JPH0684128A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 酸化物磁性体からなる磁気コア１，２の突き
合わせ面にそれぞれ第２の磁性体として強磁性金属薄膜
３，４が配されて磁気コア半体１１，１２が構成され、
前記強磁性金属薄膜３，４の突き合わせ幅がトラック幅
規制溝１ｂ，２ｂによって規制されるとともに、該トラ
ック幅規制溝１ｂ，２ｂの外側部分においても磁性体が
突き合わされてなり、摺動面の両端部分が磁気記録媒体
摺動方向に沿ってレール加工され磁気記録媒体に対する
当たり幅が規制されてなる磁気ヘッドにおいて、上記強
磁性金属薄膜３，４の突き合わせ幅、すなわちトラック
幅Ｔｗを２５μｍ未満、トラック幅規制溝の外側部分に
おける磁性体の突き合わせ幅Ａをそれぞれ５０μｍ以下
とする。 【効果】 高密度記録が可能であるとともに高再生出力
を発揮する磁気ヘッドが得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気ギャップ近傍が軟磁
性金属薄膜で構成されるいわゆるメタル・イン・ギャッ
プ型の磁気ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録の分野においては、例えばビデ
オテープレコーダ（ＶＴＲ）等の機器の小型化や長時間
記録等の要請から、高密度記録化，短波長記録化が検討
されており、これに対応して磁気記録媒体では、いわゆ
るメタルテープや蒸着テープに見られるような高保磁力
化，高残留磁束密度化が進められている。これに伴い磁
気ヘッドに対しても当然その性能の向上が要求されてい
る。

【０００３】このような状況から、磁気コアに高飽和磁
束密度を有する軟磁性金属薄膜を配し、これら軟磁性金
属薄膜同士の突合せ部分を作動ギャップとした，いわゆ
るメタル・イン・ギャップ型の磁気ヘッドが開発され、
特に、図１５に示す構成の磁気ヘッドは、電磁変換特性
に優れるばかりか疑似ギャップの問題も少なく、ＶＴＲ
等の高密度記録を行う記録再生装置に好適なものとして
適用が検討されている。

【０００４】すなわち、上記磁気ヘッドは、酸化物磁性
体からなる磁気コア半体対１０１，１０２が接合されて
なるものである。上記磁気コア半体対１０１，１０２の
突合せ面には斜面を形成する薄膜形成溝１０１ａ，１０
２ａが溝加工されている。この薄膜形成溝１０１ａ，１
０２ａ上には強磁性金属薄膜１０３，１０４が配され、
これら強磁性金属薄膜の一端面が互いに突き合わさるこ
とによって磁気ギャップｇが形成されている。この強磁
性金属薄膜１０３，１０４が互いに突き合わさる突合せ
面の幅は薄膜形成溝１０１ａ，１０２ａに沿って形成さ
れたトラック幅規制溝１０１ｂ，１０２ｂによって所定
のトラック幅Ｔｗとされている。さらに、上記磁気ヘッ
ドにおいては、磁気記録媒体摺動面となる薄膜形成溝１
０１ａ，１０２ａと直交する面の両端部分が摺動方向に
沿ってレール加工され所定の当たり幅とされた磁気記録
媒体対接面１０５となっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、ＶＴＲ等に
おいて、記録密度の向上を図るためにはトラック幅を狭
くして磁気記録媒体単位面積当たりの記録トラック数を
増加させることが必要である。特に、近年要求されてい
る記録密度を達成するためには磁気ヘッドの記録トラッ
ク幅を少なくとも２５μｍ未満に抑えなければならな
い。

【０００６】ところが、上記構成の磁気ヘッドにおい
て、トラック幅を２５μｍ未満に抑えようとすると、結
局、上記強磁性金属薄膜の突き合わせ面積が狭くなる。
これにより、磁路の磁気抵抗が大きくなり再生出力が実
用レベルを下回るといった不都合が生じてしまう。

