JPH01298192A - 亜鉛−ニッケル合金めっき液 - Google Patents
亜鉛−ニッケル合金めっき液Info
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- JPH01298192A JPH01298192A JP12823788A JP12823788A JPH01298192A JP H01298192 A JPH01298192 A JP H01298192A JP 12823788 A JP12823788 A JP 12823788A JP 12823788 A JP12823788 A JP 12823788A JP H01298192 A JPH01298192 A JP H01298192A
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- JP
- Japan
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- plating
- nickel
- plating solution
- alloy plating
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/565—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of zinc
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、亜鉛−ニッケル合金電気めっき液に関するも
のであり、さらに詳しくは、均一な鏡面光沢外観を有し
耐食性にも優れた亜鉛−ニッケル合金めっきを形状複雑
な物品に施すことができる亜鉛−ニッケル合金めっき液
に関するものである。
のであり、さらに詳しくは、均一な鏡面光沢外観を有し
耐食性にも優れた亜鉛−ニッケル合金めっきを形状複雑
な物品に施すことができる亜鉛−ニッケル合金めっき液
に関するものである。
亜鉛−ニッケル合金めっきは、亜鉛めっきに比べて優れ
た耐食性を有するため、鉄鋼製品への防食めっきとして
広く用いられている。特に、合金めっき被膜中のニッケ
ル含有率が１０〜１６％のものは、γ単相合金からなる
ものであって、耐食性が最も優れていることが知られて
いる。したがって、この範囲のニッケル含有率の亜鉛−
ニッケル合金めっきを安定して得るための提案が多数な
されている（特開昭５５〜１１０７９１、同５５〜１５
２１９４．同５７−１６４９９９゜同５８−９９９７．
同５８−５５５８５．同５８−１９７２９２、同５９−
８０７８９．同５９−１２３７８２、同６０−１０６９
９２．同６０−２２８６９３等）。しかしながら、これ
らはいずれも平らな鋼板の連続めっきのためのものであ
って、複雑な形状の機械部品等に使用できるものではな
い。
た耐食性を有するため、鉄鋼製品への防食めっきとして
広く用いられている。特に、合金めっき被膜中のニッケ
ル含有率が１０〜１６％のものは、γ単相合金からなる
ものであって、耐食性が最も優れていることが知られて
いる。したがって、この範囲のニッケル含有率の亜鉛−
ニッケル合金めっきを安定して得るための提案が多数な
されている（特開昭５５〜１１０７９１、同５５〜１５
２１９４．同５７−１６４９９９゜同５８−９９９７．
同５８−５５５８５．同５８−１９７２９２、同５９−
８０７８９．同５９−１２３７８２、同６０−１０６９
９２．同６０−２２８６９３等）。しかしながら、これ
らはいずれも平らな鋼板の連続めっきのためのものであ
って、複雑な形状の機械部品等に使用できるものではな
い。
複雑な形状を有する一般的な機械部品等に亜鉛−ニッケ
ル合金め・つきを施すためのめっき液としては、従来、
大別して硫酸浴、塩化浴、ピロリン酸浴、シアン浴、無
