JPH01306088A - 可変ビームレーザ加工装置 - Google Patents
可変ビームレーザ加工装置Info
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- JPH01306088A JPH01306088A JP63135080A JP13508088A JPH01306088A JP H01306088 A JPH01306088 A JP H01306088A JP 63135080 A JP63135080 A JP 63135080A JP 13508088 A JP13508088 A JP 13508088A JP H01306088 A JPH01306088 A JP H01306088A
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- optical system
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- laser processing
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- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/073—Shaping the laser spot
- B23K26/0736—Shaping the laser spot into an oval shape, e.g. elliptic shape
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/08—Devices involving relative movement between laser beam and workpiece
- B23K26/082—Scanning systems, i.e. devices involving movement of the laser beam relative to the laser head
- B23K26/0821—Scanning systems, i.e. devices involving movement of the laser beam relative to the laser head using multifaceted mirrors, e.g. polygonal mirror
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D8/00—Modifying the physical properties of ferrous metals or ferrous alloys by deformation combined with, or followed by, heat treatment
- C21D8/12—Modifying the physical properties of ferrous metals or ferrous alloys by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
- C21D8/1294—Modifying the physical properties of ferrous metals or ferrous alloys by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties involving a localised treatment
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
（産業上の利用分野）
この発明は、被加工物、例えば、フィルムコンデンサー
やホトマスクに用いられる薄膜付材料の薄膜のみを加工
する際に利用するのに好適な可変ビームレーザ光をもつ
可変ビームレーザ加工装置に関するものである。 （従来の技術） 従来、この種のレーザ加工装置としては、第３図に示す
ようなレーザ光を用いたパターン形成装置（特開昭５７
−９４４８２号公報に記載された装Ｍ）が知られている
。 第３図に示すレーザ光を用いたパターン形成装置２１は
１図示しないレーザ発振器で発振された円形ビームのレ
ーザ光２２ａのビーム径を拡大する凸レンズ２３と、こ
のビーム径が拡大されたレーザ光２２ｂを平行ビームの
レーザ光２２ｃに変換する凸レンズ２４と、この平行ビ
ームのレーザ光２２ｃを長円形ビームのレーザ光２２ｄ
に変換する円柱レンズ２５と、この長円形ビームのレー
ザ光２２ｄを平行でかつ長円形をなすビームのレーザ光
２２ｅに変換する円柱レンズ２６とをそなえたものであ
って、円形ビームのレーザ光２２ａを平行でかつ長円形
をなすビームのレーザ光２２ｅにパターン変換するもの
である。 （発明が解決しようとする課題） このような従来のレーザ光によるパターン形成装置にお
いて、レーザ発振器で発振された円形ビームのレーザ光
２２ａのビーム形状を変換してレーザ加工径を変える（
加工幅を変える場合などを含む、）に際しては、光学系
を構成する各レンズ２３，２４，２５．２６のうち必要
なレンズを交換して当該光学系を再構成する必要がある
という課題があり、また反射光学系としてポリゴンミラ
ーを用いてレーザ光を走査する場合において、レーザ光
の幅を変化させて線状のレーザ加工幅を所望のものに調
節して行うことができないという課題があった。 （発明の目的） この発明は、このような従来の課題に着目してなされた
もの受、光学系を構成するレンズを交換することなくさ
まざまなビーム径をもつ長円形ビームのレーザ光を得る
ことによって、さまざまな加工径のレーザ加工、ないし
