JPH0129784Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は、半導体ウエフアのようなエツチング
されるべきウエフアに、その片面においてのみ、
エツチング液によつて、エツチングを施すことが
できる、エツチング装置の改良に関する。

従来、第１図を伴つて次に述べるエツチング装
置が提案されている。

すなわち、エツチング液１を収容させる、有底
筒状体でなるエツチング液収容部２を有する。

また、エツチング液収容部２内に、後述するよ
うにして配される、エツチングされるべきウエフ
ア３を載置させるための、円柱状体でなるウエフ
ア載置用部４を有する。

この場合、ウエフア載置用部４は、その上面外
周部からこれと一体に上方に突出している円環状
鍔５と、外周部に付されたねじ６と、下部外周部
からこれと一体に外方に突出している円環状鍔７
と、上面と外周面との間に延長している通気孔８
とを有している。

しかして、ウエフア３が、その下面外周部を円
環状鍔５の上端面に接触させた状態で、ウエフア
載置用部４上に載置されるようになされている。

また、上述したようにウエフア載置用部４上に
載置されているウエフア３を、その上面外周部に
おいて、液密に、ウエフア載置用部４側に抑え
る、筒状体でなるウエフア抑え用部１１を有す
る。

この場合、ウエフア抑え用部１１は、その内面
上部からこれと一体に内方に延長している円環状
鍔１２と、内面下部に付されたねじ１３と上面か
ら穿された後述する通気用管２３を植立させるた
めの凹部１４と、その凹部１４と内周面との間に
延長している通気孔１５とを有している。

しかして、ウエフア３を、上述したように、ウ
エフア載置用部４上に載置させ、そして、そのウ
エフア３の上面外周部上に、予め得られている封
止用Ｏリング２０を載置させ、またウエフア載置
用部４の円環状鍔７上に、同様に予め得られてい
る封止用Ｏリング２１を載置させている状態で、
ウエフア抑え用部１１を、上方から、そのねじ１
３と上述したウエフア載置用部４のねじ６とを螺
合させることによつて、ウエフア抑え用部１１
が、その円環状鍔１２によつて、封止用Ｏリング
２０を介して、ウエフア３を、その上面外周部に
おいて、液密に、ウエフア載置用部４側に抑え、
また、封止用Ｏリング２１をウエフア載置用部４
側に抑えるようになされている。

さらに、エツチング液収容部２内にエツチング
液１が収容されている状態で、上述したウエフア
抑え用部１１に、その上述した凹部１４の位置に
おいて、上方に位置している通気用管２２が植立
されている。

しかして、ウエフア３が、上述したように、ウ
エフア載置用部４上に載置され、また、ウエフア
３が、上述しように、ウエフア抑え用部１１によ
つて、上面外周部において、液密に、ウエフア載
置用部４側に抑えられ、そして、エツチング液収
容部２内にエツチング液１が収容されている状態
で、ウエフア載置用部４の上面と、円環状鍔５
と、ウエフア３とで形成されている空間２４が、
通気用管２２と、通気孔８及び１５とを介して、
エツチング液１の上面外部に連通されるようにな
されている。

以上が、従来提案されているエツチング装置の
構成である。

このような構成を有する従来のエツチング装置
によれば、上述したように、ウエフア載置用部４
上にウエフア３を載置し、そしてそのウエフア３
を、ウエフア抑え用部１１によつて抑えた状態
で、ウエフア３を、エツチング液１を収容してい
るエツチング液収容部２内に配置すれば、ウエフ
ア３の上面が、エツチング液１に接触する。

しかしながら、ウエフア３が、その上面外周部
において、液密に、封止用Ｏリング２０を介し
て、ウエフア載置用部４側に抑えられており、ま
た、ウエフア抑え用部１１が、封止用Ｏリング２
１を、ウエフア載置用部４側に抑えているので、
ウエフア３の下面は、エツチング液１に接触しな
い。

このため、ウエフア３に、その片面においての
みに、エツチングを施すことができる。

また、この場合、ウエフア載置用部４の上面
と、円環状鍔５と、ウエフア３とによつて形成さ
れている空間２４が、通気用管２２と、通気孔８
及び１５とを介して、エツチング液１の上面外部
に連通しているので、エツチング液１の温度によ
つて空間２４の気体が熱膨脹することで、ウエフ
ア３に、内部歪が生じたり、ウエフア３が破損し
たりする、というおそれを有しない。

しかしながら、上述した従来のエツチング装置
による場合、ウエフア載置用部４及びウエフア抑
え用部１１が、ともに、エツチング液１を収容し
ているエツチング液収容部２内に配されるので、
エツチング液１が、封止用Ｏリング２１とウエフ
ア載置用部４の円環状鍔７及びウエフア抑え用部
１１の下端面との間、及びウエフア載置用部４の
円環状鍔５とウエフア３との間を通つて、ウエフ
ア３の下面に接触するおそれを有していた。

