JPH01302555A

JPH01302555A - ディスク状記録媒体の成膜方法

Info

Publication number: JPH01302555A
Application number: JP27500688A
Authority: JP
Inventors: Nobuko Gomi; 五味　信子
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 1988-02-22
Filing date: 1988-10-31
Publication date: 1989-12-06

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明はディスク状記録媒体の成膜方法に関する。

記録媒体の成膜方法において、基板のセンターホールに
回転軸を置いて、基板ホルダーを公転させると基板が自
公転することにより、外周形・材質・サイズが異なる基
板でも同一の治具を用いることができる。そのうえ、そ
れらの膜厚分布が、より均等になるよう成膜することが
でき、また基板の直接的接触による摩擦がなく成膜でき
るようにしたものである。

また、透明基板の記録面以外の部分に磁性体を用いるこ
とにより、紫外線硬化樹脂などを用いて２枚の基板接着
貼合わせするための接着領域を確保できるようにした。

そして、磁性体を用いることにより、ワンタッチ操作で
マスクができるようにしたものである。

［従来の技術］９４５０５より第２図に示すように、まず基板ホルダー
１８上にプラスチック基板（ポリカーボネート）２０を
のせ、その上を押さえるようにして基板オサエ１９を取
り付け、プラスチック基板２０と基板ホルダー１８との
間に空隙２１を設けることにより、基板ホルダー１８が
公転するとプラスチック基板２０が自公転して成膜する
方法であった。

ところが、基板を外周で保持し、自公転させているため
、基板の成膜領域を狭くしないように、基板外周と基板
オサエの直径差である空隙２１を基板保持可能なギリギ
リの幅を設定して成膜をしていた。

［発明が解決しようとする課題］しかし、前述の成膜方法はプラスチック基板の外周を基
板ホルダーに支持させて自公転しているため、基板の外
周径が異なると同一治具では成膜できなくなる。また、
プラスチック基板の成膜領域と基板保持可能な、空隙の
幅を設定しなければならないために、基板ホルダー−公
転に対するプラスチック基板の自公転角度が小さくなっ
てなってしまう。そのため、基板ホルダー回転数に対す
るプラスチック基板の自公転回数が少なくなり、成膜後
の膜厚分布に多少の不均一が生ずる。更には、基板と基
板ホルダー・基板オサエとの摩擦、及び接触キズからデ
ィスクのエラーレートを落としてしまうという重大な問
題点を有していた。

また、完全に膜が付着していない部分が非常に狭いため
、紫外線硬化樹脂などを用いて接着した場合、接着領域
が狭くなってしまい、強度な落下衝撃に耐えられないと
いう問題点を有していた。

そこで本発明はこのような課題を解決するもので、その
目的とするところは、基板の外周径に図法を提供すると
ころにある。

［課題を解決するための手段］本発明のディスク状記録媒体の成膜方法は、透明基板の
センターホールに回転軸を置いてその透明基板を自公転
させ、また、そのディスク状透明基板の記録面以外の部
分に、磁性体をマスクして成膜することを特徴とする。

［実施例］第１図（ａ）は、本発明である基板ホルダー１と基板保
持具を用いてプラスチック基板５をセットした断面図で
ある。プラスチック基板５は、基板支持具２と基板オサ
エ３とで挟み込みオサエネジ４を用いて固定されている
。（ここでは基板支持具２と基板オサエ３とオサエネジ
４を一つにしたものを基板保持具と呼ぶ）そして、基板
保持具はプラスチック基板５を保持すると同時に、基板
ホルダー１の支持穴６に支持され、また基板ホルダー１
は回転軸７を中心に公転する。基板保持具の基板ホルダ
ーに支持される部分は基板ホルダー１の支持穴６の直径
より小さくなっており、基板ホルダーが回転すると、そ
の直径の差のためプラスチック基板５が自公転するよう
になっている。

第１図（ｂ）は、本発明であるステンレス製の基板ホル
ダー８と基板保持具を用いてプラスチック基板１１をセ
ットした断面図である。プラスチック基板１１は、磁性
ステンレス製の基板支持具９と磁石製の基板オサ、工１
０で固定する。　（ここでは基板支持具９と基板オサエ
１０を一つにしたものを基板保持具と呼ぶ）そして、基
板保持具はプラスチック基板１１を保持すると同時に、
基板ホルダー８の支持穴１２に支持され、また基板ホル
ダーは回転軸１３を中心に公転する。基板保持具の基板
ホルダーに支持される部分は、基板ホルダーの支持穴１
２より小さくなっており基板ホルダーが回転すると、そ
の直径の差のためプラスチック基板１１が自公転するよ
うになっている。また、接着樹脂に紫外線硬化樹脂など
を用いるときのために、接着領域を磁性ステンレス製の
基板外周ホルダー１４と磁石製の基板外周オサエ１５で
マスクすることにより確保しである。