シアンアルカリ浴などがあり、それぞれ一長一短あるが
、日本では、無シアンアルカリ浴が、浴の管理が容易で
装置腐食も少ないという理由で、他の浴よりも好まれる
傾向がある。
ル合金め・つきを施すためのめっき液としては、従来、
大別して硫酸浴、塩化浴、ピロリン酸浴、シアン浴、無
シアンアルカリ浴などがあり、それぞれ一長一短あるが
、日本では、無シアンアルカリ浴が、浴の管理が容易で
装置腐食も少ないという理由で、他の浴よりも好まれる
傾向がある。
一般的な機械部品等に亜鉛−ニッケル合金めっきを施す
ための無シアンアルカリ浴は、特開昭５８−３４】８９
、同６２−２３８３８７、同６２−２４０７８８等に幾
つか提案されている。これらの浴は、ニッケル共４７ｒ
率の均一性およびめっき外観の点ではかなり優れたもの
である。しかしながら、これら従来のめっき液は、得ら
れる合金めっき中のニッケル含有率の点で、満足できる
ものではなかった。すなわち、周知のよう１こ、亜鉛−
ニノケル合金めっきにおいてはニッケル含ａ率か１０−
１６％のγ相単相析出になるとすぐれた耐食性が達成さ
れることが分かっているが、上記従来の一般用無シアン
アルカリ性めっき液ではこのような高率のニッケルを含
有する耐食性亜鉛−ニッケル合金を析出させることはで
きない。したがって、現在−船釣な機械部品等を対象と
して工業的に実施されている亜鉛−ニッケル合金めっき
におけるニッケル共析率も、５〜１０％程度である。
ための無シアンアルカリ浴は、特開昭５８−３４】８９
、同６２−２３８３８７、同６２−２４０７８８等に幾
つか提案されている。これらの浴は、ニッケル共４７ｒ
率の均一性およびめっき外観の点ではかなり優れたもの
である。しかしながら、これら従来のめっき液は、得ら
れる合金めっき中のニッケル含有率の点で、満足できる
ものではなかった。すなわち、周知のよう１こ、亜鉛−
ニノケル合金めっきにおいてはニッケル含ａ率か１０−
１６％のγ相単相析出になるとすぐれた耐食性が達成さ
れることが分かっているが、上記従来の一般用無シアン
アルカリ性めっき液ではこのような高率のニッケルを含
有する耐食性亜鉛−ニッケル合金を析出させることはで
きない。したがって、現在−船釣な機械部品等を対象と
して工業的に実施されている亜鉛−ニッケル合金めっき
におけるニッケル共析率も、５〜１０％程度である。
本発明の目的は、従来の亜鉛−ニッケル合金めっき液が
上述のような問題点を有するものであったことに鑑み、
ニッケル共析率１０〜１６％の、高耐食性亜鉛−ニッケ
ル合金めっきを容易に与える無シアンアルカリ浴めっき
液を提供することにある。
上述のような問題点を有するものであったことに鑑み、
ニッケル共析率１０〜１６％の、高耐食性亜鉛−ニッケ
ル合金めっきを容易に与える無シアンアルカリ浴めっき
液を提供することにある。
本発明は、無シアンアルカリ性亜鉛−ニッケル合金めっ
き液の組成を下記のようにすることにより、上記目的を
達成したものである。
き液の組成を下記のようにすることにより、上記目的を
達成したものである。
Ｚｎ２＋二５〜２０ｙ／ｌ
Ｎｉ”：０．４〜４ 、０ ｇ／ｌま
ただしＺ ｎ ｉ！＋ ／ Ｎ Ｉ ２” （重量比）
を４〜１２．５とする。
を４〜１２．５とする。
Ｎ−アミノエチルエタノールアミン、エチレンジアミン
、ジエチＬ〜＞トリアミン、］・リエチレンアトラミン
、テトラエチレンペンタミンおよびペンタエチレンヘキ
サミンからなる群から選ばれた１種以上のアミン系キレ
−１−剤：合計量で０．０４モル／ｌ以上トリエタノー
ルアミン＝１５〜６０ Ｈ／ｌ光沢剤・その均−電着作
用に応じて、適量を用いる。
、ジエチＬ〜＞トリアミン、］・リエチレンアトラミン
、テトラエチレンペンタミンおよびペンタエチレンヘキ
サミンからなる群から選ばれた１種以上のアミン系キレ