【０００７】そこで、本発明はこのような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、トラック幅を２５μｍ未
満とした場合でも十分な再生出力が得られる磁気ヘッド
を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の磁気ヘッドは、酸化物磁性体からなる磁
気コアの突き合わせ面にそれぞれ第２の磁性体として強
磁性金属薄膜が配されて磁気コア半体が構成され、前記
強磁性金属薄膜の突き合わせ幅がトラック幅規制溝によ
って規制されるとともに、該トラック幅規制溝の外側部
分においても磁性体が突き合わされてなり、摺動面の両
端部分が磁気記録媒体摺動方向に沿ってレール加工され
磁気記録媒体に対する当たり幅が規制されてなる磁気ヘ
ッドにおいて、上記強磁性金属薄膜のトラック幅規制溝
によって規制される突き合わせ幅が２５μｍ未満であ
り、前記トラック幅規制溝の外側部分における磁性体の
突き合わせ幅が５０μｍ以下であることを特徴とするも
のである。

【０００９】また、磁気コア半体のバック側における厚
さが１５０〜２００μｍであることを特徴とするもので
ある。さらに、トラック幅規制溝の外側部分における磁
性体の突き合わせ幅が１０〜５０μｍであることを特徴
とするものである。

【００１０】

【作用】酸化物磁性体からなる磁気コアの突き合わせ面
にそれぞれ第２の磁性体として強磁性金属薄膜が配され
て磁気コア半体が構成され、前記強磁性金属薄膜の突き
合わせ幅がトラック幅規制溝によって規制されるととも
に、該トラック幅規制溝の外側部分においても磁性体が
突き合わされてなり、摺動面の両端部分が磁気記録媒体
摺動方向に沿ってレール加工され磁気記録媒体に対する
当たり幅が規制されてなる磁気ヘッドにおいて、前記ト
ラック幅規制溝の外側部分における磁性体の突き合わせ
幅を適正化すると、磁路の磁気抵抗が調整され高再生出
力が獲得される。また、さらにバック側のヘッド厚を適
正化するとインダクタンスが調整され、実効的な再生出
力Ｅ／√Ｌ（Ｅ：再生出力，Ｌ：インダクタンス）が向
上する。

【００１１】

【実施例】以下、本発明を適用した磁気ヘッドの一実施
例を図面を参照しながら説明する。

【００１２】本実施例の磁気ヘッドは、強磁性金属薄膜
が磁気記録媒体対接面で斜めに連なってなる磁気ヘッド
であり、図１及び図２に示すように磁気コア半体１１，
１２はＭｎ−Ｚｎフェライト等の酸化物磁性体からなる
コア部１，２を主体とし、その突き合わせ部にそれぞれ
強磁性金属薄膜３，４が配されている。

【００１３】前記コア部１，２の突き合わせ面には、磁
気記録媒体対向側で見たときに斜めとなるような斜面を
形成する薄膜形成溝１ａ，２ａが溝加工されており、こ
の薄膜形成溝１ａ，２ａ上に強磁性金属薄膜３，４が成
膜されている。そして、これら強磁性金属薄膜３，４の
一端面同士が突き合わさる如く磁気コア半体１１，１２
がギャップ材を介して接合されることによって、閉磁路
が構成されるとともに、前記強磁性金属薄膜３，４の突
き合わせ面Ｅ_G に磁気ギャップｇが形成される。

【００１４】また、上記コア部１，２には、上記薄膜形
成溝１ａ，２ａに沿ってトラック幅規制溝１ｂ，２ｂが
形成されており、これによって前記強磁性金属薄膜３，
４の突き合わせ面Ｅ_G の幅が所定のトラック幅Ｔｗとな
されている。なお、この磁気ヘッドにおいては、このト
ラック幅規制溝１ｂ，２ｂの外側部分において磁性体が
突き合わさるので、強磁性金属薄膜３，４の突き合わせ
面Ｅ_G とともにこの外側部分における磁性体の突き合わ
せ面Ｅ_A によっても磁路が確保される。

【００１５】なお、上記磁気コア半体１１，１２のうち
一方の磁気コア半体１１には、コイルを巻回するための
巻線溝７が溝加工されており、前記磁気ギャップｇのデ
プスを決定すると同時に、この巻線溝７を通してコイル
を巻回することで当該磁気ヘッドに電磁誘導によって記
録信号を供給し、あるいは再生信号を取り出すようにな
っている。

【００１６】また、接合された磁気コア半体１１，１２
は、磁気記録媒体摺動面となる薄膜形成溝１ａ，２ａと
直交する面の両端部分が摺動方向に沿ってレール加工さ
れることにより所定の当たり幅の磁気記録媒体対接面８
となっており、磁気ギャップｇと平行なエッジ部によっ
て余分な信号を拾うことがないようにされている。

