｗ／λ＝１８でのＬａを求めると、θ＝２°で
は６ｄＢであるが、θ＝３では一２１ｄＢ得られる。し
かしながら加工精度から考えて、±２°の角度公差は必
要であり、マージンをとってθ：５″とすると、Ｌａは
−１３，５ｄＢとなる。

一方、良く管理された工程で製造されるＭＩＧヘッドの
θ＝０°のときの疑似出力は主信号出力より、−２０ｄ
Ｂ〜−２８ｄＢ低い値となる。従って、アジマス角θ＝
５°以上とすれば、疑似出力は主信号出力より−３５，
５ａＢ以下となり、実用上問題ないレベルになる。

他方、スパッタリングにより被着されたセンダストは、
内部に１０９”　１０１１ｃＪ、ｙｒ１１ｅ／　（：ｊ
　　程度の大きな応力を持っており、センダストの厚み
が大きくなればなる程フェライトに与えるダメージは大
きく、実用上、厚さ３０μ閣が限度である。

そこで、幾何的模型で、構造を示す第６図のように、セ
ンダストの厚みをｔ、アジマス角θ、トラック幅をＷと
すると、 られる。

ここにｄは、ギヤツブ面研度しろとセンダストコア厚を
加算した値であり、通常ｄ＝１０μｍ程度が実用的であ
る。

一般にフロッピーディスク装置に用いられる磁気ヘッド
のトラック幅は大きいもので１００μ票程度であるので
第６図から許容される、アジマス角θは約１２″以下と
なる。

従って、センダスト−フェライト界面のアジマス角を、
５°より太き（１２°より小さく選ぶことにより、ＭＩ
Ｇヘッドに特有な疑似出力を実用上問題とならないレベ
ルまで低減することができるとともに、センダストの大
きな応力によるフェライトのダメージによる製造歩留低
下を最小限におさえることができる。

実」１例− 本発明の一実施例を第１図及び第２図ａ　−ｅを参照し
ながら説明する。

まずフェライトブロック８に、第２図ａのように、θ：
５°〜１２°となるよう傾斜溝９を形成する。この面に
第２図すのとおり、センダスト１０を３０μ勤程度スパ
ッタリングにより被着せしめ、第２図Ｃのように、所望
のトラック幅となるようトラック規制溝１１を形成する
。

この溝１１に第２図ｄのとおり、ガラス１２を溶融モー
ルドし、ギャップ突き合せ面を鏡面研度に仕上げギャッ
プとなる非磁性材料であるＳ　ｉ　０２等１３をスパッ
タリング等で被着する。

このようにして形成されたコアブロック半体８２つを第
２図ｅのように突き合わせ、ガラス溶着して、磁気ヘッ
ドコアブロック１４を得る。これを切断線１５に沿って
切り離し、第１図に示す磁気へラドコアチップ１６を得
る。

発１榎塾未− この発明によれば、従来よりのＭＩＧヘッドの疑似ギャ
ップ解消について、理論上からも、実用上からも、定ｌ
的に満足し得るＭＩＧヘッドが得られる。よってこの発
明は、フロッピーディスク装置や８ｍｍＶＴＲ等の高密
度記録が要求される装置の製造に大きく貢献する。また
、この発明では、強磁性金属酸化物コアと高飽和磁束密
度金属薄膜コアとの境界面自体の構造に左右されること
なく、境界面の傾斜角度規定のみで、疑似パルスの問題
を解決するので、磁気ヘッドの製造を容易にすることが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す磁気ヘッドの斜視図、 第２図は一実施例磁気ヘッドの製造プロセスを示す斜視
図ないし平面図、 第３図はａ＋　　１）＋　　Ｃは従来のＭＩＧヘッドの
斜視図、 第４図は、本発明の磁気ヘッドの作用を説明するための
ギャップ近傍の平面図、 第５図は、アジマス損失とトラック幅と最長記録波長と
の比Ｗ／λの関係を示すグラフ、第６図は、センダスト
厚とアジマス角を説明するためのギャップ近傍の幾何的
模型図、第７図は、センダスト厚とアジマス角の関係を
示すグラフ。 １．２・・・強磁性金属酸化物コア、 ３・・・磁気ギヤツブ、 ４．５・・・高飽和磁束密度金属薄膜、６．７・・・高
飽和磁束密度金属薄膜−強磁性金属酸化物、 θ・・・金属薄膜形成面と磁気ギヤツブ形成面とのなす
角度。 １１４　　図 岑え ＊５　　図 １１６ｖ！Ｊ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 一組の強磁性金属酸化物よりなるコア半体の少なくとも
   一方の接合面に、高飽和磁束密度金属薄膜を形成し、上
   記コア半体を磁気ギャップ形成用非磁性薄膜を介して突
   き合わせて接合したものにおいて、 上記コア半体の金属薄膜形成面と、磁気ギャップ形成面
   とのなす角度を、５°以上１２°以下することを特徴と
   する磁気ヘッド。