JPH01302195A - 位置決め装置 - Google Patents
位置決め装置Info
- Publication number
- JPH01302195A JPH01302195A JP63131358A JP13135888A JPH01302195A JP H01302195 A JPH01302195 A JP H01302195A JP 63131358 A JP63131358 A JP 63131358A JP 13135888 A JP13135888 A JP 13135888A JP H01302195 A JPH01302195 A JP H01302195A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- vibration
- movable part
- positioning device
- drive
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/707—Chucks, e.g. chucking or un-chucking operations or structural details
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は微細な制御を必要とする半導体製造分野におい
て使用される移動ステージなどの位置決め装置に関する
ものである。
て使用される移動ステージなどの位置決め装置に関する
ものである。
［従来の技術］
従来、この種の移動ステージとしては駆動系としてボー
ルネジやりニアモータ等、また摺動部としてはエアベア
リングやニードルベアリング等を用いた種々の方式があ
るが、ステージ自体から発生する振動の影響とか、ステ
ージ停止時に発生するステージの振動を抑えるために、
低速駆動が強いられていた。それでも数μｍ以下に位置
決めをするには相当の時間を要し、このために摩擦負荷
等を与えていた。
ルネジやりニアモータ等、また摺動部としてはエアベア
リングやニードルベアリング等を用いた種々の方式があ
るが、ステージ自体から発生する振動の影響とか、ステ
ージ停止時に発生するステージの振動を抑えるために、
低速駆動が強いられていた。それでも数μｍ以下に位置
決めをするには相当の時間を要し、このために摩擦負荷
等を与えていた。
［発明が解決しようとする問題点］
しかしながら従来例の一つの対応である摩擦負荷にたよ
る方法では、摩擦抵抗のため起動時特性の劣化、またス
テイクスリップおよび弾性変形などによる振動の発生お
よび停止時の微振動の誘発などで必ずしも良い結果が得
られなかった。
る方法では、摩擦抵抗のため起動時特性の劣化、またス
テイクスリップおよび弾性変形などによる振動の発生お
よび停止時の微振動の誘発などで必ずしも良い結果が得
られなかった。
本発明は上記従来技術の欠点に鑑みなされたものであっ
て、位置決めすべ台可動部（ステージ）の移動開始時お
よび停止時の微振動に伴う駆動特性劣化、弾性変形等を
防止し、ステージを高速、高精度で円滑に位置決め制御
可能な位置決め装置の提供を目的とする。
て、位置決めすべ台可動部（ステージ）の移動開始時お
よび停止時の微振動に伴う駆動特性劣化、弾性変形等を
防止し、ステージを高速、高精度で円滑に位置決め制御
可能な位置決め装置の提供を目的とする。
［問題点を解決するための手段および作用］本発明にお
いてはステージを駆動し、また位置を保持するための駆
動部と移動ステージ部との間に微振動を発生する振動素
子を配置し、移動ステージ部を駆動部および摺動部に対
して振動させることにより、微移動に伴なって生じる弾
性変形や不平衡状態、ヒステリシス等の影響を緩和しス
テージの動作特性を改良したものである。
いてはステージを駆動し、また位置を保持するための駆
動部と移動ステージ部との間に微振動を発生する振動素
子を配置し、移動ステージ部を駆動部および摺動部に対
して振動させることにより、微移動に伴なって生じる弾
性変形や不平衡状態、ヒステリシス等の影響を緩和しス
テージの動作特性を改良したものである。
［実施例］
以下、実施例にもとづいて詳細な説明を行なう。
第１図は本発明に係る１軸移動ステージの実施例であり
、１は基板、２は駆動用モータ、３は駆動モータに直結
した送りネジ、４はナツト、５はナツトを保持するホル
ダ、６は左右一対に配置された加振素子、７はステージ
、８は基板１に対してステージ７を一方向に移動するガ
イドである。
、１は基板、２は駆動用モータ、３は駆動モータに直結
した送りネジ、４はナツト、５はナツトを保持するホル
ダ、６は左右一対に配置された加振素子、７はステージ
、８は基板１に対してステージ７を一方向に移動するガ
イドである。
ステージの移動および動作は、駆動モータ２の回転が送
りネジ３に伝達され、ナツト４を介して直線駆動力をス
テージ７に与えステージ７はガイド８にそって移動する
。この時ナツト４のホルダ５は一端をピエゾ素子等の加
振素子６に結合され、加振素子６の他端はステージ７に
結合されている。
りネジ３に伝達され、ナツト４を介して直線駆動力をス
テージ７に与えステージ７はガイド８にそって移動する
。この時ナツト４のホルダ５は一端をピエゾ素子等の加
振素子６に結合され、加振素子６の他端はステージ７に
結合されている。
したがって、加振素子６による振動はホルダ５に対して
ステージ７を振動させるとともに、ナツト４を送りネジ
３に対して振動させ、また、送りネジ３も軸受９へのス
ラスト方向の振動となり。
ステージ７を振動させるとともに、ナツト４を送りネジ
３に対して振動させ、また、送りネジ３も軸受９へのス
ラスト方向の振動となり。
更にモータ２を微回転振動させることになる。
このように加振素子６の振動は駆動部および摺動部の各
部に伝播する。
部に伝播する。
加振素子６の制御はステージ駆動制御装置（図示せず）
に連動して、別置された振動制御装置（図示せず）によ
り行なわれる。
に連動して、別置された振動制御装置（図示せず）によ
り行なわれる。
振動ｔｊＩＪａＩ装置による制御の１つはステージの移