−１−剤：合計量で０．０４モル／ｌ以上トリエタノー
ルアミン＝１５〜６０ Ｈ／ｌ光沢剤・その均−電着作
用に応じて、適量を用いる。
この組成は、−Ｆ記目的を達成するためにはＺｎ”十お
よびＮ１２＋の含有量もさることながら、強アルカリ性
のめっき液にニッケルイオンを安定に溶解させるための
添加剤の選択と配合率が極めて重要であることを本発明
者らか実験の結果見いだしたことに基づくものである。
よびＮ１２＋の含有量もさることながら、強アルカリ性
のめっき液にニッケルイオンを安定に溶解させるための
添加剤の選択と配合率が極めて重要であることを本発明
者らか実験の結果見いだしたことに基づくものである。
すなわち、本発明で用いるキレート剤もトリエタノール
アミンも、個々には従来の亜鉛−ニッケル合金めっき液
や亜鉛めっき液に使用された例もあるが、本発明の目的
達成のためには、これらを上述のように組み合わせて使
用することが必須である。また、光沢剤についても、特
定のものを使用することにより特に好ましい結果が得ら
れることが確認されている。
アミンも、個々には従来の亜鉛−ニッケル合金めっき液
や亜鉛めっき液に使用された例もあるが、本発明の目的
達成のためには、これらを上述のように組み合わせて使
用することが必須である。また、光沢剤についても、特
定のものを使用することにより特に好ましい結果が得ら
れることが確認されている。
本発明のめっき液の組成について更に詳述すると、主剤
であるＺｏ”の供給源としては、Ｚｎ０、Ｚ ｎ Ｓ
Ｏ＋・７Ｈ２０、Ｚ ｎｃ Ｉ□、Ｎｉ２＋の供給源と
してはＮ ｉ（ＯＨ）２、Ｎ ｉ ＣＯｓ、Ｎ１５Ｏ，
・６１−（２０、Ｎ ｉＣ１，・６Ｈ２０などの塩類を
用いることがでさる。Ｚｏ２＋が５ ｇ／ｌ未満では実
用に適し！−陰極電流効率が得られず、また２ ０ ｇ
／ｌを超えると、均一な光沢めっき外観が得られない。
であるＺｏ”の供給源としては、Ｚｎ０、Ｚ ｎ Ｓ
Ｏ＋・７Ｈ２０、Ｚ ｎｃ Ｉ□、Ｎｉ２＋の供給源と
してはＮ ｉ（ＯＨ）２、Ｎ ｉ ＣＯｓ、Ｎ１５Ｏ，
・６１−（２０、Ｎ ｉＣ１，・６Ｈ２０などの塩類を
用いることがでさる。Ｚｏ２＋が５ ｇ／ｌ未満では実
用に適し！−陰極電流効率が得られず、また２ ０ ｇ
／ｌを超えると、均一な光沢めっき外観が得られない。
Ｚｏ”／Ｎｉ２＋比は、４未満では、均一で光沢良好な
めっき外観は得られるもののニッケル共析率が１６％を
超えるようになり、かえって耐食性が悪くなるだけでな
く、経済的にも不利である。また、この比率が約１２．
５を超えると、低電流部が無光沢のめっきとなり、しか
もニッケル共析率はｉｏ％以下になって耐食性が悪化す
る。
めっき外観は得られるもののニッケル共析率が１６％を
超えるようになり、かえって耐食性が悪くなるだけでな
く、経済的にも不利である。また、この比率が約１２．
５を超えると、低電流部が無光沢のめっきとなり、しか
もニッケル共析率はｉｏ％以下になって耐食性が悪化す
る。
アミン系キレート剤は、めっき液中における濃度が０．
０４モル／ｌ以下ではＮＩ２＋を十分可溶化することが
できない。また、この濃度は、高くても約０．５モル／
ｌが適当で、これを超えても効果は変わらない。
０４モル／ｌ以下ではＮＩ２＋を十分可溶化することが
できない。また、この濃度は、高くても約０．５モル／
ｌが適当で、これを超えても効果は変わらない。
トリエタノールアミンは、１５ ｇ／ｌ未満の濃度では
、高電流部においては良好な光沢めっき外観が得られる
ものの、低電流部においては無光沢となってしまう。
、高電流部においては良好な光沢めっき外観が得られる
ものの、低電流部においては無光沢となってしまう。
また、６０１／ｌを超えると、広い電流密度範囲にわた
って均一で優れた光沢めっき外観が得られるものの、陰
極電流効率が悪化し、実用に適さないものとなる。