【００１７】かかる構造を有する磁気ヘッドでは、前記
強磁性金属薄膜３，４は、斜面を形成する薄膜形成溝１
ａ，２ａ上に成膜されることから、磁気ギャップｇを挟
んで斜めに連なるかたちとなり、いわゆるアジマス損失
によって酸化物磁性材料からなるコア部１，２と軟磁性
金属薄膜３，４との界面が磁気ギャップｇに対して疑似
ギャップとして動作する虞れはない。

【００１８】ここで、薄膜形成溝１ａ，２ａ（すなわち
強磁性金属薄膜３，４）の斜面の磁気ギャップに対する
傾斜角は、２０°〜８０°程度の範囲に設定することが
好ましい。この傾斜角が２０°以下であると、隣接トラ
ックからのクロストークが大きくなる。なお、この傾斜
角は望ましくは３０°以上とするとよい。一方、傾斜角
度が８０°を越えると、磁気ギャップ近傍部に形成され
る後述の強磁性金属薄膜の膜厚をトラック幅に等しく形
成する必要があり、真空薄膜形成技術を用いて薄膜を形
成するにあたって、多くの時間を要してしまうことや、
膜構造が不均一化してしまう点で好ましくない。

【００１９】また、薄膜形成溝１ａ，２ａ及びトラック
幅規制溝１ｂ，２ｂの幅は、作製工程における砥石加工
精度及び砥石の磨耗性の観点から４０μｍ以上であるこ
とが必要であるが、これら溝の幅をあまり大きくする
と、例えば溝内に非磁性材料としてガラスを充填する場
合に、ガラスが酸化物磁性材料よりなる磁気コアや強磁
性金属薄膜と熱膨張係数が異なることからヘッドにひび
割れが生ずる。したがって、これら溝１ａ，２ａ，１
ｂ，２ｂの幅は４０〜１４０μｍ以下とすることが好ま
しい。

【００２０】このような構成の磁気ヘッドにおいて、高
密度記録が可能なものとするためには上記トラック幅Ｔ
ｗを２５μｍ未満に設定する必要があるが、トラック幅
を２５μｍ未満とすると、強磁性金属薄膜の突き合わせ
面Ｅ_G の面積が小さくなって磁路の磁気抵抗が大きくな
り、再生出力が低下する。

【００２１】そこで、本発明では、トラック幅に関与し
ないトラック幅規制溝の外側部分における磁性体の突き
合わせ面Ｅ_A の幅Ａを適正化して磁路の磁気抵抗を調整
し、高密度記録，高再生出力の両方を達成することとす
る。さらに、実効的な再生出力は、Ｅ／√Ｌで表され、
磁気抵抗とともにインダクタンスにも依存する。したが
って、上記外側部分における磁性体の突き合わせ面Ｅ_A
の幅Ａをバック側のヘッド厚毎に適正化して、磁気抵抗
とともにインダクタンスを調整し、実効的な再生出力の
向上を図ることとする。以下に、バック側のヘッド厚が
２００μｍ，１３０μｍ，３００μｍである磁気ヘッド
について、幅Ａの適正値を例示する。

【００２２】すなわち、図３〜図５に外側部分における
磁性体の突き合わせ面Ｅ_A の幅ＡとインダクタンスＬ当
たりの再生出力Ｅ／√Ｌの関係を示す。ここで、Ｅ／√
Ｌは相対値であり、したがって各図における特性曲線は
Ｅ／√Ｌの変化傾向のみを示す。また、図３，図４，図
５は、それぞれ、外側部分における磁性体の突き合わせ
面Ｅ_A の幅Ａが０μｍであるときにバック側のヘッド厚
が２００μｍの磁気ヘッド、外側部分の突き合わせ面Ｅ
_A の幅Ａが０μｍであるときにバック側のヘッド厚が１
３０μｍの磁気ヘッド、外側部分における磁性体の突き
合わせ面Ｅ_A の幅Ａが０μｍであるときにバック側のヘ
ッド厚が３００μｍの磁気ヘッドの場合である。