第１図（Ｃ）は、本発明の実施例であり、基板を成膜治
具にセットした断面図である。ステンレス製の基板支持
具１７と基板オサエ１８とでプラスチック基板２０を押
さえ、その上からオサエネジ１９で固定しであるまた、
基板ホルダー１６は磁性ステンレスであり、磁石型の基
板外周マスク２３を用いてプラスチック基板２０の外周
をマスクすることにより、基板外周マスク２３は基板ホ
ルダー１６に吸引され外れないようになっている。

これは、マスクセット操作がワンタッチでできるという
利点がある。

また、支持穴２１を設けることにより、ホルダー回転軸
２２を中心に基板ホルダー１６が回転すると同時にプラ
スチック基板２０が自公転するようになっている。

第３図は、第１図（ｂ）の破線Ａでカットした断面図で
ある。３０は、基板支持具９が回転するときに支持穴１
２に保持される部分である支持穴最外周円。３１はその
時のオサエ溝の周円である。

３２の基板支持具は重力によって常にこの位置にある。

第４図は成膜後の一枚のディスクについて膜厚を測定し
、その結果を表したものである。３３は本発明の膜厚分
布であり、３４は従来の膜厚分布である。

第５図は、基板１００枚のＢＥＨに対する基板枚数であ
り、不良数の出方だけをとってみても、本発明は大幅に
少なく、量産時の良品製造枚数を考えると有効であるこ
とがわかる。

第６図は、第１図（ｂ）と第１図（Ｃ）のような磁性体
マスクを用いた方法で成膜したプラスチック基板３７を
、接着剤を用いて両面貼り合わせする時の断面図である
。３８は接着剤であり、接着剤としては紫外線硬化樹脂
、ホットメルト、エポキシ接着剤などを用いる。

第７図は、７０°Ｃ９０％ＲＨの恒温恒湿槽に入れてエ
ージング試験をしたプラスチック基板のピットエラーレ
ート（ＢＥＲ）を、マスク使用した時とマスクしなかっ
た時とで比較した図である。

この図から、プラスチック基板全領域を成膜してしまう
方法に比べ、プラスチック基板外周にマスクをして成膜
する本発明は、欠陥が発生しにくいことが分かる。

第８図は、ディスクをロンリュームの床に対して垂直に
立てた状態で自由落下させた試験の結果である。横軸に
落下距離を取り、縦軸にはがれが生じたディスク枚数を
とったグラフである。このグラフから磁性体マスクを用
いた本発明方法は、従来に比べ落下衝撃に大変強いこと
がわかる。これは、両面貼り合わせの接着領域が非常に
狭い従来の方法に比べ、マスク使用して成膜した本発明
は、接着領域が幅広いため強固に貼合わせることが出来
たことによるものである。

本発明である、基板ホルダーが公転しても基板保持具が
支持穴に支持されるように、支持穴の幅を設定し基板を
自公転させる方法は、プラスチック基板の成膜領域を考
慮する必要がなくなるため、直径の差が比較的自由に選
択でき、かつ基板保持具の支持穴に支持されている部分
の直径が小さいため、−公転に対するプラスチック基板
の自転角度が大きくなった。つまり、基板ホルダー回転
数能力に対するプラスチック基板の自公転回数が増太し
、成膜したプラスチック基板の膜厚が第４図のように均
等に分布できるようになった。

また、基板の外径に囚われずに成膜できることから、治
具の型は全て統一でき、それに伴う装置消却コストのダ
ウンができる。更には、基板が治具に直接接触すること
はなくなり、基板への摩擦がなくなるため、品質の信頼
性を向上させ、不良数を最小限におさえることができ、
光記録媒体としての良好な特性を維持することができる
ため、量産時における歩留まりの向上により大幅なコス
トダウンができる。

また、第１図（ｂ）、　　（Ｃ）のように磁性体外周マ
スクをすることにより、紫外線硬化樹脂などの接着材料
が使用可能になった。磁性体外周マスクは固定が簡単な
ため、製造スピードを落とさずに製造することができ、
そのうえ光ディスクとしての信頼性を高めることができ
た。

［発明の効果］以上述べたように本発明によれば、基板が治具に直接接
触することがないｋめ、成膜時における自公転基板の安
全性が高まること、及び膜厚の均等化による基板の不良
数の減少と品質向上ができる。また、基板の外周径に因
れずに同一の治具が使用できる。よって量産時における
良品製造枚数能力の向上と装置消却に伴うコストの大幅
なダウンという効果を有する。

また、従来に比べ接着剤の接着領域が広がったことによ
り、媒体の劣化を極力抑えることができ、更に落下に対
する衝撃にも耐えることのできる光記録媒体を有ること
ができた。よって、安定性と信頼性に優れた良品質な光
記録媒体としての特性を維持することができ、そのうえ
磁性体製であることを利用したワンタッチマスクは、製
造工程時間をアップすることなく製造ができるという効
果を有する。

