JPH0130131B2 - - Google Patents

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JPH0130131B2
JPH0130131B2 JP54141822A JP14182279A JPH0130131B2 JP H0130131 B2 JPH0130131 B2 JP H0130131B2 JP 54141822 A JP54141822 A JP 54141822A JP 14182279 A JP14182279 A JP 14182279A JP H0130131 B2 JPH0130131 B2 JP H0130131B2
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JP
Japan
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electrode
electrodes
substrate
large substrate
liquid crystal
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JP54141822A
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JPS5665118A (en
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Kenzo Endo
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Casio Computer Co Ltd
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Casio Computer Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は電気光学表示セルの製造方法に関す
るものである。
電気光学表示セル例えば液晶表示セルは、小型
電子式計算機や電子時計等の小型電子機器の表示
装置として広く用いられているが、最近では小型
電子機器の多数能化に伴なつて表示情報も多様化
しているために、従来の単層構造の液晶表示セル
に代えて液晶層を上下複数層に備えた2層型また
はさらに体層型の液晶表示セルが用いられるよう
になつてきている。
前記2層型の液晶表示セルは、第1図に示すよ
うに、上部電極基板1と中間電極基板2と下部電
極基板3とをスペーサを兼ねるシール材4,4を
介して積層重合し、前記上部電極基板1と中間電
極基板2との間及び中間電極基板2と下部電極基
板3との間にそれぞれ液晶を封入してなるもの
で、上部電極基板1は中間電極基板2より広巾と
され、また中間電極基板2は下部電極基板3より
広巾とされており、回路基板とインタコネクタを
介して接続されるリード端子は前記上部電極基板
1と中間電極基板2の側縁部下面にそれぞれ配列
されている。
この2層型液晶表示セルは、一般に上下2つの
液晶層の切換え駆動により異なる情報を表示する
もので、例えば演算機能等を合わせもつた電子時
計に用いられるものは、一方の液晶層で時刻を表
示し、他方の液晶層で演算データ等を切換表示す
るように構成されている。
ところで、上記のような2層型の液晶表示セル
を製造する場合、一般には、1つ1つのセルを
個々に組立てる方法と、電極基板複数枚分の電極
を配列形成した3枚の大型基板を積層重合して複
数のセルを一度に組立てる方法とがあり、後者の
方法によれば複数個のセルを一度に能率良く製造
することができる。
このような方法で2層型液晶表示セルを製造す
る場合、従来は第2図に示すように、積層重合さ
れる3枚の大型基板A,B,Cのうち、上部の大
型基板Aの下面に第1図に示したセルの上部電極
基板下面の電極に相当する電極(第1セグメント
電極)5,5を配列形成し、中間の大型基板Bの
上下面には、前記セルの中間電極基板上面の電極
に相当する電極(第1コモン電極)6,6と前記
中間電極基板下面の電極に相当する電極(第2セ
グメント電極)7,7とをそれぞれ余白部9を間
にとつて配列形成し、下部の大型基板Cの上面に
は前記セルの下部電極基板上面の電極に相当する
電極(第2コモン電極8,8を前記余白部9より
さらに広い余白部10を間にとつて配列形成し
て、これら各大型基板A,B,Cを図示のように
各電極形成部を囲むシール材4,4を介して重合
接着している。
しかしながら、上記のような方法では、上部大
型基板Aの下面に電極5,5を配列形成するため
のマスクと、中間大型基板Bの両面に電極6,6
及び7,7を配列形成するための2種類のマスク
と、下部大型基板Cの上面に電極8,8を配列形
成するためのマスクとの計4種類つまり液晶層数
の2倍の数のパターンマスクが必要であるため
に、パターンマスクの製作が非常に大変であつ
た。しかも上記従来の方法では、上記各大型基板
A,B,Cを積層重合した後にこれを第1図に示
したような個々のセルに分離するのに、各大型基
板A,B,Cを第2図に破線で示す分離線11
a,11b,11cにおいて切断または折断しな
ければならず、中間大型基板Bと下部大型基板C
はそれぞれ電極形成部間ごとに2ケ所づつ切断し
なければならないから、個々のセルへの分離作業
に多くの工数を要するし、また切断された余白部
9,10は切屑として捨てるしかないから材料無
駄が非常に多いという欠点もあつた。
この発明は上記のように実情にかんがみてなさ
れたものであつて、その目的とするところは、電
