JPH01302531A - 磁気ディスク用基体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 九胛ユ玖五豆１ 本発明は磁気ディスク用基体に関し、さらに詳しくは、
電磁変換特性に優れる記録層が、蒸着法またはメツキ法
で形成される薄膜型磁気ディスク媒体に用いられる基体
に関する。

日の　′自″景ｔ　びに　の口 従来から、磁気ディスク媒体として、Ａｊ基体上に、磁
性粉がポリウレタン等の有機バインダーに分散された磁
性塗料を塗布することにより記録層を形成した磁気ディ
スク媒体（塗布タイプの磁気ディスク媒体）が使用され
ている。しかしながら、このような磁気ディスク媒体は
、磁性粉をＡ１基体上に保持するために有機バインダー
を用いることが必要であるので、このような磁気ディス
ク媒体では、昨今の高密度記録化に対応することが困難
になりつつある。

そこで、基体上に磁性材料を真空蒸発法またはメツキ法
を利用して薄膜状に被着させた記録層を有する磁気ディ
スク媒体（薄膜型磁気ディスク奴体）が注目されている
；このような薄膜型磁気ディスク媒体は、記録層に有機
バインダーが含まれていないので、高密度記録に適して
いる。

このような磁気ディスク用基体は、通常は、ＡＩを用い
ることにより製造されている。しかしながら、Ａｊを用
いてＮＨ型磁気ディスク媒体用の基体を製造しようとす
ると、鋳造、鋳塊の均質化処理、熱間圧延、冷間圧延、
サークル打ち抜き、矯正軟化処理、精密切削、精密研磨
処理等の非常に複雑な製造工程を経ることが必要になり
、さらに、表面の状態を一定に維持しようとすると、上
記のような工程に厳しい防塵対策を施す必要があり、膨
大な設備投資が必要となるという問題点を有している。

そこで、Ａ１基体の代わりに、有機高分子物質の射出成
形体からなる基体を用いることが検討されている。

ところで、有機高分子物質を用いて射出成形により薄膜
型磁気ディスク媒体用の基体を製造すると、得られる基
体の表面平滑性は、金型の平滑性に対応する。このよう
な金形の表面には金形を梢成する金属の粒界の影響によ
って生じた欠陥が存在するので、得られる基体の表面に
も、この欠陥に対応した凹凸が形成される。そして、現
状では、金形の表面から上記のような欠陥を排除するこ
とが困難であるので、有機高分子物質を用いることによ
っては、充分な平滑性を有する基体を製造することがで
きない。

従って、有機高分子物質を用いて射出成形法により製造
された基体を使用して薄膜型磁気ディスクを製造したと
しても、記録層表面に基体の凹凸に対応した凹凸が形成
されるので、電磁変換特性などが充分に向上せず、さら
に、磁気ヘッドが記録層の凸部に衝突することによりヘ
ッドクラッシュが発生するという問題点がある。

ｉ匪立旦瑚 本発明は上記のような従来技術に伴う問題点を解消しよ
うとするものであって、ヘッドクラッシュが発生するこ
となく、しかも電磁変換特性の優れた磁気ディスク奴体
を製造することができる磁気ディスク用基体を提供する
ことを目的としている。

魚涯し１１盟 本発明に係る磁気ディスク用基体は、熱可塑性樹脂から
なる基板と、少なくとも該基板の記録層付設予定部に付
設されたフィルム層とからなり、該基板が、熱可塑性樹
脂の射出成形体であり、かつ該フィルム層の表面粗さ（
Ｒａ）が３００Å以下であることを特徴としている。

本発明に係る磁気ディスク用基体は、高い平面平滑性を
有する。

本発明に係る磁気ディスク用基体を用いることにより、
記録層の表面平滑性の高い薄膜型磁気記録媒体を製造す
ることができる。

そして、本発明に係る磁気ディスク用基体を用いて製造
された磁気ディスクは、優れた電磁変換特性を示すとと
もに、ヘッドクラッシュを生じない。

魚ｊ目り艮詐ｍ朋 次に本発明の磁気ディスク用基体について具体的に説明
する。

本発明者らは、熱可塑性樹脂を用いて射出成形法によっ
て成形した基板の記録層付設予定面に特定の表面平滑性
を有するフィルム層を設けることにより、射出成形時に
用いた金型表面の特性にかかわりなく良好な表面平滑性
を有する磁気ディスク用基体を得ることができ、このよ
うな基体を用いることにより、優れた特性の磁気ディス
クを製造することができることを見出しな。

