JPH01299500A - X線ミラーの製造方法及びその装置 - Google Patents
X線ミラーの製造方法及びその装置Info
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- JPH01299500A JPH01299500A JP63128434A JP12843488A JPH01299500A JP H01299500 A JPH01299500 A JP H01299500A JP 63128434 A JP63128434 A JP 63128434A JP 12843488 A JP12843488 A JP 12843488A JP H01299500 A JPH01299500 A JP H01299500A
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- Japan
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- ray mirror
- hole
- male
- ray
- polishing liquid
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24C—ABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
- B24C1/00—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
- B24C1/08—Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods for polishing surfaces, e.g. smoothing a surface by making use of liquid-borne abrasives
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- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—HANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/06—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
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- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—HANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K2201/00—Arrangements for handling radiation or particles
- G21K2201/06—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
- G21K2201/064—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements having a curved surface
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—HANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K2201/00—Arrangements for handling radiation or particles
- G21K2201/06—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
- G21K2201/067—Construction details
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10S359/90—Methods
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- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、例えばX線顕微鏡などに用いられるX線ミラ
ーの製造方法及びその装置に関する。
ーの製造方法及びその装置に関する。
(従来の技術)
X線は可視光に比べ波長が短く、電子線に比べ透過力が
大きいという特徴を持つとともに、元素固有の吸収端や
螢光X線を利用した特定元素の識別も行え、物体の原子
レベルでの情報を得る重要な手段となっている。ところ
が、X線領域では、物質の屈折率が1に極めて近く、可
視域のような屈折型のレンズや直入射反射鏡の製作が困
難である。そこで、現在、実用化されつつあるX@顕微
鏡は、X線が鏡面すれすれに入射すると全反射すること
を利用している。このときの鏡面を形成するのが第 図
に示すようなWolter型光学系である。