って均一で優れた光沢めっき外観が得られるものの、陰
極電流効率が悪化し、実用に適さないものとなる。
本発明のめっき液に使用する光沢剤としては、ジンヶ−
１・亜鉛めっきやシアン化亜鉛めっきに従来使われてい
る光沢剤を適宜使用することかでき、制限はないが、中
でも、アミンとエピクロルヒドリンとの反応生成物、芳
香族アルデヒド、第四級化されたピリジン化合物などは
、特に優れた光沢めっきを与える点で、本発明のめっき
液に使用するのに特に適したものである。
１・亜鉛めっきやシアン化亜鉛めっきに従来使われてい
る光沢剤を適宜使用することかでき、制限はないが、中
でも、アミンとエピクロルヒドリンとの反応生成物、芳
香族アルデヒド、第四級化されたピリジン化合物などは
、特に優れた光沢めっきを与える点で、本発明のめっき
液に使用するのに特に適したものである。
ｐｌｌは特に限定されないが、約１３以上とすることが
望ましい。
望ましい。
本発明の亜鉛−ニノケル合金めっき液の標準的な使用法
を示すと次のとおりである。
を示すと次のとおりである。
陰極電流密度：０．５〜８Δ／ｄｒａ”陽極電流密度・
１〜８Ａ／ｄｍ２ 浴温：１５〜３５°Ｃ 陽極：可溶性陽極として亜鉛、また不溶性陽極としては
カーボン、ステンレススチール、ニッケル等を用いるこ
とができる。
１〜８Ａ／ｄｍ２ 浴温：１５〜３５°Ｃ 陽極：可溶性陽極として亜鉛、また不溶性陽極としては
カーボン、ステンレススチール、ニッケル等を用いるこ
とができる。
金属の補給：亜鉛は陽極からの溶解、またはＺＱＯの添
加で行い、ニッケルは、Ｎ ｉ Ｓ Ｏ＋・６Ｈ２０、
ＮｉＣ１□・６ ＨｘＯ、、Ｎ ＋（ＯＨ）２、Ｎ ｉ
Ｃ０３なとの添加で行う。
加で行い、ニッケルは、Ｎ ｉ Ｓ Ｏ＋・６Ｈ２０、
ＮｉＣ１□・６ ＨｘＯ、、Ｎ ＋（ＯＨ）２、Ｎ ｉ
Ｃ０３なとの添加で行う。
以下、実施例および比較例を示して本発明を説明する。
なお、以下の例におけるめっさはすべて２６７ｍ１のハ
ルセルを用いて行ったもので、めっき条件は次のとおり
である。
ルセルを用いて行ったもので、めっき条件は次のとおり
である。
電流＝２Ａ
めっき時間：５分
浴温：２５℃（比較例２のみ３５℃）
陽極：亜鉛
陰極ニブライト鋼板
実施例】
浴組成： ＮａＯＨ１，３０ｇ／ＩＩ、 ＺｎＯ１２，
５ｇ／１ｔ（Ｚｏとして１０ ｇ／ｌ） 、Ｎ Ｉｓ
Ｏｔ・６ ＨｚＯ６，７ｇ／ｌ（Ｎｉとして１．５ｇ／
ｉｌ、Ｚｎ／Ｎ１＝６．６７）、エチレンジアミン Ｉ
Ｊ＃（０，１６６モル／ｌ、）リエタノールアミン ３
０ｇ１５．、光沢剤・スパー８０（荏原ニーシライト株
式会社製シアン化亜鉛めっき用光沢剤：第四級化ピリジ
ン化合物を主剤とするもの） ４ｍｌ／ｌハルセル試
験の結果、試験片全面にわたり均一な鏡面光沢外観が得
られた。試験片中央におけるニッケル共析率は１４．２
％であった。
５ｇ／１ｔ（Ｚｏとして１０ ｇ／ｌ） 、Ｎ Ｉｓ
Ｏｔ・６ ＨｚＯ６，７ｇ／ｌ（Ｎｉとして１．５ｇ／
ｉｌ、Ｚｎ／Ｎ１＝６．６７）、エチレンジアミン Ｉ
Ｊ＃（０，１６６モル／ｌ、）リエタノールアミン ３
０ｇ１５．、光沢剤・スパー８０（荏原ニーシライト株
式会社製シアン化亜鉛めっき用光沢剤：第四級化ピリジ
ン化合物を主剤とするもの） ４ｍｌ／ｌハルセル試
験の結果、試験片全面にわたり均一な鏡面光沢外観が得
られた。試験片中央におけるニッケル共析率は１４．２
％であった。
また、このめっき液を用いて鋼板に５μｍめっきし、さ
らに有色クロメート処理（荏原ニーシライト株式会社装
クロ、メート処理剤・７Ｎ−ＩＩＹＭ［Ｉ ５０ｍ１／
Ｉ＋使用）を施した。別に、後記比較例２のめっき液を
用いて同様のめっきとタロメート処理を行なった。旭理
済み鋼板Ｉこついてそれぞれ塩水噴霧試験を行なったと
ころ、比較例２によるものは４８０時間で白さびが発生
