JPH01294551A - 粉体による基板、特に、ガラスリボンの被覆方法及び装置 - Google Patents
粉体による基板、特に、ガラスリボンの被覆方法及び装置Info
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- JPH01294551A JPH01294551A JP1019917A JP1991789A JPH01294551A JP H01294551 A JPH01294551 A JP H01294551A JP 1019917 A JP1019917 A JP 1019917A JP 1991789 A JP1991789 A JP 1991789A JP H01294551 A JPH01294551 A JP H01294551A
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C24/02—Coating starting from inorganic powder by application of pressure only
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、スリットで終わる分配ノズルによって、特に
高温基板と接触して熱分解して上記基板上に薄い被覆層
を生成する粉体生成物と混合されたガス流を上記高温基
板上に放射する方法による基板（特に、ガラスリボン）
の被覆に関する。
高温基板と接触して熱分解して上記基板上に薄い被覆層
を生成する粉体生成物と混合されたガス流を上記高温基
板上に放射する方法による基板（特に、ガラスリボン）
の被覆に関する。
この種の技術は、例えば、板ガラスの製造ラインにおい
て、金属化合物の熱分解から生じて、特に、光およびエ
ネルギーの反射およびまたは透過に関して、特殊な品質
をガラスに与える金属酸化物層を製造直後のガラスリボ
ンに被覆するのに使用される。
て、金属化合物の熱分解から生じて、特に、光およびエ
ネルギーの反射およびまたは透過に関して、特殊な品質
をガラスに与える金属酸化物層を製造直後のガラスリボ
ンに被覆するのに使用される。
例えば、フッ素をドープした酸化スズから成る赤外線反
射層を得るには、欧州特許００３９２５６号に記載の如
き粉体状態のハロゲン化合物を使用する。
射層を得るには、欧州特許００３９２５６号に記載の如
き粉体状態のハロゲン化合物を使用する。
粉体生成物を懸濁させたガス流を高温ガラスリボンに放
射した場合、粉体の一部は、ガラス上にとどまり、高温
作用を受けて分解して、所望の金属酸化物層を形成する
。設備および形成層の汚染を避けるため、放射ノズルか
ら離して上記ノズルに平行に設置した吸引装置によって
粉体の別の部分を被覆ゾーン外に排出する。
射した場合、粉体の一部は、ガラス上にとどまり、高温
作用を受けて分解して、所望の金属酸化物層を形成する
。設備および形成層の汚染を避けるため、放射ノズルか
ら離して上記ノズルに平行に設置した吸引装置によって
粉体の別の部分を被覆ゾーン外に排出する。
高温ガラスリボンによって捕捉される粉体の割合を増大
するために、欧州特許公報１８８．９６２号には、分配
ノズルと吸引装置との間に粉体を含むガスの少くとも１
つの渦流を形成、維持することが提案されている。この
回転循環によって、基板に捕捉されない粉体粒子は、最
短経路を経て吸引装置に直接に送られることはなく、逆
に、基板の被覆ゾーンの停滞時間が延長され、粒子が、
多数回、上記基板の表面を掃過して沈着確率が著しく増
大されるように、回転駆動される。
するために、欧州特許公報１８８．９６２号には、分配
ノズルと吸引装置との間に粉体を含むガスの少くとも１
つの渦流を形成、維持することが提案されている。この
回転循環によって、基板に捕捉されない粉体粒子は、最
短経路を経て吸引装置に直接に送られることはなく、逆
に、基板の被覆ゾーンの停滞時間が延長され、粒子が、
多数回、上記基板の表面を掃過して沈着確率が著しく増
大されるように、回転駆動される。
１つ（または複数）の渦流を形成できるように、被覆ゾ
ーンは大寸法であり、複数回の高温ガス放射を上記ゾー
ンで行い、かくして、基板は、上記ゾーンの全長さにわ
たって、接触する粉体化合物の熱分解を促進するのに十
分な温度となる。
ーンは大寸法であり、複数回の高温ガス放射を上記ゾー
ンで行い、かくして、基板は、上記ゾーンの全長さにわ
たって、接触する粉体化合物の熱分解を促進するのに十
分な温度となる。
しかしながら、特殊な若干の粉体生成物の場合、形成さ
れた薄層が、ある種のヴ工−ルを有し、即ち、薄層を被
覆したガラスで反射されたまたは上記ガラスを透過した
物体像は、ヴエールを通過したように見える。上記ヴ工
