JPH01290258A - 密着型等倍センサ - Google Patents
密着型等倍センサInfo
- Publication number
- JPH01290258A JPH01290258A JP63119363A JP11936388A JPH01290258A JP H01290258 A JPH01290258 A JP H01290258A JP 63119363 A JP63119363 A JP 63119363A JP 11936388 A JP11936388 A JP 11936388A JP H01290258 A JPH01290258 A JP H01290258A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- receiving element
- transparent
- resistant film
- contact type
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は、文字を含む画情報担持体に密着的に接触しな
がら、その画情報を光学的手段と光電変換素子とをもっ
て電気信号に変換する密着型等倍センサに関する。
がら、その画情報を光学的手段と光電変換素子とをもっ
て電気信号に変換する密着型等倍センサに関する。
このセンサはファクシミリにおける画情報読取用に用い
られる他、各種ＯＡ機器の画像入力装置、紙幣鑑別装置
等に応用される。
られる他、各種ＯＡ機器の画像入力装置、紙幣鑑別装置
等に応用される。
従来の読取装置は、原稿を発光源で均一に照射し、反射
光をレンズ系によって、光電変換素子に結像させていた
。この装置では、長尺の原稿の結像には長い光路が必要
となる。また、原稿の端部の画像の歪の発生等の欠点を
有する。
光をレンズ系によって、光電変換素子に結像させていた
。この装置では、長尺の原稿の結像には長い光路が必要
となる。また、原稿の端部の画像の歪の発生等の欠点を
有する。
この欠点を解決するために、第４図に示すような密着型
等倍センサが提案されている。
等倍センサが提案されている。
この密着型等倍センサは、透明基板５上に蒸着、ＣＶＤ
あるいは写真技術により所定幅の受光素子片６を等間隔
で直線的に配列した受光素子列が形成されており、この
ように形成した受光素子列が透明保ｇ１層８で覆われて
いる。透明保護層８は光路も兼ねるため、その厚さ及び
構成は重要な要素となる。
あるいは写真技術により所定幅の受光素子片６を等間隔
で直線的に配列した受光素子列が形成されており、この
ように形成した受光素子列が透明保ｇ１層８で覆われて
いる。透明保護層８は光路も兼ねるため、その厚さ及び
構成は重要な要素となる。
透明保護層８は受光素子片６を保護し、原稿１との摩擦
に耐え、劣化を防ぐ目的がある。この透明保護層８の構
成には、直接、蒸着やＣＶＤあるいは化学的手法によっ
て形成するものと、蒸着やＣＶＤあるいは化学的手法に
よって透明耐摩耗膜を付けた薄板ガラスを接着したもの
とがある。前者では、必要とする膜厚となるまでに時間
と費用がかかり実用的でない。また、保護層が応力を持
ち、受光素子を傷めたり、クラックの入る場合もある。
に耐え、劣化を防ぐ目的がある。この透明保護層８の構
成には、直接、蒸着やＣＶＤあるいは化学的手法によっ
て形成するものと、蒸着やＣＶＤあるいは化学的手法に
よって透明耐摩耗膜を付けた薄板ガラスを接着したもの
とがある。前者では、必要とする膜厚となるまでに時間
と費用がかかり実用的でない。また、保護層が応力を持
ち、受光素子を傷めたり、クラックの入る場合もある。
本発明の詳細な説明保護層８は後者の構成であり、透明
接着剤層４、薄板ガラス３、透明耐摩耗膜２を順次積層
して構成されている。尚、図において７は発光源である
。
接着剤層４、薄板ガラス３、透明耐摩耗膜２を順次積層
して構成されている。尚、図において７は発光源である
。
しかしながら、従来例に係るこの形式の透明保護層８に
おいても多層構造となるため、分解能の低下やＭＴＦの