動開始前に行ない、始動特性を向上することと、停止直
前より行ない、停止時のステージの振動を防止すること
である。
動開始前に行ない、始動特性を向上することと、停止直
前より行ない、停止時のステージの振動を防止すること
である。
一般に、数μｍ以下の微小移動を行なうか位置決めを行
なう場合には、摺動部の抵抗によりステイクスリップや
ボールネジまたはニードルベアリングの弾性変形による
抵抗や振動の影響が大きくなる。また、抵抗の多い静止
摩擦から動摩擦への転換をはかる場合などには、微振動
が上記現象の緩和に効果的である。
なう場合には、摺動部の抵抗によりステイクスリップや
ボールネジまたはニードルベアリングの弾性変形による
抵抗や振動の影響が大きくなる。また、抵抗の多い静止
摩擦から動摩擦への転換をはかる場合などには、微振動
が上記現象の緩和に効果的である。
加振素子６への制御信号としては数ＫＨｚの一定周期、
一定振幅の０．１μｍ程度の微振動を継続して供給する
方法と、上記したようにステージの状況によりより効果
的な周期または振幅を定常状態より減衰方向に変調して
与える。
一定振幅の０．１μｍ程度の微振動を継続して供給する
方法と、上記したようにステージの状況によりより効果
的な周期または振幅を定常状態より減衰方向に変調して
与える。
すなわち、ステージ起動時には始動抵抗を少なくする方
向に、移動中は高周期振動により滑かな移動を幇助し、
停止時には高振幅から低振幅への減衰振動を行ないステ
ージ振動を抑制するように作動させる。一般的に加振素
子による振動周期は数千Ｈｚから数百Ｈｚ程度であり、
振勅撮幅は数μｍから０．０１μｍ程度である。
向に、移動中は高周期振動により滑かな移動を幇助し、
停止時には高振幅から低振幅への減衰振動を行ないステ
ージ振動を抑制するように作動させる。一般的に加振素
子による振動周期は数千Ｈｚから数百Ｈｚ程度であり、
振勅撮幅は数μｍから０．０１μｍ程度である。
これらは対象とする目的または加振物体の固有振動数等
により最適なものとして与えられる。
により最適なものとして与えられる。
上記実施例では加振素子６をホルダ５とステージ７の間
に配置したが、これに限定されるものではなく、ステー
ジ７の起動、走行および停止時の動作特性を効果的に行
なえる場所に設置すればよい。
に配置したが、これに限定されるものではなく、ステー
ジ７の起動、走行および停止時の動作特性を効果的に行
なえる場所に設置すればよい。
また、ステージ振動発生時等で効果的な制御を行なうた
めに、ステージ上に振動検出器を設置することも可能で
ある。
めに、ステージ上に振動検出器を設置することも可能で
ある。
さらに２軸ステージとして構成することも可能である。
［発明の効果］
以上説明したようにステージを強制的に振動することに
より、ステージ始動をなめらかにし、また停止時に発生
する振動を抑えるとともに停止時の静止状態の安定性を
向上する。
より、ステージ始動をなめらかにし、また停止時に発生
する振動を抑えるとともに停止時の静止状態の安定性を
向上する。
ほかに、ステージの固有振動数よりも高い周波数で強制
振動を行なうことによ′す、ステージが外乱により振動
することを防ぐことが可能である。
振動を行なうことによ′す、ステージが外乱により振動
することを防ぐことが可能である。
また、ステージ駆動装置のサーボ系などにより生ずる振
動に対してシステムの応答速度などに関しての時間差（
ヒステリシス）をもうけることが可能なため、サーボ系
などによる振動の発生を防ぐことが可能となる。
動に対してシステムの応答速度などに関しての時間差（
ヒステリシス）をもうけることが可能なため、サーボ系
などによる振動の発生を防ぐことが可能となる。
第１図は本発明の一実施例の構成図である。
１：基板、
２：モータ、
３：送りネジ、
４：ナツト、
５：ホルダ、
６：加振素子、
７：ステージ。
特許出願人 キャノン株式会社
代理人 弁理士 伊 東 哲 也
代理人 弁理士 伊 東 辰 雄
Claims (5)
- （１）固定部と、該固定部に対し移動する可動部と、該
可動部を移動させるための駆動手段と、前記固定部およ
び可動部に対し強制的に振動を与えるための振動手段と
を具備したことを特徴とする位置決め装置。 - （２）前記振動手段による振動の振幅および振動数を制
御可能としたことを特徴とする特許請求の範囲第１項記
載の位置決め装置。 - （３）前記振動手段は、前記駆動手段からの駆動力を可
動部に伝達する駆動伝達手段を介して前記固定部および
可動部間に介装されたことを特徴とする特許請求の範囲
第１項または第２項記載の位置決め装置。 - （４）前記振動手段はピエゾ素子からなることを特徴と
する特許請求の範囲第１項、第２項または第３項記載の
位置決め装置。 - （５）前記駆動手段はモータからなり、前記駆動伝達手
段は該モータに連結された送りネジおよびナットからな
り、該ナットに対し前記ピエゾ素子を装着するとともに
可動部を連結したことを特徴とする特許請求の範囲第４
項記載の位置決め装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63131358A JPH01302195A (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | 位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63131358A JPH01302195A (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | 位置決め装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01302195A true JPH01302195A (ja) | 1989-12-06 |
Family