−ルは、分配ノズルから出た主粉体生成物流の両側にあ
り、被覆ゾーンの高温雰囲気中で分解され、形成された
層に混入されＩ；粉体生成物粒子に帰因する。
れた薄層が、ある種のヴ工−ルを有し、即ち、薄層を被
覆したガラスで反射されたまたは上記ガラスを透過した
物体像は、ヴエールを通過したように見える。上記ヴ工
−ルは、分配ノズルから出た主粉体生成物流の両側にあ
り、被覆ゾーンの高温雰囲気中で分解され、形成された
層に混入されＩ；粉体生成物粒子に帰因する。
沈着ゾーンにある上記の微細粒子は、しばしば、分配ノ
ズルの下方の通過時、粉体流および混合ガスの組合せ作
用と粉体粒子の急速分解に起因するブロー作用とによっ
て、基板から駆除される。しかしながら、ある種の粉体
は、十分なブロー作用を生ぜず、従って、形成された層
上にヴエールが生ずる。
ズルの下方の通過時、粉体流および混合ガスの組合せ作
用と粉体粒子の急速分解に起因するブロー作用とによっ
て、基板から駆除される。しかしながら、ある種の粉体
は、十分なブロー作用を生ぜず、従って、形成された層
上にヴエールが生ずる。
本発明の目的は、例えば、スズおよびまたはインジウム
を主成分とする粉体金属化合物、特に、酸化ジブチルス
ズ（ＤＢＴＯ） 、７ツ化ジブチルスズ（ＤＢＴＦ）
、ギ酸インジウム等を主成分とする粉体化合物の熱分解
によって得られる、基板（例えば、ガラス）上に沈着さ
れた薄層上に、場合によっては現れる上記ヴエールを抑
制するまたは少くとも減少することにある。
を主成分とする粉体金属化合物、特に、酸化ジブチルス
ズ（ＤＢＴＯ） 、７ツ化ジブチルスズ（ＤＢＴＦ）
、ギ酸インジウム等を主成分とする粉体化合物の熱分解
によって得られる、基板（例えば、ガラス）上に沈着さ
れた薄層上に、場合によっては現れる上記ヴエールを抑
制するまたは少くとも減少することにある。
このため、本発明にもとづき、高温に保持した被覆すべ
き基板上に、スリット式ノズルから、ガス中に懸濁させ
た熱分解性粉体生成物を散布し、粉体／ガス混合物流の
近傍において低温の、一般に、加熱されないガス流を導
入し、ノズルから放射された流れ外の基板で捕捉されな
い粉体を直ちに吸引することを提案する。
き基板上に、スリット式ノズルから、ガス中に懸濁させ
た熱分解性粉体生成物を散布し、粉体／ガス混合物流の
近傍において低温の、一般に、加熱されないガス流を導
入し、ノズルから放射された流れ外の基板で捕捉されな
い粉体を直ちに吸引することを提案する。
有利なことには、本発明にもとづき、更に、ノズルノー
ズの近傍にデフレクタを設けることによって、ノズルか
ら放射された流れ外の基板で捕捉されない粉体粒子の循
環および排出を促進し、かくして、渦流の形成を避ける
ことを提案する。
ズの近傍にデフレクタを設けることによって、ノズルか
ら放射された流れ外の基板で捕捉されない粉体粒子の循
環および排出を促進し、かくして、渦流の形成を避ける
ことを提案する。
有利なことには、本発明にもとづき、基板近傍における
２重吸引を提案する。
２重吸引を提案する。
本発明にもとづき、更に、スリットで終わり、粉体／ガ
ス混合物を基板（特に、ガラス）に放射する分配ノズル
と、上記基板で捕捉されない粉体を直接に吸引するよう
にノズルおよび基板の近傍に設けてあって高温ガスのブ
ローランプで囲まれた吸引手段と、ノズルの分配スリッ
トの各側の低温ガス供給路とを含む被覆チャンバを提案
する。
ス混合物を基板（特に、ガラス）に放射する分配ノズル
と、上記基板で捕捉されない粉体を直接に吸引するよう
にノズルおよび基板の近傍に設けてあって高温ガスのブ
ローランプで囲まれた吸引手段と、ノズルの分配スリッ
トの各側の低温ガス供給路とを含む被覆チャンバを提案
する。
好ましくは、基板で捕捉されない粉体の渦流を完全に避
けるため、被覆チャンバは、分配スリットに平行にスリ
ットの全長にわたって且つスリット近傍に設置したデフ
レクタ（例えば、バー）を有する。
けるため、被覆チャンバは、分配スリットに平行にスリ
ットの全長にわたって且つスリット近傍に設置したデフ
レクタ（例えば、バー）を有する。
さて、ガラスリボンの被覆チャンバを示す唯一つの図面
を参照して本発明の詳細な説明する。
を参照して本発明の詳細な説明する。
よく知られているように、良品質の被覆は、ノズルの分
配スリットから直接に放射された粉体、即ち、上記スリ
ットから放射された主粉体・ガス流に含まれる粉体を基
板に沈着することによってのみ得られる。ノズルから直
接に放射されておらず、側方へ分散する、被覆チャンバ
の高温雰囲気内で分解できる粉体は、本発明の概念にお
いて、層の形成に関与してはならない。
配スリットから直接に放射された粉体、即ち、上記スリ
ットから放射された主粉体・ガス流に含まれる粉体を基
板に沈着することによってのみ得られる。ノズルから直