低下などの問題がある。
おいても多層構造となるため、分解能の低下やＭＴＦの
低下などの問題がある。
本発明は、センサの保護層が、耐摩耗膜付き薄板ガラス
で構成された型式の密着型等倍センサを前提とし、上記
従来例の欠点を解消し、分解能の向上を計ることを目的
とする。
で構成された型式の密着型等倍センサを前提とし、上記
従来例の欠点を解消し、分解能の向上を計ることを目的
とする。
この目的を達成するために、本発明は、受光素子片と略
同幅の透明耐摩耗膜片を等間隔で薄板ガラス上に配置し
たことを特徴とする。
同幅の透明耐摩耗膜片を等間隔で薄板ガラス上に配置し
たことを特徴とする。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。尚、
従来例と同一個所は同一符号とする。
従来例と同一個所は同一符号とする。
第１図は本発明の一実施例に係る密着型等倍センサの縦
断面図、第２図はその外観図、第３図は他の実施例に係
る密着型等倍センサの縦断面図である。
断面図、第２図はその外観図、第３図は他の実施例に係
る密着型等倍センサの縦断面図である。
まず第１図、第２図において、透明基板５上に、ＣＶＤ
あるいは写真技術によって受光素子片６が直線的に配列
形成されており、その上に１０μｍ以下の厚さの透明接
着剤層４を介して、５０μｍ以下の厚さの薄板ガラス３
を設ける。さらにこの薄板ガラス３の上に受光素子片６
の幅と同じ幅の透明耐摩耗膜片９を１μｍ程度の厚さに
ＣＶＤ、写真技術によって形成し、これを受光素子片６
の配列と等間隔で配列する。従って、各透明耐摩耗膜片
９の間にはスリット１０が形成される。
あるいは写真技術によって受光素子片６が直線的に配列
形成されており、その上に１０μｍ以下の厚さの透明接
着剤層４を介して、５０μｍ以下の厚さの薄板ガラス３
を設ける。さらにこの薄板ガラス３の上に受光素子片６
の幅と同じ幅の透明耐摩耗膜片９を１μｍ程度の厚さに
ＣＶＤ、写真技術によって形成し、これを受光素子片６
の配列と等間隔で配列する。従って、各透明耐摩耗膜片
９の間にはスリット１０が形成される。
耐摩耗膜片９は、透明で耐摩耗性の高い物質、例えば窒
化珪素、酸化タンタルなどであれば、何れを使用しても
良い。また、スリット形状は、写真技術やメタルマスク
の使用などで簡単に形成出来る。
化珪素、酸化タンタルなどであれば、何れを使用しても
良い。また、スリット形状は、写真技術やメタルマスク
の使用などで簡単に形成出来る。
このように耐摩耗膜片９を等間隔に部分形成すれば、耐
摩耗膜片９の屈折率と空気屈折率の違いで、原稿１から
の反射光の隣接受光素子片６へのクロストーク防止にも
効果がある。
摩耗膜片９の屈折率と空気屈折率の違いで、原稿１から
の反射光の隣接受光素子片６へのクロストーク防止にも
効果がある。
第１図、第２図に示す実施例では、受光素子片６と耐摩
耗膜片９とが重なるように配置しているが、第３図に示
すように、受光素子片６と耐摩耗膜片９が重ならないよ
うに位置をずらして配置しても良い、言い換えるとスリ
ット１０と受光素子片６が重なるように設けても良い。
耗膜片９とが重なるように配置しているが、第３図に示
すように、受光素子片６と耐摩耗膜片９が重ならないよ
うに位置をずらして配置しても良い、言い換えるとスリ
ット１０と受光素子片６が重なるように設けても良い。
保護層の厚さについては、薄板ガラス３の厚さを５０μ
ｍ以下とし、接着剤Ｎ４の厚さを１０μｍ以下とするこ
とで、ＭＴＦ５０％を確保出来た。
ｍ以下とし、接着剤Ｎ４の厚さを１０μｍ以下とするこ
とで、ＭＴＦ５０％を確保出来た。
これを満足させる薄板ガラスには、市販のものとして、
５ＣＨＯＴＴ社Ｄ２６３、Ｃ０ＲＮ Ｉ ＮＧ社＃０２
１１、日本電気硝子＠ＢＣＬ等があるが、何れを使用し
ても差し支えない。
５ＣＨＯＴＴ社Ｄ２６３、Ｃ０ＲＮ Ｉ ＮＧ社＃０２
１１、日本電気硝子＠ＢＣＬ等があるが、何れを使用し
ても差し支えない。
接着剤層４は、原稿搬送装置からの力や原稿と耐摩耗層