したのに対し、本実施例によるものは２０００時間経過
後も白さびの発生が認めれなかった。
らに有色クロメート処理（荏原ニーシライト株式会社装
クロ、メート処理剤・７Ｎ−ＩＩＹＭ［Ｉ ５０ｍ１／
Ｉ＋使用）を施した。別に、後記比較例２のめっき液を
用いて同様のめっきとタロメート処理を行なった。旭理
済み鋼板Ｉこついてそれぞれ塩水噴霧試験を行なったと
ころ、比較例２によるものは４８０時間で白さびが発生
したのに対し、本実施例によるものは２０００時間経過
後も白さびの発生が認めれなかった。
実施例２
浴組成：実施例Ｉのエチレンジアミンをジエチレントリ
アミン ｌＯに／１ｌ（０，０９７モル／ＩＩ ）に変
更した。
アミン ｌＯに／１ｌ（０，０９７モル／ＩＩ ）に変
更した。
ハルセル試験の結果、試験片全面にわたり均一な鏡面光
沢外観が得られた。試験片中央におけるニッケル共析率
は１３．４％であった。
沢外観が得られた。試験片中央におけるニッケル共析率
は１３．４％であった。
実施例３
浴組成：実施例１のエチレンジアミンをトリエチレンテ
トラミン ２５に／α（０，１７１モル／ｌ）に変更し
ｌこ。
トラミン ２５に／α（０，１７１モル／ｌ）に変更し
ｌこ。
ハルセル試験の結果、試験片全面にわたり均一な鏡面光
沢外観が得られた。試験片中央におけるニッケル共析率
は１３．５％であった。
沢外観が得られた。試験片中央におけるニッケル共析率
は１３．５％であった。
実施例４
浴組成：実施例１のエチレンジアミンをテトラエチレン
ペンタミン ｌ Ｏｇ＃ｌ（０，０５３モル／Ｉｔ ）
に変更し ｌこ 。
ペンタミン ｌ Ｏｇ＃ｌ（０，０５３モル／Ｉｔ ）
に変更し ｌこ 。
ハルセル試験の結果、試験片全面にわたり均一な鏡面光
沢外観が得られた。試験片中央におけるニッケル共析率
は１５．８％であった。
沢外観が得られた。試験片中央におけるニッケル共析率
は１５．８％であった。
実施例５
浴組成：実施例１のエチレンジアミンをペンタエチレン
テトラミン １０ｇ／α（０，０４３モル／ｌ ）に変
更し ｌこ。
テトラミン １０ｇ／α（０，０４３モル／ｌ ）に変
更し ｌこ。
ハルセル試験の結果、試験片全面にわたり均一な鏡面光
沢外観が得られた。試験片中央におけるニッケル共析率
は１１．０％であった。
沢外観が得られた。試験片中央におけるニッケル共析率
は１１．０％であった。
実施例６
浴組成：実施例１のエチレンジアミンをＮ−アミノエチ
ルエタノールアミン １０ｃ／ｌ （０，０９６モル／
ＩＩ）に変更した。
ルエタノールアミン １０ｃ／ｌ （０，０９６モル／
ＩＩ）に変更した。
ハルセル試験の結果、試験片全面にわたり均一な鏡面光
沢外観が得られた。また、ハルセル板の低電流側からの
距離の相違（すなわち、陰極電流密度の相違）によるニ
ッケル共析率の変化は、第１図に示したとおり、はとん
ど認められなかった。ハルセル板上各部にけるめっき厚
は第２図に示したとおりであった。
沢外観が得られた。また、ハルセル板の低電流側からの
距離の相違（すなわち、陰極電流密度の相違）によるニ
ッケル共析率の変化は、第１図に示したとおり、はとん
ど認められなかった。ハルセル板上各部にけるめっき厚
は第２図に示したとおりであった。
実施例７
浴組成：ＮａＯＨ４０ｃ／ｌ、ＺｎＯ６，２５ｃ／ｌ（
Ｚｎとして５ Ｈ＃） 、 Ｎ ｉＣ１２・６ Ｈ２０
１、６２ｇ／４ （Ｎ ｉとして０．４１／ｌ、Ｚ口／
Ｎｉ−１２，５）、Ｎ−アミノエチルエタノールアミン
５に／ＩＩ（０，０４８モル／ｌ）、トリエタノール
アミン ３０ ｇ／ｌ、光沢剤・ＬＸ−５ＯＲ（荏原ニ
ーシライト株式会社製ジンケート亜鉛めっき用光沢剤；
アミンとエピクロルヒドリンとの反応生成物および芳香
族アルデヒドを含有） Ｆ＋＋ｌ／Ｉ）ハルセル試験
の結果、陰極電流効率はあまり良くないものの、試験片