【００２３】まず、図３に示すバック側のヘッド厚が２
００μｍの磁気ヘッドの特性曲線を見ると、トラック幅
が２５μｍ未満の場合では、Ｅ／√Ｌは外側部分の磁性
体の突き合わせ面Ｅ_A の幅Ａが０〜１０μｍの間で幅Ａ
の増加に伴って増大し、幅Ａが１０〜５０μｍの間でほ
ぼ一定の値を保つ。そして、幅Ａが５０μｍを越える
と、幅Ａの増加に伴って低下し、実用的なＥ／√Ｌ値を
示さなくなる。したがって、バック側のヘッド厚が２０
０μｍ、トラック幅が２５μｍ未満の磁気ヘッドでは、
外側部分における磁性体の突き合わせ面Ｅ_A の幅Ａを１
０〜５０μｍに設定する。

【００２４】なお、Ｅ／√Ｌは外側部分における磁性体
の突き合わせ面Ｅ_A の幅Ａによって増大，減少の逆の変
化を示すが、幅Ａの増加によるＥ／√Ｌの増大は磁路の
磁気抵抗が小さくなることによるものであり、幅Ａの増
加によるＥ／√Ｌの減少は磁気ヘッド自体の体積が大き
くなってインダクタンスが増加することによるものであ
る。

【００２５】因みに、トラック幅が２５μｍの場合で
は、Ｅ／√Ｌは外側部分における磁性体の突き合わせ面
Ｅ_A の幅Ａの増大に伴って低下の一途をたどる。トラッ
ク幅が２５μｍと比較的大きい場合には、磁気ギャップ
を構成する高透磁率の強磁性金属薄膜のみによって十分
に磁気抵抗が低くなっているので幅Ａを増加させてもＥ
／√Ｌはそれ以上には大きくならない。幅Ａを増加させ
ると、逆に磁気ヘッド自体の体積が大きくなることによ
ってインダクタンスが増大しＥ／√Ｌが低下する。

【００２６】次に、図４に示すバック側のヘッド厚が１
３０μｍの磁気ヘッドの特性曲線を見ると、トラック幅
が２５μｍ未満の場合では、Ｅ／√Ｌは突き合わせ面Ｅ
_A の幅Ａが０〜２０μｍの間ではほぼ一定の値を保ち、
幅Ａが２０μｍを越えると、幅Ａの増加に伴って低下
し、５０μｍを越えると実用的なＥ／√Ｌ値を示さなく
なる。したがって、ヘッド厚が１３０μｍ、トラック幅
が２５μｍ未満の磁気ヘッドでは、外側部分における磁
性体の突き合わせ面Ｅ_A の幅Ａを５０μｍ以下に設定す
る。

【００２７】さらに、図５に示すバック側のヘッド厚が
３００μｍの磁気ヘッドの特性曲線を見ると、トラック
幅が２５μｍ未満の場合では、Ｅ／√Ｌは外側部分にお
ける磁性体の突き合わせ面Ｅ_A の幅Ａの増加に伴って低
下し、５０μｍを越えると実用的なＥ／√Ｌ値を示さな
くなる。したがって、ヘッド厚が１３０μｍ、トラック
幅が２５μｍ未満の磁気ヘッドでは、外側部分における
磁性体の突き合わせ面Ｅ_A の幅Ａを５０μｍ以下に設定
する。

【００２８】なお、各磁気ヘッドのＥ／√Ｌの絶対値を
比較すると、図６に示すように、ヘッド厚が３００μｍ
のものは、ヘッド厚が２００μｍ，１３０μｍのものと
比べてＥ／√Ｌの絶対値が３〜４ｄＢ小さい。すなわ
ち、ヘッド厚は、１５０〜２００μｍとすることが好ま
しい。

【００２９】このような構成の磁気ヘッドは以下のよう
にして製造される。先ず、表面をラップ処理等により平
行度良くかつ平滑度良く加工され例えばＭｎ−Ｚｎフェ
ライトよりなる強磁性酸化物基板を用意する。そして、
図７に示すようにこの強磁性酸化物基板２１の磁気ギャ
ップ形成面に対応する上面２１ａに斜面２３を有する薄
膜形成溝２２を回転砥石加工等により全幅に亘って複数
平行に形成する。