極基板複数枚分の電極を配列形成した少なくとも
3枚以上の大型基板を積層重合して複数の多層型
電気光学表示セルを一度に組立てるようにしたも
のでありながら、電気光学物質層の数と同数種の
パターンマスクを使用するだけで全ての大型基板
に必要な電極を全て形成することができるように
すると共に、個々のセルへの分離に際しても、分
離作業に要する工数を大巾に少なくすることがで
き、さらには材料無駄をもなくすことができるよ
うにした電気光学表示セルの製造方法を提供する
ことにある。
以下、この発明の一実施例を2層型液晶表示セ
ルを製造する場合について図面を参照し説明す
る。
第3図においてA,B,Cは電極基板複数枚分
の電極を配列形成した同一大の上、中、下3枚の
大型基板であり、同図は前記各大型基板A,B,
Cを各電極形成部を囲むシール材4,4を介して
重合接着した状態を示している。
この2層型液晶表示セルの製造方法は、第3図
に示すように、上部の大型基板Aの下面に、第1
図に示したセルの上部電極基板下面の電極に相当
する電極(第1セグメント電極)5と、前記セル
の下部電極基板上面の電極に相当する電極(第2
コモン電極)8とを交互に配列形成し、下部の大
型基板Cの上面には、前記上部の大型基板Aに形
成した電極5,8と全く同じ電極5,8を上部大
型基板Aを図上左右に裏返えして見たものと同一
のパターンで配列形成し、さらに中間の大型基板
Bには、その上面に、前記セルの中間電極基板上
面の電極に相当する電極(第1コモン電極)6
と、前記中間電極基板の下面の電極に相当する電
極(第2セグメント電極)7とを交互に形成する
と共に、この中間大型基板Bの下面に、その上面
に形成した前記電極6,7と全く同じ電極6,7
を、この中間大型基板Bの上面を図上左右に裏返
えして見たものと同一のパターンで配列形成し
て、これら各大型基板A,B,Cを積層重合する
もので、前記各大型基板A,B,Cはそれぞれの
電極形成部を正対させるために図上左右方向に順
次ずらして重合される。
前記各大型基板A,B,Cへの各電極5,6,
7,8の形成は、良く知られたパターンエツチン
グ法等で行なえばよく、例えば上部の液晶層で第
4図aに示すパターンaを表示し、下部の液晶層
で第4図bに示すパターンbを表示する2層型液
晶表示セルを製造する場合は、上部大型基板Aの
下面に第5図aに示すパターンで第1セグメント
電極5と第2コモン電極8を1列または1行毎に
交互に配列形成し、また中間大型基板Bの上面に
は第5図bに示すパターンで第1コモン電極6と
第2セグメント電極7を1列または1行毎に交互
に配列形成する。なお第5図a及び第5図bにお
いて12,12及び13,13は各セグメント電
極形成部の上下縁に沿わせて形成されたセグメン
ト電極リード端子、12a及び13aは前記セグ
メント電極リード端子12,12及び13,13
と並べて形成されたコモン電極リード端子、14
及び15は各コモン電極形成部の上縁部に形成さ
れたトランスフア用端子である。上部大型基板A
側のトランスフア用端子14はトランスフア部材
を介して中間大型基板上面のコモン電極リード端
子13aと接続されるものであり、また中間大型
基板上面のトランスフア用端子15は上部大型基
板A側のコモン電極リード端子12aとトランス
フア部材(図示せず)を介して接続されるもので
ある。
一方、前記中間大型基板Bの下面には、第5図
cに示すように、その上面に形成した電極パター
ンと全く同一のパターンで第1コモン電極6と第
2セグメント電極7及びそれぞれのリード端子1
3,13aとトランスフア用端子15を形成し、
また下部大型基板Cの上面には第5図dに示すよ
うに、上部大型基板Aの下面に形成した電極パタ
ーンと全く同一のパターンで第1セグメント電極
5と第2コモン電極8及びそれぞれのリード端子
12,12aとトランスフア用端子14を形成す
る。なお、中間大型基板Bの下面のトランスフア
用端子15はトランスフア部材を介して下部電極
基板C側のコモン電極リード端子12aと接続さ
れるものであり、また下部大型基板C側のトラン
スフア用端子14はトランスフア部材を介して中
間大型基板下面のコモン電極リード端子13aと
接続されるものである。
つまり、この2層型液晶表示セルの製造方法
は、上部大型基板Aと下部大型基板Cとに全く同
じパターンで第1セグメント電極5と第2コモン
電極8を形成し、中間大型基板Bの上面と下面と
にも全く同じパターンで第1コモン電極6と第2
セグメント電極7を形成するようにしたもので、
この製造方法によれば上部大型基板Aと下部大型
基板Cへの電極パターンの形成を同一のパターン
マスクを使用して行なうことができ、また中間大
型基板Bの上面と下面への電極パターンの形成も
同一のパターンマスクを使用して行なうことがで
きるから、パターンマスクの種数は2種類ですむ
ことになる。このことは、ダイナミツク駆動用の
電極を形成する場合であつても同様である。
この後は、上記のようにして電極パターンを形
成した各大型基板A,B,Cを、下部大型基板C
の上面と中間大型基板Bの下面、及び中間大型基
板Bの上面と上部大型基板Aの下面をそれぞれ第
1セグメント電極5と第1コモン電極、第2セグ
メント電極7と第2コモン電極8を正対させて重
合接着して第3図に示すように上面が上向きのセ
ルと上面が下向きのセルとが交互に配列された形
態のセル集合体に組立て、この後各大型基板A,
B,Cを第3図及び第5図a〜dに破線で示した
分断線11a,11b,11aにおいて分断して
個々のセルに分離すればよい。なお、TN型液晶
表示セルなどの配向処理を必要とするセルを製造