全面にわたり鏡面光沢外観が得られた。試験片中央にお
けるニッケル共析率は１２，０％であった。
Ｚｎとして５ Ｈ＃） 、 Ｎ ｉＣ１２・６ Ｈ２０
１、６２ｇ／４ （Ｎ ｉとして０．４１／ｌ、Ｚ口／
Ｎｉ−１２，５）、Ｎ−アミノエチルエタノールアミン
５に／ＩＩ（０，０４８モル／ｌ）、トリエタノール
アミン ３０ ｇ／ｌ、光沢剤・ＬＸ−５ＯＲ（荏原ニ
ーシライト株式会社製ジンケート亜鉛めっき用光沢剤；
アミンとエピクロルヒドリンとの反応生成物および芳香
族アルデヒドを含有） Ｆ＋＋ｌ／Ｉ）ハルセル試験
の結果、陰極電流効率はあまり良くないものの、試験片
全面にわたり鏡面光沢外観が得られた。試験片中央にお
けるニッケル共析率は１２，０％であった。
実施例８
浴組成： ＮａＯＨ１３０ｔ／ｌ、 ＺｎＯ２０ｇ／Ｉ
ｔ （Ｚｎとしてｌｅｘ／１＞ 、 Ｎｒｃ＋□・６
Ｈｚｏ １０ ｇ／ρ（Ｎｉとして２．５ｃ／ｌ、Ｚ
ｎ／Ｎ１＝６．４）、Ｎ−アミノエチルエタノールアミ
ン ２０ｇＩｎｃ０．１９モル／］）、トリ工９ ／
−ルア ミ７ ４０ ｇ／１１．光沢剤・ＬＸ−５ＯＲ
５ｍｌ＃ハルセル試験の結果、試験片全面にわたり鏡面
光沢外観が得られた。試験片中央におけるニッケル共析
率は１４．３％であった。
ｔ （Ｚｎとしてｌｅｘ／１＞ 、 Ｎｒｃ＋□・６
Ｈｚｏ １０ ｇ／ρ（Ｎｉとして２．５ｃ／ｌ、Ｚ
ｎ／Ｎ１＝６．４）、Ｎ−アミノエチルエタノールアミ
ン ２０ｇＩｎｃ０．１９モル／］）、トリ工９ ／
−ルア ミ７ ４０ ｇ／１１．光沢剤・ＬＸ−５ＯＲ
５ｍｌ＃ハルセル試験の結果、試験片全面にわたり鏡面
光沢外観が得られた。試験片中央におけるニッケル共析
率は１４．３％であった。
実施例９
浴組成 ： Ｎ！ＯＨ１３０ｔ／ｌ１． Ｚｎ０ １
２．５ｃ／ｌ（Ｚｎとして１０ ！／１１） 、 Ｎ
ｉＣｌｚ・６ Ｈｚｏ １０ ｇ＃ｔ（Ｎｉとして２
．５ｔ／ｌ、Ｚｎ／Ｎ１＝４．０）、Ｎ−アミノエチル
エタノールアミン ２１／ｌ（０，１９モル／ｇ）。
２．５ｃ／ｌ（Ｚｎとして１０ ！／１１） 、 Ｎ
ｉＣｌｚ・６ Ｈｚｏ １０ ｇ＃ｔ（Ｎｉとして２
．５ｔ／ｌ、Ｚｎ／Ｎ１＝４．０）、Ｎ−アミノエチル
エタノールアミン ２１／ｌ（０，１９モル／ｇ）。
トリエタノールアミン１５ｇ／Ｍ、光沢剤・ＬＸ−５Ｏ
Ｒ５ｍｌ／ｆｉ ハルセル試験の結果、試験片全面にわたり鏡面光沢外観
が得られた。試験片各部におけるニッケル共析率は第１
図に示すとおりである。
Ｒ５ｍｌ／ｆｉ ハルセル試験の結果、試験片全面にわたり鏡面光沢外観
が得られた。試験片各部におけるニッケル共析率は第１
図に示すとおりである。
比較例１
実施例９の浴組成においてトリエタノールアミンを配合
しないほかは同様の組成にした。
しないほかは同様の組成にした。
ハルセル試験の結果、中・高電流部においては鏡面光沢
が得られたものの、低電流側から２ｃｍの範囲において
は無光沢のめっきとなった。試験片各部におけるニッケ
ル共析率は第１図に示すとおりである。
が得られたものの、低電流側から２ｃｍの範囲において
は無光沢のめっきとなった。試験片各部におけるニッケ
ル共析率は第１図に示すとおりである。
比較例２（酸性浴）
浴組成 ： ＺｎＣＩｚ １ ｏｏｔ／ａ、 ＮｉＣ
ｌ２・６１１２０１４０ｃ／ｌ、 ＮＨ，ＣＩ ２００
ｃ／ｌ、光沢剤・２Ｎ−５ＯＭＵ（荏原ニーシライト株
式会社製） ５０ｍｌ／ｌ、光沢剤・２＋１−６０ （
荏原ニーシライト株式会社製） ２ ａｔ／ｅ。
ｌ２・６１１２０１４０ｃ／ｌ、 ＮＨ，ＣＩ ２００
ｃ／ｌ、光沢剤・２Ｎ−５ＯＭＵ（荏原ニーシライト株
式会社製） ５０ｍｌ／ｌ、光沢剤・２＋１−６０ （
荏原ニーシライト株式会社製） ２ ａｔ／ｅ。
ｐＨ５，６
ハルセル試験の結果、試験片全面にわたり鏡面光沢外観
が得られたが、試験片各部におけるニッケル共析率は、