大きいという特徴を持つとともに、元素固有の吸収端や
螢光X線を利用した特定元素の識別も行え、物体の原子
レベルでの情報を得る重要な手段となっている。ところ
が、X線領域では、物質の屈折率が1に極めて近く、可
視域のような屈折型のレンズや直入射反射鏡の製作が困
難である。そこで、現在、実用化されつつあるX@顕微
鏡は、X線が鏡面すれすれに入射すると全反射すること
を利用している。このときの鏡面を形成するのが第 図
に示すようなWolter型光学系である。
これは、一つの焦点F1を共有する回転双曲面SHと回
転楕円面SPとからなる。そして、焦点F2を物点とし
、ここを通るX線は上記二つの曲面で反射して焦点F3
に結像する。このように反射面を2回使うのは光軸から
離れた物点の像のゆがみを少なくするためである。さら
に、このようなX線顕微鏡用のX線ミラーにおいては、
第 図に示すように、反射X線(A)の焦点F3に置か
れている検出器(B)への結像を用いるため、直射X線
(C)のX線検出器(B)への入射を遮へいするための
遮光板(D)、(E)をミラ一体−(L)の前後に設け
ている。そして、これら遮光板(D)、 (E)と円筒
状のミラ一体(L)との間のスリット(G)から反射X
線(A)を出入するようにしている。なお、このスリッ
ト(G)は、ミラ一体(L)と数μ隅乃至数10μ簿の
精度で同軸であることを条件としている。
転楕円面SPとからなる。そして、焦点F2を物点とし
、ここを通るX線は上記二つの曲面で反射して焦点F3
に結像する。このように反射面を2回使うのは光軸から
離れた物点の像のゆがみを少なくするためである。さら
に、このようなX線顕微鏡用のX線ミラーにおいては、
第 図に示すように、反射X線(A)の焦点F3に置か
れている検出器(B)への結像を用いるため、直射X線
(C)のX線検出器(B)への入射を遮へいするための
遮光板(D)、(E)をミラ一体−(L)の前後に設け
ている。そして、これら遮光板(D)、 (E)と円筒
状のミラ一体(L)との間のスリット(G)から反射X
線(A)を出入するようにしている。なお、このスリッ
ト(G)は、ミラ一体(L)と数μ隅乃至数10μ簿の
精度で同軸であることを条件としている。
ところで、X線顕微鏡の分解能は、上記回転双曲面8H
と回転楕円面SPの加工精度により決定される。一般に
、鏡面精度は、X線の波長に近い面粗さと比較的周期の
大きな形状精度とに分けられる。そして、理想的なX線
顕微鏡を実現するには、面粗さ及び形状精度は、 nm
オーダの精度が必要となる。たとえば、形状精度0.0
7μ隅1表面粗さ6nmのとき、分解能は0.1μ隅と
なることが報告されている。
と回転楕円面SPの加工精度により決定される。一般に
、鏡面精度は、X線の波長に近い面粗さと比較的周期の
大きな形状精度とに分けられる。そして、理想的なX線
顕微鏡を実現するには、面粗さ及び形状精度は、 nm
オーダの精度が必要となる。たとえば、形状精度0.0
7μ隅1表面粗さ6nmのとき、分解能は0.1μ隅と
なることが報告されている。
しかしながら、非球面である回転双曲面SHと回転楕円
面SPをnmオーダの精度で加工することは、すこぶる
困難であり、従来の非球面加工技術では十分に対応でき
なかった。
面SPをnmオーダの精度で加工することは、すこぶる
困難であり、従来の非球面加工技術では十分に対応でき
なかった。
(発明が解決しようとする課題)
本発明は、上記事情を参酌してなされたもので、例えば
X線顕微鏡などのX線ミラーの鏡面加工を高精度に行う
ことのできるX線ミラーの製造方法及びその装置を提供
することを目的とする。
X線顕微鏡などのX線ミラーの鏡面加工を高精度に行う
ことのできるX線ミラーの製造方法及びその装置を提供
することを目的とする。
(課題を解決するための手段と作用)
WOl t e r型のX線ミラーを、とのX線ミラー
の貫通穴に多孔質部を有する雄型を非接触状態で嵌挿し
、この雄型の内部から貫通穴の内周面に遊離砥粒を含有
する研磨液を噴射供給させることにより、貫通穴の内周
面をnmオーダの精度で研磨するようにしたものである
。
の貫通穴に多孔質部を有する雄型を非接触状態で嵌挿し
、この雄型の内部から貫通穴の内周面に遊離砥粒を含有
する研磨液を噴射供給させることにより、貫通穴の内周
面をnmオーダの精度で研磨するようにしたものである
。
(実施例)
以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳述する。
第1図は、この実施例のX線ミラーの製造装置を示して
いる。この装置は、Wolterg光学系を構成するX
線ミラー(1)の内周面を加工するためのものである。
いる。この装置は、Wolterg光学系を構成するX
線ミラー(1)の内周面を加工するためのものである。
このX線ミラー(1)貫通穴(la)の内周面は、回転
双曲面(2)と回転楕円面(3)とが軸心(4)を共有
して連接してなりている。そして、これらの曲面(2)
、 (3)は、あらかじめダイヤモンド切削により表面
粗さが、数10A程度lこまで精密切削されている。し