ID=15056060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63131358A Pending JPH01302195A (ja) | 1988-05-31 | 1988-05-31 | 位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01302195A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009088530A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、ステージ装置及びデバイス製造方法 |
| CN107683431A (zh) * | 2015-06-02 | 2018-02-09 | 生命技术公司 | 用于使结构化照明成像系统中的样品台稳定的系统和方法 |
-
1988
- 1988-05-31 JP JP63131358A patent/JPH01302195A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009088530A (ja) * | 2007-09-28 | 2009-04-23 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、ステージ装置及びデバイス製造方法 |
| JP2012151490A (ja) * | 2007-09-28 | 2012-08-09 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置、ステージ装置及びデバイス製造方法 |
| US8384881B2 (en) | 2007-09-28 | 2013-02-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus, stage apparatus and device manufacturing method |
| CN107683431A (zh) * | 2015-06-02 | 2018-02-09 | 生命技术公司 | 用于使结构化照明成像系统中的样品台稳定的系统和方法 |
| US20180157023A1 (en) * | 2015-06-02 | 2018-06-07 | Life Technologies Corporation | Systems and methods for stabilizing a sample stage in a structured illumination imaging system |
| JP2018522268A (ja) * | 2015-06-02 | 2018-08-09 | ライフ テクノロジーズ コーポレーション | 構造化照明イメージングシステムにおいてサンプルステージを固定するためのシステムおよび方法 |
| US10921574B2 (en) | 2015-06-02 | 2021-02-16 | Life Technologies Corporation | Systems and methods for stabilizing a sample stage in a structured illumination imaging system |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI700770B (zh) | 具有減振傳遞的驅動系統 | |
| Sato et al. | Controller design for high-speed, ultra-precision positioning of a linear motion stage on a vibrating machine base stage control on a vibrating base | |
| JPH01302195A (ja) | 位置決め装置 | |
| Syamsul et al. | Positioning error improvement based on ultrasonic oscillation for a linear motion rolling bearing during sinusoidal motion | |
| JPH02107471A (ja) | 直動体の駆動方法並びに駆動装置及びプリンタ | |
| JPH1026203A (ja) | 摩擦駆動機構 | |
| Hashizume et al. | A study on nanometer positioning table system equipped with electrorheological fluid units | |
| JPH03125048A (ja) | 振動緩衝型ステージ装置 | |
| JPH03215195A (ja) | 記録装置 | |
| JP4891562B2 (ja) | 駆動装置と駆動・案内装置 | |
| JPH01122375A (ja) | 圧電モータの制御方法 | |
| JP7658231B2 (ja) | リニアモータステージの制御装置及び制御方法 | |
| JPH10125593A (ja) | ステージ装置 | |
| US5432423A (en) | Electronic damping system | |
| JPS614634A (ja) | リニアモ−タ駆動形浮上式ステ−ジの弾性送り位置決め機構 | |
| JP2002355730A (ja) | テーブル位置決め装置 | |
| JPS62288913A (ja) | 試料台制御装置 | |
| JP2002345270A (ja) | リニアステージ装置 | |
| JPS587384A (ja) | プリンタの走査機構 | |
| JPS63109512A (ja) | 位置決め装置 | |
| JPH0241849A (ja) | 位置決め機構の防振制御装置 | |
| JPS6352215A (ja) | 変位制御装置 | |
| JPS6351820B2 (ja) | ||
| JPH0425334A (ja) | 位置決め装置 | |
| JPH02160441A (ja) | テーブル装置 |