第１図に示したとおり低電流密度側で変化が大きかった
。まためっき厚も、第２図に示したとおり、電流密度の
変化に伴う変化が大きかった。
が得られたが、試験片各部におけるニッケル共析率は、
第１図に示したとおり低電流密度側で変化が大きかった
。まためっき厚も、第２図に示したとおり、電流密度の
変化に伴う変化が大きかった。
比較例３
実施例１においてエチレンジアミン １０ｇ＃をエチレ
ンジアミン四酢酸二ナトリウム ３０ｇ＃（０，０８８
モル／りに変更した。
ンジアミン四酢酸二ナトリウム ３０ｇ＃（０，０８８
モル／りに変更した。
ハルセル試験の結果、試験片全面にわたり鏡面光沢外観
が得られたものの、試験片中央におけるニッケル共析率
は２．６％であった。
が得られたものの、試験片中央におけるニッケル共析率
は２．６％であった。
比較例４
実施例１において光沢剤スパー８０を添加しないほかは
同様の組成とした。
同様の組成とした。
ハルセル試験の結果、試験片中央におけるニッケル共析
率は１３．９％であったが、外観は、暗灰色のマット状
のものであった。
率は１３．９％であったが、外観は、暗灰色のマット状
のものであった。
実施例および比較例の結果から明らかなように、本発明
の亜鉛−ニッケル合金めっき液は従来のめっき液ではき
わめて困難であったニッケル共析率ｌＯ〜１６％の亜鉛
−ニッケル共析めっきを可能にしたものであり、しかも
、低電流部から高電流部まで、広い範囲にわたって−様
なニッケル共析を生じるものである。これにより、本発
明のめっき液を用いて得られる亜鉛−ニッケル合金めっ
きは、従来の低ニッケル共析率亜鉛−ニッケル合金めっ
きよりもはるかに優れた耐食性を示す。本発明のめっき
液は、ニッケル共析率の点で優れているだけでなく、広
い電流密度範囲にわたり厚さが均一で、美しい鏡面光沢
を有するめっき皮膜を与えるという特長がある。
の亜鉛−ニッケル合金めっき液は従来のめっき液ではき
わめて困難であったニッケル共析率ｌＯ〜１６％の亜鉛
−ニッケル共析めっきを可能にしたものであり、しかも
、低電流部から高電流部まで、広い範囲にわたって−様
なニッケル共析を生じるものである。これにより、本発
明のめっき液を用いて得られる亜鉛−ニッケル合金めっ
きは、従来の低ニッケル共析率亜鉛−ニッケル合金めっ
きよりもはるかに優れた耐食性を示す。本発明のめっき
液は、ニッケル共析率の点で優れているだけでなく、広
い電流密度範囲にわたり厚さが均一で、美しい鏡面光沢
を有するめっき皮膜を与えるという特長がある。
上述のように、本発明によれば従来のめっき液では到底
不可能であった高品質亜鉛−ニッケル合金めっきが可能
であり、工業用材料、機械部品等の品質向上に大きな貢
献をなし得るものである。
不可能であった高品質亜鉛−ニッケル合金めっきが可能
であり、工業用材料、機械部品等の品質向上に大きな貢
献をなし得るものである。
第１図および第２図は実施例および比較例の試験結果を
示すグラフである。 第１図 ハルセル板低電流部からの距離（ｃ＋＊）陰極電流密度
（Ａ／ｄｍす
示すグラフである。 第１図 ハルセル板低電流部からの距離（ｃ＋＊）陰極電流密度
（Ａ／ｄｍす
Claims (3)
- （１）Ｚｎ＾２＾＋を５〜２０ｇ／ｌ、Ｎｉ＾２＾＋を
０．４〜４．０ｇ／ｌ、但しＺｎ＾２＾＋／Ｎｉ＾２＾
＋（重量比）が４〜１２．５になるように含有し、更に
、Ｎ−アミノエチルエタノールアミン、エチレンジアミ
ン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、
テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン
からなる群から選ばれたアミン系キレート剤１種以上を
０．０４モル／ｌ以上、トリエタノールアミンを１５〜