かして、この装置は、X線ミラー(1)を着脱自在に保
持するX線ミラー保持部(5)と、X線ミラー(1)の
貫通穴(1a)に挿入される雄型部(6)と、この雄型
(6)を軸心(4)のまわり矢印(7)方向に回転自在
かつ軸心(4)に沿う矢印(8)方向に微小振動自在に
軸支する軸受部(9)と、この軸受部(9)及び雄を部
(6)を介して内周面(1)に研磨液(10)を給液す
る給液部(11)と、雄型部(6)を矢印(7)方向及
び矢印(8)方向に駆動する雄型駆動部(12)と、内
部に研磨液(10)が充填されX線ミラー保持部(5)
、雄型部(6)、軸受部(9)、給液部(11)及び雄
型駆動部(12)を研磨液(10)lこ浸漬状態で収納
する研磨種部(13)とから構成されている。しかして
、雄型部(6)は、雌型となる貫通穴(1a)に対して
、約10〜30μ風のギャップをもって挿脱自在に挿入
される雄型(14)と、この雄型(14)の後端部に同
軸に連結された円柱状の軸体(15)とからなっている
。そして、雄型(14)と軸体(15)の内部には中空
部(16)が設けられている。つまり、雄型(14)の
外周面は、回転双曲面と回転楕円面とが形成されている
。また、軸体(15)には、外面から中空部(16)に
連通する連通孔(17)・・・が等配して穿設されてい
る。さらiこ、雄型(14)は、焼結合金、焼結セラミ
ック等の多孔質部材からまっている。一方、軸受部(9
)は、いわゆるロータリ・カップリングをなし内部が中
空に設けられ且つ軸体(15)を液密に軸支する円環状
の軸受(18)と、一端部が研磨種部(13)の外部上
方に位置調整自在に設けられた固定部材(19)に固定
され他端部に軸受(15)が垂設された支持部材(20
)とからなっている、さらに給液部(11)は、研磨種
部(13)に設置されたポンプ(21)と、このポンプ
(21)から吐出された研磨液(10)を軸受(15)
に案内する案内管(22)とからなっている、さらに、
雄型駆動部(12)は、雄型部(6)に直結して矢印(
7)方向に回転駆動するモータ(23)と、°このモー
タ(23)と雄型部(6)を−体的に矢印(8)方向に
10〜100μmの振幅で振動させる加振部(24)と
からなっている。さらに、上記研磨液(10)は、μ罵
オーダの粉状ダイヤモンドを水に分散させたものである
。
双曲面(2)と回転楕円面(3)とが軸心(4)を共有
して連接してなりている。そして、これらの曲面(2)
、 (3)は、あらかじめダイヤモンド切削により表面
粗さが、数10A程度lこまで精密切削されている。し
かして、この装置は、X線ミラー(1)を着脱自在に保
持するX線ミラー保持部(5)と、X線ミラー(1)の
貫通穴(1a)に挿入される雄型部(6)と、この雄型
(6)を軸心(4)のまわり矢印(7)方向に回転自在
かつ軸心(4)に沿う矢印(8)方向に微小振動自在に
軸支する軸受部(9)と、この軸受部(9)及び雄を部
(6)を介して内周面(1)に研磨液(10)を給液す
る給液部(11)と、雄型部(6)を矢印(7)方向及
び矢印(8)方向に駆動する雄型駆動部(12)と、内
部に研磨液(10)が充填されX線ミラー保持部(5)
、雄型部(6)、軸受部(9)、給液部(11)及び雄
型駆動部(12)を研磨液(10)lこ浸漬状態で収納
する研磨種部(13)とから構成されている。しかして
、雄型部(6)は、雌型となる貫通穴(1a)に対して
、約10〜30μ風のギャップをもって挿脱自在に挿入
される雄型(14)と、この雄型(14)の後端部に同
軸に連結された円柱状の軸体(15)とからなっている
。そして、雄型(14)と軸体(15)の内部には中空
部(16)が設けられている。つまり、雄型(14)の
外周面は、回転双曲面と回転楕円面とが形成されている
。また、軸体(15)には、外面から中空部(16)に
連通する連通孔(17)・・・が等配して穿設されてい
る。さらiこ、雄型(14)は、焼結合金、焼結セラミ
ック等の多孔質部材からまっている。一方、軸受部(9
)は、いわゆるロータリ・カップリングをなし内部が中
空に設けられ且つ軸体(15)を液密に軸支する円環状
の軸受(18)と、一端部が研磨種部(13)の外部上
方に位置調整自在に設けられた固定部材(19)に固定
され他端部に軸受(15)が垂設された支持部材(20
)とからなっている、さらに給液部(11)は、研磨種
部(13)に設置されたポンプ(21)と、このポンプ
(21)から吐出された研磨液(10)を軸受(15)
に案内する案内管(22)とからなっている、さらに、
雄型駆動部(12)は、雄型部(6)に直結して矢印(
7)方向に回転駆動するモータ(23)と、°このモー
タ(23)と雄型部(6)を−体的に矢印(8)方向に
10〜100μmの振幅で振動させる加振部(24)と
からなっている。さらに、上記研磨液(10)は、μ罵
オーダの粉状ダイヤモンドを水に分散させたものである
。
つぎに、上記構成の装置を用いてこの実施例のX線ミラ
ーの製造方法について述べる。
ーの製造方法について述べる。
まず、X線ミラー保持部(5)にX線ミラー(1)を保
持させる。つぎに、軸受(18)に雄塵部(6)の軸体