接に放射されておらず、側方へ分散する、被覆チャンバ
の高温雰囲気内で分解できる粉体は、本発明の概念にお
いて、層の形成に関与してはならない。
分配スリットから直接に放射された主流れに含まれず、
いわゆる側方流に含まれる上記粉体部分が分解して、主
流れの粉体から形成された層に混入する微粒子を構成す
るのを避けるため、本発明にもとづき、ヴエール発生源
の微粒子の分解を防止し、上記微粒子を迅速に除去する
ことを提案する。
いわゆる側方流に含まれる上記粉体部分が分解して、主
流れの粉体から形成された層に混入する微粒子を構成す
るのを避けるため、本発明にもとづき、ヴエール発生源
の微粒子の分解を防止し、上記微粒子を迅速に除去する
ことを提案する。
このための方法をこのために設計した設備の説明と組合
せて以下に説明する。
せて以下に説明する。
図示の被覆チャンバｌは、本質的に、被覆すべき基板３
に対向する先細の下部が縦方向スリット４で終わる粉体
／ガス混合物放射ノズル２を含む。
に対向する先細の下部が縦方向スリット４で終わる粉体
／ガス混合物放射ノズル２を含む。
このノズル２は、欧州特許１２５．１５３号の対象であ
り、ここでは説明しない。
り、ここでは説明しない。
このノズルは、大きいエネルギーを有する主粉体・ガス
流を分配する。この大きいエネルギーは、基板に完全に
付着する良品質の被覆層の形成に寄与する。
流を分配する。この大きいエネルギーは、基板に完全に
付着する良品質の被覆層の形成に寄与する。
基板３は、例えば、フロート法で作られ、ローラ５で移
送されてノズル２に対向して流れるガラスリボンである
。基板３は、ガラスである場合、６００℃程度の温度に
ある。
送されてノズル２に対向して流れるガラスリボンである
。基板３は、ガラスである場合、６００℃程度の温度に
ある。
よく知られているように、被覆チャンバ１は、ノズル２
の上流および下流で、高温ガスのブローランプ６で囲ま
れている。ここで、上流および下流は、被覆すべきガラ
スリボンの進行方向に依存して定める。上記ランプ６は
、基板３の表面の近傍に高温ガスをブローする。
の上流および下流で、高温ガスのブローランプ６で囲ま
れている。ここで、上流および下流は、被覆すべきガラ
スリボンの進行方向に依存して定める。上記ランプ６は
、基板３の表面の近傍に高温ガスをブローする。
よく知られているように、被覆チャンバｌは、更に、基
板上に保持されない粉体生成物を排出する吸引手段７を
有する。本発明に係るチャンバｌは、更に、ノズル２の
各側で放射スリット４の近傍に開口する、低温の、即ち
、加熱されないガス（概ね、空気）の供給路８を有する
。上記供給路８は、大気と連通するか、所望であれば、
制御された雰囲気を有するチャンバと連通する。スリッ
ト４から出る高エネルギーのガス／粉体流は、近くの空
気を吸引し、特に、供給路８から導入された空気または
ガスの循環を促進する。スリット４から放射された主流
れに隣接して導入された上記空気（またはガス）は、上
記流れを妨害せず、周囲の冷却を行い、かくして、主流
れから逃げて、ノズル２の上流および下流に分配された
いわゆる側方流内に側方へ分散された粉体が熱分解する
のを防止する。
板上に保持されない粉体生成物を排出する吸引手段７を
有する。本発明に係るチャンバｌは、更に、ノズル２の
各側で放射スリット４の近傍に開口する、低温の、即ち
、加熱されないガス（概ね、空気）の供給路８を有する
。上記供給路８は、大気と連通するか、所望であれば、
制御された雰囲気を有するチャンバと連通する。スリッ
ト４から出る高エネルギーのガス／粉体流は、近くの空
気を吸引し、特に、供給路８から導入された空気または
ガスの循環を促進する。スリット４から放射された主流
れに隣接して導入された上記空気（またはガス）は、上
記流れを妨害せず、周囲の冷却を行い、かくして、主流
れから逃げて、ノズル２の上流および下流に分配された
いわゆる側方流内に側方へ分散された粉体が熱分解する
のを防止する。
側方流に含まれる上記粉体は、次いで、一方では、被覆
層の形成に参加するのが避けられ、他方では、設備の壁
に堆積、汚染し、分離して被覆層上に欠陥を生ずる危険
性が避けられるように、できる限り迅速に且つ直ちに排
出する。
層の形成に参加するのが避けられ、他方では、設備の壁
に堆積、汚染し、分離して被覆層上に欠陥を生ずる危険
性が避けられるように、できる限り迅速に且つ直ちに排
出する。
上述の吸引手段７は、基板上に補足されない粉体を迅速
に且つ直ちに排出するように、構成、配置しである。
に且つ直ちに排出するように、構成、配置しである。
上記吸引手段は、ノズル２のノーズの近傍で吸引を行う
よう設置してあり、従って、粉体が沈着するおよび／ま
たは渦流を形成するスペースは生じない。