すなわち、本発明の磁気ディスク用基体は、熱可塑性樹
脂の射出成形体からなる基板と、この基板の少なくとも
記録層付設予定面を覆うように設けられた特定の表面粗
さを有するフィルム層とからなる。

「熱可塑性樹脂」 本発明で用いられる熱可塑性樹脂としては、磁性金属の
蒸着時等に熱変形を起さないように、ガラス転移温度が
１５０℃以上である樹脂を用いることが好ましく、さら
に成形性を考慮すると、ガラス転移温度が１５０〜４５
０℃の範囲内にある樹脂を用いることが特に好ましい。

また、磁気ディスク媒体の耐久性を考慮すると、熱可塑
性樹脂の引張り強度は、７００ｋｇ／ｄ以上であること
が好ましい。

このような特性を有する樹脂として、例えばボリアリレ
ート樹脂、゛ポリスルホン樹脂、ポリエーテルイミド樹
脂、ポリエーテルスルボン樹脂、ポリフェニレンスルフ
ィド樹脂およびポリエーテルエーテルクトン樹脂等が挙
げられる。このうち溶融流動性等の加工特性の良いボリ
アリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルイミ
ド樹脂およびポリエーテルスルホン樹脂を使用すること
が好ましい。

上記のような熱可塑性樹脂を用いて射出成形により基板
を成形する。射出成形の方法には特に副長はなく通常の
方法を採用することができる。

また、上記のような熱可塑性樹脂を用いた基板の形状は
、たとえば、平坦な円盤状にすることもできるが、縁部
を有する円盤状の枠体にすることが好ましい。このよう
に縁部を有する円盤状の枠体は、第１図および第２図に
おいて示される本発明の磁気ディスク用基体の断面図に
おいて、１で示される。

［フィルム層１ 本発明の磁気ディスク用基体は、上記のような基板の少
なくとも記録層付設予定面に特定の表面粗さのフィルム
ｙωが付設されている。

本発明で用いられるフィルムの表面粗さ（Ｒａ）は３０
０Å以下であることが必要であり、さらに１５０Å以下
であることが好ましい、フィルムの表面粗さ（Ｒａ）が
３００人を超えると、この基体を用いて製造された磁気
ディスクを使用する際にディスクとヘッドとの間隔が増
加し、出力が減少し、あるいはヘッドクラッシュが生じ
易くなるので好ましくない。

このようなフィルムとして、たとえばポリエチレン樹脂
、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリパラバン酸樹
脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂等の樹脂からなる
フィルムを挙げることができる。これらの中でも、ポリ
パラバン酸樹脂フィルムを用いることが好ましい。

なお、上記のようなフィルム層の厚さは、通常は、５〜
１００μｍの範囲内にある。

［フィルム層の付設方法］ 本発明において、上記のフィルム層は、少なくとも基板
上の記録層を形成する個所（記録層付設予定部）を覆う
ように付設される。従って、基板が平坦な円盤状である
場合には、基板表面のうち、記録層が付設される部分に
フィルム層が配置されていればよく、さらに、上記の円
盤状基板全面にフィルム層を配置してもよい。

また、基板が枠体である場合には、枠体の全体を覆うよ
うに配置することもできるし、また記録層付設予定部だ
けを覆うように配置することもできる。すなわち、たと
えば、フィルム層は、第１図のように、上記のような特
定の表面粗さを有するフィルム２を接着剤層３を介して
枠体１に接着することにより付設することができる。

また、本発明においては、第２図に示すように、枠体の
縁部に接着剤層３を設け、この接着剤層３を介してフィ
ルム２を枠体１に配置することもできる。このようにす
ることにより、枠体１とフィルム２との間には空気層４
が形成され、この空気層４の緩衝作用によって、磁気ヘ
ッドと記録層との接触の際に磁気ヘッドが受ける街？が
緩和される。

なお、上記のようにして得られた射出成形体は、このま
ま磁気ディスク用基体として使用することもできるが、
この磁気ディスク用基体の表面に、蒸着法もしくはメツ
キ法を利用して非磁性金属薄膜、非磁性無機ＯＩ薄膜ま
たは有機高分子薄膜を形成することもできる。

この場合に使用することができる非磁性金属としては、
チタン、クロム、タングステン、モリブデンなどを挙げ
ることができ、また非磁性無機物としては、窒化チタン
、炭化チタン、ダイヤモンド状カーボンなどを挙げるこ
とができる。さらに有機高分子としては、アセタール樹
脂、アクリレート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合
樹脂、エポキシ樹脂などを挙げることができる。