(15)を軸支させたのち、上記雄型(14)をX線ミ
ラー(1)の貫通穴(1a)中に約lO〜30μ肩のギ
ャップを均一に生じるように挿入する。そして、モータ
(23)及び加振部(24)を起動し、雄型(14)を
軸心(4)の回り矢印(7)方向に例えば1分間に30
0回転で回転させるとともに、軸心(4)に沿う矢印(
8)方向に例えばlO〜100μ肩の振幅かつ振動数1
000flzで振動させる。これと同時に、ポンプ(2
1)を起動すると、研磨種部(13)内の研磨液(10
)は、案内管(22) 、軸受(15) 、連通孔(1
7)・・・及び雄型部(6)の中空部(6)を経由して
、雄型(14)の微細孔からX線ミラー(1)の貫通穴
(1a)の内周面に噴射される(矢印(29)、 (3
0)、 (31)、 (32)、 (34)参照)。
持させる。つぎに、軸受(18)に雄塵部(6)の軸体
(15)を軸支させたのち、上記雄型(14)をX線ミ
ラー(1)の貫通穴(1a)中に約lO〜30μ肩のギ
ャップを均一に生じるように挿入する。そして、モータ
(23)及び加振部(24)を起動し、雄型(14)を
軸心(4)の回り矢印(7)方向に例えば1分間に30
0回転で回転させるとともに、軸心(4)に沿う矢印(
8)方向に例えばlO〜100μ肩の振幅かつ振動数1
000flzで振動させる。これと同時に、ポンプ(2
1)を起動すると、研磨種部(13)内の研磨液(10
)は、案内管(22) 、軸受(15) 、連通孔(1
7)・・・及び雄型部(6)の中空部(6)を経由して
、雄型(14)の微細孔からX線ミラー(1)の貫通穴
(1a)の内周面に噴射される(矢印(29)、 (3
0)、 (31)、 (32)、 (34)参照)。
すると、雄型(14)から供給された研磨液(10)に
含まれている砥粒は、X線ミラー(1)の貫通穴(1a
)の内周面に衝突し、この内周面のnmオーダでの超精
密研磨が進行する(第2図参照)。
含まれている砥粒は、X線ミラー(1)の貫通穴(1a
)の内周面に衝突し、この内周面のnmオーダでの超精
密研磨が進行する(第2図参照)。
以上のように、この実施例においては、研磨液(10)
の砥粒を雄型(14)とX線ミラー(1)とが非接触状
態で貫通穴(1a)の内周面に噴射しているので、この
内周面にては、主として■砥粒の衝突による微小弾性破
壊、■砥粒と内周面との原子オーダでの相互作用、の二
つの加工作用が生じ、その結果、X線ミラー(1)の貫
通穴(la)の内周面のnmオーダ(表面粗さ2〜3人
が可能)での加工が可能となる。よって、X線顕微鏡と
して理想的な表面粗さ及び形状精度を得ることができる
。
の砥粒を雄型(14)とX線ミラー(1)とが非接触状
態で貫通穴(1a)の内周面に噴射しているので、この
内周面にては、主として■砥粒の衝突による微小弾性破
壊、■砥粒と内周面との原子オーダでの相互作用、の二
つの加工作用が生じ、その結果、X線ミラー(1)の貫
通穴(la)の内周面のnmオーダ(表面粗さ2〜3人
が可能)での加工が可能となる。よって、X線顕微鏡と
して理想的な表面粗さ及び形状精度を得ることができる
。
なお、上記実施例1こおいて、X線ミラー(1)側を軸
心(4)の回りに回転あるいは、軸心(4)に沿って振
動させてもよい。このとき、雄型(14)は固定しても
よい。さらに、軸心(4)に対する回転又は振動のうち
振動の方は省略してもよい。さらに、研磨液の溶媒とし
ては、水の代りに、アルカリ性又は酸性液を用いてもよ
い。
心(4)の回りに回転あるいは、軸心(4)に沿って振
動させてもよい。このとき、雄型(14)は固定しても
よい。さらに、軸心(4)に対する回転又は振動のうち
振動の方は省略してもよい。さらに、研磨液の溶媒とし
ては、水の代りに、アルカリ性又は酸性液を用いてもよ
い。
本発明は、 Wolter型のX線ミラーの製造におい
て、貫通穴1こ非接触状態で挿入されている多孔質の雄
型の外周面から研磨液を貫通穴の内周面に供給させてい
るので、nmオーダでの超精密加工が可能となる。よっ
て、理想的なX線顕微鏡の製造が可能となる。
て、貫通穴1こ非接触状態で挿入されている多孔質の雄
型の外周面から研磨液を貫通穴の内周面に供給させてい
るので、nmオーダでの超精密加工が可能となる。よっ
て、理想的なX線顕微鏡の製造が可能となる。
第1図は本発明の一実施例のX線ミラーの製造装置の構
成図、第2図は本発明の一実施例のX線ミラーの製造方
法の説明図、第3図は従来技術の説明図である・ (1)・・・X線ミラー、 (la)・・・貫通穴。 (2)・・・回転双曲面、(3)・・・回転楕円面。 (4)・・・軸心、(5)・・・X線ミラー保持部。 (9)・・・軸受部、 (10)・・・研磨液。 (11)・・・給液部(研磨液供給部)。 (12)・・・雄型駆動部、 (14)・・・雄型
。 (16)・・・中空部。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 松山光之
成図、第2図は本発明の一実施例のX線ミラーの製造方