本実施例では、透明基板のセンターホールに回転保持具
を用いた成膜方法を取り上げて、本発明の磁性体マスク
を使用しているが、貼り合わせ樹脂に紫外線硬化樹脂な
どの透過性硬化樹脂を用いる透明基板の製造方法には常
に本発明の磁性体地具が有効であることはいうまでもな
い。

また、本実施例ではプラスチック基板（ポリカーボネー
ト）を用いたがこれら以外にＰＭＭＡ・エポキシ樹脂・
塩化ビニル樹脂・ポリエチルペンテン・ガラス基板にお
いても本発明は有効である。

また、本発明は一部磁性体を用いているが、光磁気ディ
スクの製造において、光磁気記録媒体は一般的に保磁力
が大きいため、もれ磁界の影響は一切ない。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）は、本発明である、プラスチック基板に基
板保持具を取り付けた物を基板ホルダーの支持穴にセッ
トした状態の断面図。第１図（ｂ）は、本発明である、プラスチック基板に磁
性体基板保持具を取り付けた物を基板ホルダーの支持穴
にセットした状態の断面図。第１図（Ｃ）は、本発明である、プラスチック基板に基
板保持具を取り付け、基板ホルダーと基板外周マスクに
磁性体を用いてセットした状態の断面図。第２図は従来の方法で、基板を基板ホルダーにセットし
た断面図。第３図は、第１図（ｂ）にある破線Ａでカットしたとき
の断面図。第４図はディスク内径位置に対する膜厚分布の比較図。第５図はプラスチック基板１００枚の各ＢＥＲランクに
対応する基板枚数の分布図。第６図は、第１図（ｂ）、　　（Ｃ）の方法で成膜した
基板２枚を、接着剤を用いて貼合わせるときの断面図。第７図は、エージング試験におけるＢＥＨの変化を示す
図。第８図は、落下試験における従来と磁性体マスクを用い
た本発明との比較図。１・・・基板ホルダー２・・・基板支持具３・・・基板オサエ４・・・オサエネジ５・・・プラスチック基板（ポリカーボネート）６・・
・支持穴７・・・ホルダー回転軸８・・・基板ホルダー９・・・基板支持具（磁性ステンレス）１０・・基板オ
サエ（磁石）１１・・プラスチック基板（ポリカーボネート）１２・
・支持穴１３・・ホルダー回転軸１４・・基板外周ホルダー（磁性ステンレス）１５・・
基板外周オサエ（磁石）１６・・基板ホルダー（磁性ステンレス）１７・・基板
支持具１８・・基板ホルダー１９・・オサエネジ２０・・プラスチック基板２１・・支持穴２２・・ホルダー回転軸２３・・基板外周マスク（磁石）２４・・基板ホルダー２５・・基板オサエ２６・・プラスチック基板２７・・空隙２８・・ホルダー回転軸２９・・基板ホルダー３０・・支持穴最外周円３１・・支持穴カギ溝円３２・・基板支持具３３・・本発明の膜厚分布３４・・従来の膜厚分布３５・・本発明の成膜方法３６・・従来の成膜方法３７・・プラスチック基板３８・・紫外線硬化樹脂３９・・磁性体マスク使用の時のグラフ４０・・外周マ
スクなしの時のグラフ４１・・磁性体マスク使用の本発明グラフ４２・・従来
グラフ以上出願人　セイコーエプソン株式会社代理人　弁理士　上櫛　雅誉　他１名第　１図（０−）ム　１斗場１図（ｂ）Ａう　１　−に）第う図第４図３５　Δｂ４ら日目万χ゛月ｌれ五？２２２３ｂ−，即
防逓あ払Ｊ大躬５面７．３７ｊｉｆｆ第　６　区口？３コ４１　　ジトタ乙ｅ月フ多ノコ４２・・弔５水クツフ姉８図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）ディスク状の透明基板を用い光を照射し、記録・
再生あるいは消去をおこなう光記録媒体の成膜方法にお
いて、前記透明基板のセンターホールに回転軸を置いて
前記透明基板を自公転させることを特徴とするディスク
状記録媒体の成膜方法。
（２）前記ディスク状透明基板の記録面以外の部分に磁
性体をマスクして成膜することを特徴とする第１項記載
のディスク状記録媒体の成膜方法。
（３）透明基板のセンターホールに基板保持具を挿入し
、前記基板保持具を基板ホルダーに設置された支持穴に
よって前記基板保持具及び透明基板を保持し、前記支持
穴が基板保持具の直径より大きく、基板ホルダーを公転
させると透明基板が自公転することを特徴とする第１項
または第２項記載のディスク状記録媒体の成膜方法。