また、上述した従来のエツチング装置の場合、
ウエフア載置用部４及びウエフア抑え用部１１が
エツチング液収容部２内に配されるので、ウエフ
ア載置用部４とウエフア抑え用部１１との間の封
止用Ｏリング２１を必要とするという欠点を有し
ていた。

また、このため、ウエフア３として厚い厚さの
ものを用いる場合、これに対処することが困難で
あつた。

さらに、上述した従来のエツチング装置の場
合、ウエフア載置用部４及びウエフア抑え用部１
１がエツチング液収容部２内に配されるので、ウ
エフア抑え用部１１がその外周面もエツチング液
１によつて汚染されるとともに、ウエフア載置用
部４がエツチング液１によつて汚染される。この
ため、再度エツチング液１の種類を変えて、ウエ
フア３に対するエツチングを施す場合に、それに
先立ち必要とされるエツチング装置の洗浄に、多
くの手間と、時間とを必要とするなどの欠点を有
していた。

よつて、本考案は、上述した欠点のない、新規
なエツチング装置を提供せんとするものである。

第２図は、本考案によるエツチング装置の一例
を示し、以下述べる構成を有する。

エツチングされるべきウエフア３０を載置させ
るウエフア載置用部３１を有する。

この場合、ウエフア載置用部３１は、円環状部
３２と、その下端寄りの外周部からこれと一体に
輻方向に外方に延長している円環状鍔３３とを有
する。

また、円環状部３２は、その上面外周部から内
部に延長している、封止用Ｏリング３４を受ける
Ｏリング受け用溝３５と、上面外周部のＯリング
受け用溝３５の外側から内部に延長している環状
溝３６と、環状溝３６の底面から下面に貫通して
いる液導出口３７とを有する。

さらに、円環状鍔３３は、その上面及び下面間
に延長しているめねじ３８と、上面から上方に突
出延長している位置決め用ピン３９とを有する。

しかして、Ｏリング受け用溝３５内に、封止用
Ｏリング３４を配した状態で、ウエフア３０が、
その下面外周部を、封止用Ｏリング３４に接触さ
せた状態で、その封止用Ｏリング３４を介して、
ウエフア載置用部３１上に載置されるようになさ
れている。

また、ウエフア載置用部３１上に載置されてい
るウエフア３０を、その上面外周部において、液
密に、ウエフア載置用部３１側に抑え、且つウエ
フア載置用部３１上に載置されているウエフア３
０と共働して、そのウエフア３０の上面に接触さ
せるエツチング液４１を収容させるエツチング液
収容部４２を構成する、筒状体でなるウエフア抑
え用兼エツチング液収容用部４３を有する。

この場合、ウエフア抑え用兼エツチング液収容
用部４３は、筒状部４５と、その下端部内周面か
らこれと一体に内方に延長している円環状鍔４６
と、筒状部４５の下端部外周面からこれと一体に
外方に延長している円環状鍔４７とを有する。

また、筒状部４５は、その上部において、エツ
チング液導入口４８を有し、また、下部におい
て、エツチング液導出口４９を有している。

さらに、円環状鍔４６は、その下面外周部から
内部に延長している、封止用Ｏリング５０を受け
るＯリング受け用溝５１を有する。

また、円環状鍔４７は、その上面及び下面間に
延長しているボルト貫通孔５２と、下面から内方
に延長している、上述したウエフア載置用部３１
の位置決め用ピン３９を受ける位置決め用孔５３
とを有している。

しかして、ウエフア３０を、上述したように、
ウエフア載置用部３１上に載置させ、また、ウエ
フア載置用部３１の円環状鍔３３上に、環状スペ
ーサ５４を配し、さらに、ウエフア抑え用兼エツ
チング液収容用部４３のＯリング受け用溝５１内
に封止用Ｏリング５０を配している状態で、ウエ
フア抑え用兼エツチング液収容用部４３を、ウエ
フア載置用部３１上に、位置決め用孔５３内にウ
エフア載置用部３１の位置決め用ピン３９を挿入
させながら、封止用Ｏリング５０をウエフア３０
の上面外周部に接触させて配し、次に、その状態
で、締付用ボルト５５をボルト挿通孔５２を通つ
て、ウエフア載置用部３１のめねじ３８に螺合さ
せて締付けることによつて、ウエフア抑え用兼エ
ツチング液収容用部４３が、ウエフア載置用部３
１上に載置されているウエフア３０を、その上面
外周部において、液密に、ウエフア載置用部３１
側に抑え、且つウエフア載置用部３１上に載置さ
れているウエフア３０と共働して、その上面に接
触させるエツチング液４１を収容させるエツチン
グ液収容部４２を構成するようになされている。