法の説明図、第3図は従来技術の説明図である・ (1)・・・X線ミラー、 (la)・・・貫通穴。 (2)・・・回転双曲面、(3)・・・回転楕円面。 (4)・・・軸心、(5)・・・X線ミラー保持部。 (9)・・・軸受部、 (10)・・・研磨液。 (11)・・・給液部(研磨液供給部)。 (12)・・・雄型駆動部、 (14)・・・雄型
。 (16)・・・中空部。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 松山光之
Claims (2)
- (1)貫通穴の内面に回転双曲面及び回転楕円面が形成
されているX線ミラーの製造方法において、多孔質部を
有する雄型を上記貫通穴に非接触状態で嵌挿する工程と
、上記貫通穴に嵌挿されている雄型の内部からこの雄型
が対向している貫通穴の内面に遊離砥粒を含有する研磨
液を供給する工程とを具備することを特徴とするX線ミ
ラーの製造方法。 - (2)貫通穴の内面に回転双曲面及び回転楕円面が形成
されているX線ミラーの製造装置において、上記X線ミ
ラーを保持するX線ミラー保持部と、上記貫通穴に非接
触状態で嵌挿される多孔質かつ中空の雄型と、この雄型
をその軸心の回りに回転自在かつ上記貫通穴に対して嵌
脱自在に保持する軸受部と、遊離砥粒を含有する研磨液
を上記雄型の中空部からこの雄型が対向している貫通穴
の内面に供給噴射する研磨液供給部と、上記雄型をその
軸心の回りに回転駆動するとともに上記軸心方向に加振
する雄型駆動部とを具備することを特徴とするX線ミラ
ーの製造装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63128434A JPH0631888B2 (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | X線ミラーの製造方法及びその装置 |
| US07/353,499 US4969725A (en) | 1988-05-27 | 1989-05-18 | Method and apparatus for finishing an X-ray mirror |
| EP89305052A EP0343861B1 (en) | 1988-05-27 | 1989-05-18 | Method and apparatus for manufacturing an x-ray mirror |
| DE8989305052T DE68905858T2 (de) | 1988-05-27 | 1989-05-18 | Verfahren und vorrichtung fuer die herstellung eines roentgenstrahlenspiegels. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63128434A JPH0631888B2 (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | X線ミラーの製造方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01299500A true JPH01299500A (ja) | 1989-12-04 |
| JPH0631888B2 JPH0631888B2 (ja) | 1994-04-27 |
Family
ID=14984649
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63128434A Expired - Lifetime JPH0631888B2 (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | X線ミラーの製造方法及びその装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4969725A (ja) |
| EP (1) | EP0343861B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0631888B2 (ja) |
| DE (1) | DE68905858T2 (ja) |
Cited By (3)
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|---|---|---|---|---|
| JP2012230388A (ja) * | 2006-04-28 | 2012-11-22 | Corning Inc | モノリシックオフナー分光器 |
| JP2013221874A (ja) * | 2012-04-17 | 2013-10-28 | Osaka Univ | X線光学システム |
| CN110148483A (zh) * | 2019-05-31 | 2019-08-20 | 杨振敏 | 一种中子束调整装置 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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