よう設置してあり、従って、粉体が沈着するおよび／ま
たは渦流を形成するスペースは生じない。
利用されない粉体の排出を改善するため、主流れの各側
に２重の吸引レベルを形成する。第１吸引ケーソン１０
は、ノズル２の近傍に設けてあり、ノズルのノーズとほ
ぼ同一のレベルまで基板３の近傍に下降する。上記ケー
ソンは、ケーソンｌＯの下面を閉じる５１１２に設けた
開口１１を介して被覆ゾーンと連通ずる。この壁１２は
、基板の平面に対して僅かに傾斜しており、この１１１
２の先端は、ノズルに近づくにつれて基板に近づく。
に２重の吸引レベルを形成する。第１吸引ケーソン１０
は、ノズル２の近傍に設けてあり、ノズルのノーズとほ
ぼ同一のレベルまで基板３の近傍に下降する。上記ケー
ソンは、ケーソンｌＯの下面を閉じる５１１２に設けた
開口１１を介して被覆ゾーンと連通ずる。この壁１２は
、基板の平面に対して僅かに傾斜しており、この１１１
２の先端は、ノズルに近づくにつれて基板に近づく。
設備の対称性を考慮して、即ち、ノズルを通る、更に正
確に云えば、スリット４を通る対称面を考慮して、２つ
のケーソンｌＯは、上流および下流にノズル２に平行に
設置しである。
確に云えば、スリット４を通る対称面を考慮して、２つ
のケーソンｌＯは、上流および下流にノズル２に平行に
設置しである。
第２の吸引レベルは、ケーソン１０よりも離れた第２ケ
ーソン１３から構成される。
ーソン１３から構成される。
更に、使用されない粉体を渦流なく吸引ケーソン１０，
１３へ更に効果的に循環、排出するため、デフレクタ１
４（例えば、バー）をノズルのノーズの近傍に設けるこ
とができる。
１３へ更に効果的に循環、排出するため、デフレクタ１
４（例えば、バー）をノズルのノーズの近傍に設けるこ
とができる。
上記デフレクタは、スリット４の全長にわたって、特に
、上記スリット４に平行に配置しである。
、上記スリット４に平行に配置しである。
更に、吸引ケーソンの壁の下面、特に、ケーソンｌＯの
下面と傾斜壁１２との結合部は、基板に捕捉されない粉
体の排出および吸引を促進する形状に構成されている。
下面と傾斜壁１２との結合部は、基板に捕捉されない粉
体の排出および吸引を促進する形状に構成されている。
更に、基板に捕捉されずに側方流に含まれた過剰の粉体
は、供給路８から送られた空気（またはガス）で冷却さ
れる。上記粉体は、更に、吸引手段７（ケーソン１Ｏ１
１３）の作用を受け、経路を介して進み、壁１２の開１
：ｌｌｌ、上記開口を介する吸引および場合によっては
設けるデフレクタ１４が、渦流の生成を完全に阻止する
。
は、供給路８から送られた空気（またはガス）で冷却さ
れる。上記粉体は、更に、吸引手段７（ケーソン１Ｏ１
１３）の作用を受け、経路を介して進み、壁１２の開１
：ｌｌｌ、上記開口を介する吸引および場合によっては
設けるデフレクタ１４が、渦流の生成を完全に阻止する
。
更に、ランプ６から導入された高温ガスがガラスが冷却
され、基板上の粉体の熱分解が阻害され、従って、層品
質および熱分解効率が損なわれるのを阻止する。
され、基板上の粉体の熱分解が阻害され、従って、層品
質および熱分解効率が損なわれるのを阻止する。
放射されてガラスと接触する上記高温ガスは、ガラスを
高温に保持し、更に再加熱するのに役立ち、ガラス表面
からの吸引粉体流の分離を促進する。
高温に保持し、更に再加熱するのに役立ち、ガラス表面
からの吸引粉体流の分離を促進する。
吸引量および高温ガスのブロー量は、所望の数値に調節
できる。
できる。
この種のチャンバの長さは、主流れに含まれないおよび
または基板で捕捉されない粉体が基板と接触して基板上
に沈着しヴエールを形成する恐れのある従来のチャンバ
の長さに比して短い。
または基板で捕捉されない粉体が基板と接触して基板上
に沈着しヴエールを形成する恐れのある従来のチャンバ
の長さに比して短い。
本発明の主な特徴及び態様は以下のとおりである。
１、スリットで終わる分配ノズルによって、特に高温基
板と接触して熱分解して上記基板上に薄い被覆層を生成
する粉体生成物と混合されたガス流を上記高温基板上に
放射する形式の基板被覆法において、ノズルから出た粉
体生成物／ガス混合物流の近傍に、低温の、一般に加熱
されない少くとも１つのガス流を導入し、ノズルから出
た流れ外の、基板で捕捉されない粉体粒子を直ちに吸引
することを特徴とする基板、特に、ガラスリボンの被覆
方法。
板と接触して熱分解して上記基板上に薄い被覆層を生成
する粉体生成物と混合されたガス流を上記高温基板上に
放射する形式の基板被覆法において、ノズルから出た粉
体生成物／ガス混合物流の近傍に、低温の、一般に加熱
されない少くとも１つのガス流を導入し、ノズルから出
た流れ外の、基板で捕捉されない粉体粒子を直ちに吸引