６０ｇ／ｌ、および有効量の光沢剤を含有することを特
徴とするアルカリ性無シアン亜鉛−ニッケル合金めっき
液。 - （２）光沢剤がアミンとエピクロルヒドリンとの反応生
成物および芳香族アルデヒドからなるものである請求項
１記載のめっき液。 - （３）光沢剤が第四級化されたピリジン化合物からなる
ものである請求項１記載のめっき液。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12823788A JPH01298192A (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | 亜鉛−ニッケル合金めっき液 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12823788A JPH01298192A (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | 亜鉛−ニッケル合金めっき液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01298192A true JPH01298192A (ja) | 1989-12-01 |
Family
ID=14979884
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12823788A Pending JPH01298192A (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | 亜鉛−ニッケル合金めっき液 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01298192A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5417840A (en) * | 1993-10-21 | 1995-05-23 | Mcgean-Rohco, Inc. | Alkaline zinc-nickel alloy plating baths |
| EP1099780A2 (en) | 1999-11-10 | 2001-05-16 | Nihon Hyomen Kagaku Kabushiki Kaisha | Surface treating agent |
| JP2007002274A (ja) * | 2005-06-21 | 2007-01-11 | Nippon Hyomen Kagaku Kk | 亜鉛−ニッケル合金めっき方法 |
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| US9587320B2 (en) | 2014-09-25 | 2017-03-07 | Yuken Industry Co., Ltd. | Additive for acid zinc alloy plating bath, acid zinc alloy plating bath, and method for producing zinc alloy plated article |
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| WO2020130603A2 (ko) | 2018-12-19 | 2020-06-25 | 주식회사 포스코 | 표면외관이 우수한 전기도금강판 및 그 제조방법 |
-
1988
- 1988-05-27 JP JP12823788A patent/JPH01298192A/ja active Pending
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