の摩擦力などの外力を緩衝させる働きも持つため、極端
に薄くすることは得策でない。実施例では接着剤層厚さ
を１１０１ＪでＭＴＦ５０％を満足している。
の摩擦力などの外力を緩衝させる働きも持つため、極端
に薄くすることは得策でない。実施例では接着剤層厚さ
を１１０１ＪでＭＴＦ５０％を満足している。
また使用する接着剤は、エポキシ系、アクリル系、シリ
コン系など透明度の高いものが使用出来る。実施例では
紫外線硬化型アクリル系接着剤を使用した。
コン系など透明度の高いものが使用出来る。実施例では
紫外線硬化型アクリル系接着剤を使用した。
一方、耐摩耗膜片９の厚さは、２μｍ以下とすれば、ス
リット１０へのダスト溜まりは殆ど起こらない。また、
仮にダストが発生しても、原稿搬送によってセンサ上か
ら除去されるので、ダストに関してメンテナンスフリー
となる。
リット１０へのダスト溜まりは殆ど起こらない。また、
仮にダストが発生しても、原稿搬送によってセンサ上か
ら除去されるので、ダストに関してメンテナンスフリー
となる。
本発明は以上述べた通りであり、本発明によれば、分解
能の高い密着型等倍センサを得ることが出来る。
能の高い密着型等倍センサを得ることが出来る。
第１図は本発明の一実施例に係る密着型等倍センサの縦
断面図、第２図はその外観図、第３図は他の実施例に係
る密着型等倍センサの縦断面図、第４図は従来例に係る
密着型等倍センサの縦断面図である。 ５・・・透明基板、６・・・受光素子片、９・・・透明
耐摩耗膜片、３・・・薄板ガラス、４・・・透明接着剤
層。 第１図 第２図
断面図、第２図はその外観図、第３図は他の実施例に係
る密着型等倍センサの縦断面図、第４図は従来例に係る
密着型等倍センサの縦断面図である。 ５・・・透明基板、６・・・受光素子片、９・・・透明
耐摩耗膜片、３・・・薄板ガラス、４・・・透明接着剤
層。 第１図 第２図
Claims (3)
- （１）透明基板上に所定幅の受光素子片を等間隔で配置
した受光素子列を設け、さらに透明接着剤層、薄板ガラ
ス、透明耐摩耗膜を順次積層して構成された密着型等倍
センサにおいて、上記受光素子片と略同幅の透明耐摩耗
膜片を等間隔で薄板ガラス上に配置したことを特徴とす
る密着型等倍センサ。 - （２）上記受光素子片と透明耐摩耗膜片を重なるように
配置したことを特徴とする請求項（１）記載の密着型等
倍センサ。 - （３）上記受光素子片と透明耐摩耗膜片が重ならないよ
うに互い違いに配置したことを特徴とする請求項（１）
記載の密着型等倍センサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63119363A JPH01290258A (ja) | 1988-05-18 | 1988-05-18 | 密着型等倍センサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63119363A JPH01290258A (ja) | 1988-05-18 | 1988-05-18 | 密着型等倍センサ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01290258A true JPH01290258A (ja) | 1989-11-22 |
Family
ID=14759645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63119363A Pending JPH01290258A (ja) | 1988-05-18 | 1988-05-18 | 密着型等倍センサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01290258A (ja) |
-
1988
- 1988-05-18 JP JP63119363A patent/JPH01290258A/ja active Pending
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