することを特徴とする基板、特に、ガラスリボンの被覆
方法。
２、何れも基板表面の近傍に作用する複数の吸引レベル
を設けたことを特徴とする上記第１項記載の方法。
を設けたことを特徴とする上記第１項記載の方法。
３、基板で捕捉されずノズルから出た流れ外にある粉体
生成物の直接の循環を促進し、ノズルのノーズの近傍に
デフレクタを設けることによって、渦流の形成を避ける
ことを特徴とする上記第１項または第２項記載の方法。
生成物の直接の循環を促進し、ノズルのノーズの近傍に
デフレクタを設けることによって、渦流の形成を避ける
ことを特徴とする上記第１項または第２項記載の方法。
４、ノズルから出た流れに含まれる粉体生成物のみによ
って基板上に被覆層を形成することを特徴とする上記ｖ
１１〜３項の１つに記載の方法。
って基板上に被覆層を形成することを特徴とする上記ｖ
１１〜３項の１つに記載の方法。
５、高温ガスを被覆ゾーンに放射し、基板レベルに上記
ゾーンを限定することを特徴とする上記第１〜４項の１
つに記載の方法。
ゾーンを限定することを特徴とする上記第１〜４項の１
つに記載の方法。
６、スリットで終わり基板（特に、ガラス）上に粉体生
成物／ガス混合物を放射する分配ノズルと、高温ガスの
ブローランプで囲まれた吸引手段とを含む被覆チャンバ
において、更に低温ガス供給路（８）がノズル（２）の
分配スリット（４）の各側に設けてあり、吸引手段（７
）が基板（３）で捕捉されない粉体生成物を直ちに吸引
するため、ノズル（２）および上記基板（３）の近傍に
配置してあることを特徴とする被覆チャンバ。
成物／ガス混合物を放射する分配ノズルと、高温ガスの
ブローランプで囲まれた吸引手段とを含む被覆チャンバ
において、更に低温ガス供給路（８）がノズル（２）の
分配スリット（４）の各側に設けてあり、吸引手段（７
）が基板（３）で捕捉されない粉体生成物を直ちに吸引
するため、ノズル（２）および上記基板（３）の近傍に
配置してあることを特徴とする被覆チャンバ。
７、分配スリット（４）に平行に上記スリットの全長に
わたって上記スリットの近傍に設置した、特に、円筒形
のデフレクタ（例えば、バー）を有することを特徴とす
る上記第６項記載の被覆チャンバ。
わたって上記スリットの近傍に設置した、特に、円筒形
のデフレクタ（例えば、バー）を有することを特徴とす
る上記第６項記載の被覆チャンバ。
８、ノズルから（２）の７−ズおよび基板（３）の近傍
に作用し基板（３）で捕捉されない粉体生成物を直ちに
吸引する少くとも１つの吸引ケーソン（ｌＯ）をノズル
の各側に有することを特徴とする上記第６項または第７
項記載の被覆チャンバ。
に作用し基板（３）で捕捉されない粉体生成物を直ちに
吸引する少くとも１つの吸引ケーソン（ｌＯ）をノズル
の各側に有することを特徴とする上記第６項または第７
項記載の被覆チャンバ。
９、吸引ケーソン（ｌＯ）が、ノズルに近づくにつれて
基板に近づくように基板（３）に対して僅かに傾斜した
入口壁（１２）を有し、上記壁には、吸引を行うための
開口（ｌ ｌ）が穿設してあることを特徴とする上記第
８項記載の被覆チャンバ。
基板に近づくように基板（３）に対して僅かに傾斜した
入口壁（１２）を有し、上記壁には、吸引を行うための
開口（ｌ ｌ）が穿設してあることを特徴とする上記第
８項記載の被覆チャンバ。
１０．２つの吸引ケーソン（ｔｏ−１３）が設けである
ことを特徴とする上記第８項または第９項記載の被覆チ
ャンバ。
ことを特徴とする上記第８項または第９項記載の被覆チ
ャンバ。
第１図は、ガラスリボンのための被覆チャンバを示す断
面図である。 ｌ：被覆チャンバ、 ２：ノズル、 ３：基板、 ４ニスリツト、 ６：ブローランプ、 ７：吸引手段、 ８：ガス供給路、 １４：デ７レクタ外１名 手続補正書（方式） 平成１年５月２５日 特許庁長官 吉 １）文 毅 殿 ■、事件の表示 平成１年特許願第１９９１７号 ２、発明の名称 粉体による基板、特に、ガラスリボンの被覆方法及び装
置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 （４００） 日本板硝子株式会社４、代理人 〒
１０７
面図である。 ｌ：被覆チャンバ、 ２：ノズル、 ３：基板、 ４ニスリツト、 ６：ブローランプ、 ７：吸引手段、 ８：ガス供給路、 １４：デ７レクタ外１名 手続補正書（方式） 平成１年５月２５日 特許庁長官 吉 １）文 毅 殿 ■、事件の表示 平成１年特許願第１９９１７号 ２、発明の名称 粉体による基板、特に、ガラスリボンの被覆方法及び装
置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称 （４００） 日本板硝子株式会社４、代理人 〒
１０７