する場合には、大型基板A,B,Cを重合接着す
る前に各大型基板の電極形成面に配向処理を施せ
ばよい。また各セル内への液晶の注入はセル集合
体の状態で行なつてもよいし、個々のセルに分離
した後に行なつてもよい。
前記セル集合体を個々のセルに分離する方法と
しては、各大型基板A,B,Cに前記分断線11
a,11b,11aに沿つて片面または両面に切
疵を入れておき、この切疵に沿つて各大型基板
A,B,Cを折るか、あるいは上下の大型基板
A,Cはダイシングマシン等で切断し、中間大型
基板Bのみを前記切疵に沿つて折る方法が採用さ
れる。この様に、複数積層重合された大型基板の
うち、内側の大型基板Bに予め切疵を入れてお
き、外側の大型基板A,Cのみを切断することに
よりセル集合体を個々のセルに分離する方法によ
れば、大型基板の重合接着する工程等における加
熱処理、あるいは搬送中にセル集合体が不必要に
分断されることがない。
この場合、前記各大型基板A,B,Cをそれぞ
れ各電極形成部間を1ケ所で分断すればよいか
ら、前記セル集合体を個々のセルに分離する作業
を少ない分断工数で能率良く行なうことができる
し、また前記各大型基板A,B,Cには余白部が
なく、さらに各大型基板A,B,Cを第3図に示
すようにずらして重合することによりセル集合体
の端部を第2図に示したように分断する必要もな
くなるから、従来法に比べて材料無駄がなくなる
利点もある。
なお、上記実施例では積層配置される3枚の電
極基板がそれぞれ大きさを異にしている2層型液
晶表示セルを製造する場合について説明したが、
この発明は3枚の電極基板の大きさが略等しい2
層型液晶表示セルの製造に利用し得ることは勿論
のこと、3層以上の多層型液晶表示セルの製造に
も利用することができるものであり、その場合で
も各大型基板に電極を形成するためのパターンマ
スクは液晶層の数と同数種用意すればよいもので
ある。また、この発明は液晶表示セルの製造のみ
に限定されるものではなく、エレクトロクロミツ
ク表示セル等のような液状の電気光学物質を用い
た多層型電気光学表示セルの製造はほとんどに利
用し得るものであり、さらには各層に異なる電気
光学物質を用いた表示セル、例えば第1層で液晶
表示、第2層でエレクトロクロミツク表示、第3
層で電気泳動表示を行なうような複合多層型の電
気光学表示セルの製造にも利用し得るものであ
る。
この発明は上記のようなものであるから、電極
基板複数個分の電極を配列形成した少なくとも3
枚以上の大型基板を積層重合して複数の多層型電
気光学表示セルを一度に組立てるようにしたもの
でありながら、電気光学物質層の数と同数種のパ
ターンマスクを使用するだけで全ての大型基板に
必要な全ての電極を形成することができると共
に、個々のセルへの分離に際しても分離作業に要
する工数を大巾に少なくすることができ、さらに
は材料無駄をもなくすことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は2層型液晶表示セルの斜視図、第2図
は従来の2層型液晶表示セルの製造方法を示すセ
ル組立て状態の縦断側面図、第3図〜第5図a,
b,c,dはこの発明の一実施例を示すもので第
3図はセル組立て状態の縦断側面図、第4図a,
bは上部液晶層と下部液晶層による表示パターン
を示す平面図、第5図aは上部大型基板の底面
図、第5図bは中間大型基板の平面図、第5図c
は中間大型基板の底面図、第5図dは下部大型基
板の平面図である。 A,B,C……大型基板、5……第1セグメン
ト電極、6……第1コモン電極、7……第2セグ
メント電極、8……第2コモン電極、11a,1
1b……分断線。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 複数セル分の電極が配列形成された大型基板
    を3枚以上積層重合して、多層型の電気光学表示
    セルを一度に複数個製造する方法において、前記
    複数の大型基板は、それらの各電極形成面ごとに
    それぞれ、前記電気光学表示セルの上からi番目
    の電極形成面の電極と下からi番目の電極形成面
    の電極とが1つのセル分ごとに交互に配列形成さ
    れ、且つ前記複数の大型基板のうち、外側大型基
    板以外の他の内側大型基板に予め上記外側大型基
    板の分断線の位置とは異なる位置に個々のセル分
    ごとの切疵が形成され、前記複数の大型基板を積
    層重合した後、前記外側大型基板を個々のセルご
    とに切断し、次いで前記内側大型基板を前記切疵
    に沿つて折ることにより、積層重合された複数の
    大型基板を個々のセルごと分離することを特徴と
    する電気光学表示セルの製造方法。
JP14182279A 1979-11-01 1979-11-01 Production of electro-optic display cell Granted JPS5665118A (en)

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JPS5665118A JPS5665118A (en) 1981-06-02
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5488096A (en) * 1977-12-26 1979-07-12 Hitachi Ltd Substrate for liquid crystal display element

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