このような非磁性金属薄膜、非磁性無機物薄膜または有
機高分子薄膜の厚さは、通常２００人〜２０μｍの範囲
内にある。

このようにして得られた磁気ディスク用基体に、蒸着法
あるいはメツキ法により磁性金属を被着することにより
薄膜型磁気ディスクを得ることができる。

なお、上記のようにして磁性金属を被着し形成した記録
層表面にステアリン酸等の潤滑剤を塗布して潤滑剤層を
形成することが好ましい。

ｉ匪ム憇】 本発明に係る磁気ディスク用基体において用いられる枠
体あるいは平坦な円盤状基板は、通常の金型を用いた射
出成形法により容易に成形できる。

そして、このような通常の射出成形法により形成した枠
体あるいは基板を用いて、良好な表面平滑性を有する磁
気ディスク用基体を得ることができる。

本発明に係る磁気ディスク用基体を用いることにより、
記録層の表面平滑度の高い薄膜型磁気記録媒体を製造す
ることができる。また製造された磁気記録媒体は優れた
電磁変換特性を示すとともにヘッドクラッシュを生じな
い。

さらに、基体枠とフィルム層との界面に空気層を設ける
ことにより、磁気ヘッドの接触による衝撃が緩和される
ので、磁気ディスクの耐久性がより向上する。

以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明するが、
本発明は、これらの実施例によって限定されるものでは
ない。

火胤■ユ 熱可塑性樹脂としてポリエーテルイミド樹脂を用いて射
出成形を行い、第１図に示すような直径１３０ｎｎ、厚
さ１．９１１の熱可塑性樹脂からなる円盤状の枠体を成
形した。

この枠体に厚さ５０μｌのポリパラバン酸樹脂フィルム
をエポキシ系樹脂を用いて接着した（第１図参照）、こ
のようにして得た基体の表面粗さ（Ｒａ）は９０人であ
った。

この基体上にスパッタリング法によりＴｉ＃Ｌｇ膜を５
０００人の厚さで形成し、さらにその上にスパッタリン
グ法にてＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒからなる記録層を８００人の
厚さで形成した。

上記のようにして形成した記録層上にステアリン酸を塗
布して潤滑剤層を形成して磁気ディスクを得た。

このようにして製造された磁気ディスクは、優れた電磁
変換特性を示すとともに、ヘッドクラッシュを生じなか
った。

Ｋ土璽ノ フィルムを基体枠の周辺部に接着した以外は実施例１と
同様にして基体を得た（第２図参照）。

このようにして得な基体の表面粗さ（Ｒａ）は５５人で
あった。

この基体を用いて実施例１と同様にして磁気ディスクを
製造した。

得られた磁気ディスクは優れた電磁変換特性を示すとと
もにヘッドクラッシュを生じなかった。

ル双亘ユ フィルムの接着を行なわなかった以外は実施例１と同様
にして、直径１３０１ｍ厚さ　１．９ｎｎの円板状樹脂
基体を射出成形した。得られた基体の表面粗さ（Ｒａ）
は０．２０．ｕｉであり、その他に０．８μｍ程度の突
起状物が認められた。

この基体を用いて実施例１と同様にして磁気ディスクを
製造した。

得られた磁気ディスクはヘッドクラッシュを生じ、媒体
として使用不能であった。

【図面の簡単な説明】

第１図は、実施例１において製造される本発明の磁気デ
ィスクの断面図である。 第２図は、実施例２において製造される本発明の磁気デ
ィスクの断面図である。 １・・・ディスク状枠体　　２・・・フィルム層３・・
・接着剤層　　　　　４・・・空気層代理人　　弁理士
　　銘木　俊一部

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）熱可塑性樹脂からなる基板と、少なくとも該基板
   の記録層付設予定部に付設されたフィルム層とからなり
   、該基板が、熱可塑性樹脂の射出成形体であり、かつ該
   フィルム層の表面粗さ（Ｒａ）が３００Å以下であるこ
   とを特徴とする磁気ディスク用基体。
2. （２）基板が熱可塑性樹脂からなる枠体よりなり、かつ
   該枠体の周縁部にフィルムを接着することにより、フィ
   ルム層が枠体上に空気層を介して付設されていることを
   特徴とする請求項第１項記載の磁気ディスク用基体。