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、スリットで終わる分配ノズルによつて、特に高温基
板と接触して熱分解して上記基板上に薄い被覆層を生成
する粉体生成物と混合されたガス流を上記高温基板上に
放射する形式の基板被覆法において、ノズルから出た粉
体生成物／ガス混合物流の近傍に、低温の、一般に加熱
されない少くとも１つのガス流を導入し、ノズルから出
た流れ外の、基板で捕捉されない粉体粒子を直ちに吸引
することを特徴とする基板、特に、ガラスリボンの被覆
方法。 ２、スリットで終わり基板（特に、ガラス）上に粉体生
成物／ガス混合物を放射する分配ノズルと、高温ガスの
ブローランプで囲まれた吸引手段とを含む被覆チャンバ
において、更に低温ガス供給路（８）がノズル（２）の
分配スリット（４）の各側に設けてあり、吸引手段（７
）が基板（３）で捕捉されない粉体生成物を直ちに吸引
するため、ノズル（２）および上記基板（３）の近傍に
配置してあることを特徴とする被覆チャンバ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8801533A FR2626872B1 (fr) | 1988-02-09 | 1988-02-09 | Procede et dispositif ameliores pour le revetement d'un substrat, tel un ruban de verre par un produit pulverulent |
| FR8801533 | 1988-02-09 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01294551A true JPH01294551A (ja) | 1989-11-28 |
Family
ID=9363105
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1019917A Pending JPH01294551A (ja) | 1988-02-09 | 1989-01-31 | 粉体による基板、特に、ガラスリボンの被覆方法及び装置 |
| JP1026802A Pending JPH01226752A (ja) | 1988-02-09 | 1989-02-07 | 粉体物質で基材をコーティングするための方法及び装置 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1026802A Pending JPH01226752A (ja) | 1988-02-09 | 1989-02-07 | 粉体物質で基材をコーティングするための方法及び装置 |
Country Status (11)
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|---|---|
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| EP (1) | EP0329519B1 (ja) |
| JP (2) | JPH01294551A (ja) |
| KR (2) | KR960005267B1 (ja) |
| CN (1) | CN1038259A (ja) |
| AT (1) | ATE77355T1 (ja) |
| BR (1) | BR8900508A (ja) |
| CA (1) | CA1339999C (ja) |
| DE (1) | DE68901787T2 (ja) |
| ES (1) | ES2033531T3 (ja) |
| FR (1) | FR2626872B1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105399342A (zh) * | 2014-09-04 | 2016-03-16 | 秦皇岛玻璃工业研究设计院 | 具有多层薄膜减反射玻璃的连续式制备方法及其镀膜设备 |
| WO2021172483A1 (ja) * | 2020-02-26 | 2021-09-02 | タツタ電線株式会社 | アタッチメント、固相粒子回収装置、及び固相粒子回収システム |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2645773B1 (fr) * | 1989-04-12 | 1991-08-30 | Saint Gobain Vitrage | Procede pour modifier les positions relatives d'une pluralite d'organes alignes et dispositif pour la mise en oeuvre de ce procede |