【００３０】次いで、上記強磁性酸化物基板２１に対
し、真空薄膜形成技術により強磁性金属を被着し、図８
に示すように上記薄膜形成溝２２上に強磁性金属薄膜２
５を形成する。

【００３１】上記強磁性金属薄膜２５の材質としては、
強磁性非晶質金属合金いわゆるアモルファス合金（たと
えば、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｏの一つ以上の元素とＰ，Ｃ，
Ｂ，Ｓｉの一つ以上の元素からなる合金または、これを
主成分としＡｌ，Ｇｅ，Ｂｅ，Ｓｎ，Ｉｎ，Ｍｏ，Ｗ，
Ｔｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｎｂ等を含んだ合
金）、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金であるセンダスト合金、
Ｆｅ−Ａｌ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ系合金、パーマロイ等が
使用可能であり、その膜付け方法としても、フラッシュ
蒸着、ガス中蒸着、イオンプレーティング、スパッタリ
ング、クラスター・イオンビーム法等に代表される真空
薄膜形成技術が採用される。

【００３２】そして、図９に示すように、上記強磁性酸
化物基板２１の強磁性金属薄膜２５によって覆われた薄
膜形成溝２２内に、ガラス等の非磁性材２６を充填し、
その上面２１ａの余分な強磁性金属薄膜２５を平面研削
して除去する。

【００３３】さらに、図１０に示すように、強磁性金属
薄膜２５を被着した斜面２３と隣接し、上記薄膜形成溝
２２と平行な複数のトラック幅規制溝２７を形成する。
この時、上記トラック幅規制溝２７の位置はこの溝２７
が上記斜面２３上に形成される強磁性金属薄膜２５の端
部とほぼ一致するように設定されている。次いで上面２
１ａを平面研磨し、さらに鏡面仕上げを行い、トラック
幅Ｔｗの矯正を行うとともに、上面２１ａすなわち磁気
ギャップ形成面に薄膜形成溝２２とトラック幅規制溝２
７によりトラック幅が規制された強磁性金属薄膜２５が
臨むようなコアブロック３５を作成する。

【００３４】以上の工程により、図１０に示すコアブロ
ック３５を２個作製する。そして、これら一対のコアブ
ロック３５，３５のうち一方のブロック３５に対し、図
１１に示すように、上記薄膜形成溝２２及びトラック幅
規制溝２７に直交するような巻線溝３１とガラス溝３２
を平行に形成し、コアブロック３６を作成する。

【００３５】次に、図１０に示すコアブロック３５の磁
気ギャップ形成面となる上面３５ａと図１１に示すよう
に巻線溝３１及びガラス溝を設けたコアブロック３６の
磁気ギャップ形成面となる上面３６ａとを、これら上面
３５ａ，３６ａのいずれか一方に膜付けされるギャップ
スペーサを介して、図１２に示すように、それぞれの磁
気ギャップ形成面に臨む強磁性金属薄膜１５，１５が一
致するように重ね合わせる。そして、巻線溝３１とガラ
ス溝３２からガラス等の非磁性材３３を溶融しこれら一
対のコアブロック３５，３６を融着するとともに非磁性
材３３を各トラック幅規制溝２７内に充填する。なお、
上記ギャップスペーサとしては、ＳｉＯ₂ ，ＺｒＯ₂ ，
Ｔａ₂ Ｏ₃ ，Ｃｒ等を用いることができる。

【００３６】最後に、ガラス融着によりコアブロック３
５，３６を一体化して切断加工し、磁気ヘッドとする。
まず、バックギャップ側のガラス融着用に設けられたガ
ラス溝３２付近を切断除去する。そして、磁気記録媒体
対接面の端部と磁気ヘッドの端部となる位置（すなわ
ち、外側部分の突き合わせ面Ｅ_A の幅Ａが所定の値とな
る位置）を規制し、これら規制位置に基づいて図１３に
示すように外側部分の突き合わせ面形成溝３７を形成す
る。そして、外側部分の突き合わせ面形成溝３７内のａ
−ａ線、ａ’−ａ’線の位置でスライシング加工して複
数個のヘッドチップを切り出した後、磁気記録媒体対接
面を円筒研磨して図１４に示すような磁気ヘッドが製造
される。