以上が、本考案によるエツチング装置の一例構
成である。

このような構成を有する本考案によるエツチン
グ装置によれば、上述したように、ウエフア載置
用部３１上にウエフア３０を載置し、そして、そ
のウエフア３０を、上述したように、その上面外
周部において、液密に抑え、またエツチング液収
容部４２を構成している状態で、そのエツチング
液収容部４２内に、エツチング液導入口４８を用
いて、エツチング液４１を収容させれば、ウエフ
ア３０の上面が、エツチング液４１に接触する。

しかしながら、ウエフア３０が、その上面外周
部において、液密に、封止用Ｏリング５０を介し
て、ウエフア載置用部３１側に抑えられており、
また、このとき、ウエフア３０とウエフア載置用
部３１との間が、ウエフア３０の下面外周部にお
いて、封止用Ｏリング５０によつて液密を保つて
いるので、ウエフア３０の下面は、エツチング液
４１に接触しない。

このため、ウエフア３０に、その片面において
のみ、エツチングを施すことができる。

このように、上述した本考案によるエツチング
装置によれば、ウエフア３０に、その片面におい
てのみ、エツチングを施すことができるが、この
場合、ウエフア載置用部３１及びウエフア抑え用
兼エツチング液収容用部４３が、第１図で上述し
たエツチング装置におけるウエフア載置用部４及
びウエフア抑え用部１１のように、エツチング液
を収容しているエツチング液収容部内に配されな
いので、エツチング液４１が、ウエフア３０の下
面に接触するおそれを有しない。

また、上述した本考案によるエツチング装置に
よれば、ウエフア載置用部３１及びウエフア抑え
用兼エツチング液収容用部４３が、第１図で上述
したエツチング装置におけるウエフア載置用部４
及びウエフア抑え用部１１のように、エツチング
液を収容しているエツチング液収容部内に配され
ないので、第１図で上述した従来のエツチング装
置における、封止用Ｏリング２１のような封止用
Ｏリングを必要としない。

さらに、上述した本考案によるエツチング装置
の場合、ウエフア載置用部３１及びウエフア抑え
用兼エツチング液収容用部４３が、第１図で上述
したエツチング装置におけるウエフア載置用部４
及びウエフア抑え用部１１のように、エツチング
液を収容しているエツチング液収容部内に配され
ないので、ウエフア抑え用兼エツチング液収容用
部４３の内面が、エツチング液４１によつて汚染
されるとしても、ウエフア抑え用兼エツチング液
収容用部４３の外面、及びウエフア載置用部３１
の内外面が、エツチング液４１によつて汚染され
ない。

このため、再度、エツチング液４１の種類を変
えて、ウエフア３０に対するエツチングを施す場
合に、それに先立ち必要とされるエツチング装置
の洗浄に、多くの手間と、時間とを必要としな
い。

また、上述した本考案によるエツチング装置の
場合、ウエフア載置用部３１及びウエフア抑え用
兼エツチング液収容用部４３が、第１図で上述し
たエツチング装置におけるウエフア載置用部４及
びウエフア抑え用部１１のように、エツチング液
を収容しているエツチング液収容部内に配されな
いので、エツチング液を収容するためのエツチン
グ液収容部を用意する必要がないとともに、エツ
チング液の量が、第１図で上述した従来のエツチ
ング装置を用いる場合に比し少くてすむ。

さらに、上述した本考案によるエツチング装置
によれば、ウエフア載置用部３１及びウエフア抑
え用兼エツチング液収容用部４３が、第１図で上
述したエツチング装置におけるウエフア載置用部
４及びウエフア抑え用部１１のように、エツチン
グ液を収容しているエツチング液収容部内に配さ
れないので、第１図で上述した従来のエツチング
装置における、封止用Ｏリング２１のような封止
用Ｏリングを設ける必要がなく、このため、ウエ
フア３０の厚さを厚くしても、ウエフア３０に、
その片面においてのみ、エツチング液を接触させ
るように、容易に対処することができる。

さらに、上述した本考案によるエツチング装置
によれば、ウエフア３０に対する抑えを、締付用
ボルト５５を用いて、ウエフア抑え用兼エツチン
グ液収容用部４３を、ウエフア載置用部３１に締
付けて行うようにしており、そして、このとき、
環状スペーサ５４を用いているので、ウエフア抑
え用兼エツチング液収容用部４３のウエフア３０
に対する抑え力を精密に制御することができ、よ
つて、ウエフア３０を、その上面外周部におい
て、液密に、ウエフア載置用部３１側に抑えると
きに、その抑え力を適切なものとすることがで
き、また、ウエフア３０の破損を防止することが
できる。