| US5100698A (en) * | 1989-12-20 | 1992-03-31 | Central Glass Company, Limited | Method and apparatus for applying releasing agent to glass plate |
| FR2672518B1 (fr) * | 1991-02-13 | 1995-05-05 | Saint Gobain Vitrage Int | Buse a alimentation dissymetrique pour la formation d'une couche de revetement sur un ruban de verre, par pyrolyse d'un melange gazeux. |
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| FR2701869B1 (fr) * | 1993-02-25 | 1995-06-09 | Saint Gobain Vitrage Int | Dispositif de distribution de solides pulvérulents à la surface d'un substrat afin de le revêtir. |
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| US20030129299A1 (en) * | 2000-11-16 | 2003-07-10 | Swanson Leland S. | Selective deposition of emissive layer in electroluminescent displays |
| JP3888233B2 (ja) * | 2001-09-17 | 2007-02-28 | トヨタ自動車株式会社 | 燃料電池電極の製造方法と製造装置 |
| KR100575139B1 (ko) * | 2004-11-12 | 2006-05-03 | (주)태광테크 | 가스냉각장치가 구비된 저온 스프레이 코팅장치 |
| RU2468123C2 (ru) * | 2010-10-01 | 2012-11-27 | Институт теоретической и прикладной механики им. С.А. Христиановича Сибирского отделения Российской академии наук (ИТПМ СО РАН) | Способ газодинамического напыления порошковых материалов и устройство для газодинамического напыления порошковых материалов (варианты) |
| KR101509864B1 (ko) | 2012-11-07 | 2015-04-06 | (주)엘지하우시스 | 비산 파우더 크리닝 장치 |
| KR102058773B1 (ko) * | 2012-12-21 | 2019-12-23 | 두산 퓨얼 셀 아메리카, 인크. | 조정가능 필드를 가지는 침착 클라우드 타워 |
| KR20220084300A (ko) * | 2019-10-21 | 2022-06-21 | 웨스팅하우스 일렉트릭 컴퍼니 엘엘씨 | 콜드 스프레이 시스템의 다중 노즐 설계 및 관련 방법 |
| PL247450B1 (pl) * | 2022-10-20 | 2025-07-07 | Politechnika Wroclawska | Sposób nanoszenia funkcjonalnych powłok z zawiesin |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| IT1143300B (it) * | 1980-01-31 | 1986-10-22 | Bfg Glassgroup | Procedimento e dispositivo per ricoprire il vetro |
| IT1143298B (it) * | 1980-01-31 | 1986-10-22 | Bfg Glassgroup | Procedimento e dispositivo per ricoprire il vetro |
| US4325988A (en) * | 1980-08-08 | 1982-04-20 | Ppg Industries, Inc. | Deposition of coatings from fine powder reactants |