【００３７】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明においては、酸化物磁性体からなる磁気コアの突き合
わせ面にそれぞれ第２の磁性体として強磁性金属薄膜が
配されて磁気コア半体が構成され、前記強磁性金属薄膜
の突き合わせ幅がトラック幅規制溝によって規制される
とともに、該トラック幅規制溝の外側部分においても磁
性体が突き合わされてなり、摺動面の両端部分が磁気記
録媒体摺動方向に沿ってレール加工され磁気記録媒体に
対する当たり幅が規制されてなる磁気ヘッドにおいて、
トラック幅規制溝の外側部分における酸化物磁性体及び
強磁性金属薄膜の突き合わせ幅を５０μｍ以下としてい
るので、トラック幅を２５μｍ未満とした場合でも高再
生出力が獲得できる。

【００３８】したがって、本発明によれば、ＶＴＲ等に
おいて、磁気記録媒体単位面積当たりの記録トラック数
を増加させることが可能となり、高密度記録化が達成さ
れることとなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ヘッドを示す斜視図である。

【図２】上記磁気ヘッドを磁気記録媒体対接面側から見
た平面図である。

【図３】突き合わせ面Ｅ_A の幅Ａが０μｍであるときに
バック側のヘッド厚が１３０μｍの磁気ヘッドにおける
突き合わせ面Ｅ_A の幅ＡとインダクタンスＬ当たりの再
生出力Ｅ／√Ｌの関係を示す特性図である。

【図４】突き合わせ面Ｅ_A の幅Ａが０μｍであるときに
バック側のヘッド厚が２００μｍの磁気ヘッドにおける
突き合わせ面Ｅ_A の幅ＡとインダクタンスＬ当たりの再
生出力Ｅ／√Ｌの関係を示す特性図である。

【図５】突き合わせ面Ｅ_A の幅Ａが０μｍであるときに
バック側のヘッド厚が３００μｍの磁気ヘッドにおける
突き合わせ面Ｅ_A の幅ＡとインダクタンスＬ当たりの再
生出力Ｅ／√Ｌの関係を示す特性図である。

【図６】各種ヘッド厚の磁気ヘッドのＥ／√Ｌの絶対値
を示す特性図である。

【図７】薄膜形成溝形成工程を示す斜視図である。

【図８】強磁性金属薄膜成膜工程を示す斜視図である。

【図９】非磁性材充填工程を示す斜視図である。

【図１０】トラック幅規制溝形成工程を示す斜視図であ
る。

【図１１】巻き線溝及びガラス溝形成工程を示す斜視図
である。

【図１２】コアブロック接合工程を示す斜視図である。

【図１３】磁気記録媒体対接面形成工程を示す斜視図で
ある。

【図１４】作製された磁気ヘッドを示す斜視図である。

【図１５】従来の磁気ヘッドを磁気記録媒体対接面側か
ら見た平面図である。

【符号の説明】

１１，１２・・・磁気コア半体 １，２ ・・・コア部 １ａ，２ａ・・・薄膜形成溝 １ｂ．２ｂ・・・トラック幅規制溝 ３，４ ・・・強磁性金属薄膜 ８ ・・・磁気記録媒体対接面

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 酸化物磁性体からなる磁気コアの突き合
   わせ面にそれぞれ第２の磁性体として強磁性金属薄膜が
   配されて磁気コア半体が構成され、前記強磁性金属薄膜
   の突き合わせ幅がトラック幅規制溝によって規制される
   とともに、該トラック幅規制溝の外側部分においても磁
   性体が突き合わされてなり、摺動面の両端部分が磁気記
   録媒体摺動方向に沿ってレール加工され磁気記録媒体に
   対する当たり幅が規制されてなる磁気ヘッドにおいて、 上記強磁性金属薄膜のトラック幅規制溝によって規制さ
   れる突き合わせ幅が２５μｍ未満であり、前記トラック
   幅規制溝の外側部分における磁性体の突き合わせ幅が５
   ０μｍ以下であることを特徴とする磁気ヘッド。
2. 【請求項２】 磁気コア半体のバック側における厚さが
   １５０〜２００μｍであることを特徴とする請求項１記
   載の磁気ヘッド。
3. 【請求項３】 トラック幅規制溝の外側部分における磁
   性体の突き合わせ幅が１０〜５０μｍであることを特徴
   とする請求項２記載の磁気ヘッド。