また、上述した本考案によるエツチング装置に
よれば、ウエフア載置用部３１に、環状溝３６を
有しているので、エツチング液４１が、ウエフア
３０及びウエフア抑え用兼エツチング液収容用部
４３間を通つて、ウエフア３０の下面側にまわり
込まんとしても、そのエツチング液が、環状溝３
６内に流れ、次で、液導出口３７より外部に導出
させるので、ウエフア３０の下面が、エツチング
液によつて汚染させるおそれを有しない。

さらに、上述した本考案によるエツチング装置
によれば、ウエフア載置用部３１が、円環状部３
２を有している構成を有するので、ウエフア３０
の下面が、外気に連通する構成を有し、このた
め、第１図で上述した従来のエツチング装置にお
ける空間２４を、通気用管２２を通じて外部に連
通させるのと同じ効果を有する。

また、上述した本考案によるエツチング装置に
よれば、液導入口４８及び液導出口４９を有する
ので、それらをそれぞれ洗浄用管５６及び排液用
管５７に連結させることによつて、エツチング液
収容部４２に収容しているエツチング液４１を容
易に排出し、そしてウエフア抑え用兼エツチング
液収容用部４３の内面を容易に洗浄することがで
きる。

さらに、上述した本考案によるエツチング装置
によれば、上述のようにして構成されるエツチン
グ液収容部４２内に、エツチング液４１を加熱さ
せるヒータ４８を配することによつて、エツチン
グ液５１を適温に保たせることができる。

なお、上述においては、本考案の一例を示した
に留まり、本考案の精神を脱することなしに、
種々の変形、変更をなし得るであろう。

【図面の簡単な説明】

第１図は、従来のエツチング装置を示す略線的
断面図である。第２図は、本考案によるエツチン
グ装置の一例を示す略線的断面図である。 ３０……ウエフア、３１……ウエフア載置用
部、３２……円環状部、３３……円環状鍔、３４
……封止用Ｏリング、３５……Ｏリング受け用
溝、３６……環状溝、３７……液導出口、３８…
…めねじ、３９……位置決め用ピン、４１……エ
ツチング液、４２……エツチング液収容部、４３
……ウエフア抑え用兼エツチング液収容用部、４
５……筒状部、４６……円環状鍔、４７……円環
状鍔、４８……液導入口、４９……液導出口、５
０……封止用Ｏリング、５１……Ｏリング受け用
溝、５２……ボルト貫通孔、５３……位置決め用
孔、５４……スペーサ、５５……ボルト。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 環状部３２と、その外周部からこれと一体に輻
   方向に外方に延長している環状鍔３３とを有する
   ウエフア載置用部３１と、 筒状部４５と、その下端部内周面からこれと一
   体に内方に延長している環状鍔４６と、上記筒状
   部４５の下端部外周面からこれと一体に外方に延
   長している環状鍔４７とを有するウエフア抑え用
   兼エツチング液収容用部４３とを有し、 上記ウエフア載置用部３１の環状部３２は、そ
   の上面外周部から内部に延長している第１の封止
   用Ｏリング３４を受けるＯリング受け用溝３５
   と、上記上面外周部の上記Ｏリング受け用溝３５
   の外側から内部に延長している環状溝３６とを有
   し、 上記ウエフア抑え用兼エツチング液収容用部４
   ３の筒状部４５は、その上部におけるエツチング
   液導入口４８と、下部におけるエツチング液導出
   口４９とを有し、 上記ウエフア抑え用兼エツチング液収容用部４
   ３の環状鍔４６は、その下面外周部から内部に延
   長している、第２の封止用Ｏリング５０を受ける
   第２のＯリング受け用溝５１を有し、 上記ウエフア抑え用兼エツチング液収容用部４
   ３は、上記ウエフア載置用部３１の環状部３２
   の上記第１のＯリング受け用溝５１内に上記第１
   の封止用Ｏリング３４を配し、その第１の封止用
   Ｏリング３４上にウエフア３０を載置し、上記ウ
   エフア載置用部３１の環状鍔３３上に環状スペー
   サ５４を配し、上記ウエフア抑え用兼エツチング
   液収容用部４３の環状鍔４６の第２のＯリング受
   け用溝５１内に上記第２の封止用Ｏリングを配し
   ている状態で、締付用ボルト５５を用いて、上記
   ウエフア３０を、上記ウエフア載置用部３１側に
   抑え、且つ上記ウエフア３０と共働して、その
   上面に接触させるエツチング液４１を収容させる
   エツチング液収容部４２を構成しているエツチン
   グ装置。