| FR2499058A1 (fr) * | 1981-02-05 | 1982-08-06 | Ppg Industries Inc | Procede pour ameliorer la durabilite aux alcalis de pellicules d'oxydes metalliques formees par pyrolyse |
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| US4397671A (en) * | 1981-11-30 | 1983-08-09 | Ford Motor Company | Method of placing a metal oxide film on a surface of a heated glass substrate |
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| US4705701A (en) * | 1984-11-14 | 1987-11-10 | Chronar Corporation | Conductive tin oxide methods |
| FR2575679B1 (fr) * | 1985-01-07 | 1988-05-27 | Saint Gobain Vitrage | Perfectionnement au procede de revetement d'un substrat tel un ruban de verre, par un produit pulverulent, et dispositif pour la mise en oeuvre de ce procede |
-
1988
- 1988-02-09 FR FR8801533A patent/FR2626872B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-01-31 JP JP1019917A patent/JPH01294551A/ja active Pending
- 1989-02-01 US US07/305,353 patent/US4933211A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-02-03 BR BR898900508A patent/BR8900508A/pt not_active IP Right Cessation
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- 1989-02-06 ES ES198989400323T patent/ES2033531T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-02-06 AT AT89400323T patent/ATE77355T1/de not_active IP Right Cessation
- 1989-02-06 EP EP89400323A patent/EP0329519B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1989-02-07 JP JP1026802A patent/JPH01226752A/ja active Pending
- 1989-02-08 CA CA000590403A patent/CA1339999C/fr not_active Expired - Fee Related
- 1989-02-09 KR KR1019890001471A patent/KR890012899A/ko not_active Withdrawn
- 1989-02-09 CN CN89101626A patent/CN1038259A/zh active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN105399342A (zh) * | 2014-09-04 | 2016-03-16 | 秦皇岛玻璃工业研究设计院 | 具有多层薄膜减反射玻璃的连续式制备方法及其镀膜设备 |
| WO2021172483A1 (ja) * | 2020-02-26 | 2021-09-02 | タツタ電線株式会社 | アタッチメント、固相粒子回収装置、及び固相粒子回収システム |
| JPWO2021172483A1 (ja) * | 2020-02-26 | 2021-09-02 |
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