は反射光学系によってレーザ光を走査する場合にさまざ
まな加工幅をもつ線状レーザ加工を行うことができるよ
うにした可変ビームレーザ加工装置を提供することによ
り、上記した従来の課題を解決することを目的としてい
る。
やホトマスクに用いられる薄膜付材料の薄膜のみを加工
する際に利用するのに好適な可変ビームレーザ光をもつ
可変ビームレーザ加工装置に関するものである。 （従来の技術） 従来、この種のレーザ加工装置としては、第３図に示す
ようなレーザ光を用いたパターン形成装置（特開昭５７
−９４４８２号公報に記載された装Ｍ）が知られている
。 第３図に示すレーザ光を用いたパターン形成装置２１は
１図示しないレーザ発振器で発振された円形ビームのレ
ーザ光２２ａのビーム径を拡大する凸レンズ２３と、こ
のビーム径が拡大されたレーザ光２２ｂを平行ビームの
レーザ光２２ｃに変換する凸レンズ２４と、この平行ビ
ームのレーザ光２２ｃを長円形ビームのレーザ光２２ｄ
に変換する円柱レンズ２５と、この長円形ビームのレー
ザ光２２ｄを平行でかつ長円形をなすビームのレーザ光
２２ｅに変換する円柱レンズ２６とをそなえたものであ
って、円形ビームのレーザ光２２ａを平行でかつ長円形
をなすビームのレーザ光２２ｅにパターン変換するもの
である。 （発明が解決しようとする課題） このような従来のレーザ光によるパターン形成装置にお
いて、レーザ発振器で発振された円形ビームのレーザ光
２２ａのビーム形状を変換してレーザ加工径を変える（
加工幅を変える場合などを含む、）に際しては、光学系
を構成する各レンズ２３，２４，２５．２６のうち必要
なレンズを交換して当該光学系を再構成する必要がある
という課題があり、また反射光学系としてポリゴンミラ
ーを用いてレーザ光を走査する場合において、レーザ光
の幅を変化させて線状のレーザ加工幅を所望のものに調
節して行うことができないという課題があった。 （発明の目的） この発明は、このような従来の課題に着目してなされた
もの受、光学系を構成するレンズを交換することなくさ
まざまなビーム径をもつ長円形ビームのレーザ光を得る
ことによって、さまざまな加工径のレーザ加工、ないし
は反射光学系によってレーザ光を走査する場合にさまざ
まな加工幅をもつ線状レーザ加工を行うことができるよ
うにした可変ビームレーザ加工装置を提供することによ
り、上記した従来の課題を解決することを目的としてい
る。
（課題を解決するための手段）
この発明に係る可変ビームレーザ加工装置は、レーザ発
振器をそなえ、前記レーザ発振器で発振されたレーザ光
を、入射光学系２反射光学系および出射光学系を経て被
加工物に照射して、当該被加工物に対するレーザ加工を
行うレーザ加工装置であって、前記入射光学系および／
または反射光学系に、前記レーザ光のビーム径をＸ方向
に縮小または拡大するビーム形状Ｘ方向変換機構と、レ
ーザ光のビーム径を前記Ｘ方向に対して直角なＸ方向に
縮小または拡大するビーム形状Ｘ方向変換機構をそなえ
た構成としたことを特徴としており、このような可変ビ
ームレーザ加工装置の構成を従来の課題を解決するため
の手段としたことを特徴としている。 この発明に係る可変ビームレーザ加工装置においては、
入射光学系に、または出射光学系に、または入射光学系
および出射光学系の両方に、レーザ光のビーム径をＸ方
向に縮小または拡大するビーム形状Ｘ方向変換機構と、
レーザ光のビーム径を前記Ｘ方向に対して直角なＸ方向
に縮小または拡大するビーム形状Ｘ方向変換機構とをそ
なえているが、このビーム形状Ｘ方向変換機構とビーム
形状Ｘ方向変換機構のレーザ光進行方向に対する前後関
係はとくに限定されないものであり、適宜設定しうるち
のである。 （作用） この発明に係る可変ビームレーザ加工装置は、入射光学
系および／または出射光学系に、レーザ光の進行方向の
発振側にビーム形状Ｘ方向変換機構を設けかつ照射側に
ビーム形状Ｘ方向変換機構を設けた場合において、レー
ザ発振器で発振された円形ビームのレーザ光がビーム形
状Ｘ方向変換機構を通過することによって、そのビーム
径がＸ方向に縮小または拡大されて調節され、次いでビ
ーム形状Ｘ方向変換機構を通過することによって前記Ｘ
方向に縮小または拡大されたレーザ光のビーム径がＸ方
向に対して直角なＸ方向に縮小または拡大されることに
よって長円形ビームのレーザ光に変換され、この長円形
ビームのレーザ光のビーム径は前者のビーム形状Ｘ方向
変換機構によって所望の大きさのものに調節され、レー
ザ加工径は所望の大きさのものとなる。 また、レーザ光の進行方向の発振側にビーム形状Ｘ方向
変換機構を設けかつ照射側にビーム形状Ｘ方向変換機構
を設けた場合において、レーザ発振器で発振された円形
ビームのレーザ光がビーム形状Ｘ方向変換機構を通過す
ることによって、レーザ光のビーム径がＸ方向に縮小ま
たは拡大されることにより長円形ビームのレーザ光に変
換され、この長円形ビームのレーザ光がビーム形状Ｘ方
向変換機構を通過することによってそのビーム径がＸ方
向に縮小または拡大され、長円形ビームのレーザ光のビ
ーム径は後者のビーム形状ｙ方向変換機構によって所望
の大きさのものに調節され、レーザ加工径は所望の大き
さのものとなる。 そして、反射光学系として例えば回転するポリゴンミラ
ーを用い、前記ビーム形状ｙ方向変換構およびビーム形
状Ｘ方向変換機構を入射光学系に設けた場合において、
ビーム径が調節された長円形ビームのレーザ光は前記ポ
リゴンミラーがもつ複数の反射面のうちの一つの反射面
で反射されつつ走査され、ここで走査された長円形ビー
ムのレーザ光は被加工物を照射してレーザ加工を行い、
次いで前記ビーム径が調節された長円形ビームのレーザ
光はポリゴンミラーがもつ次の反射面で反射されつつ走
査され、ここで走査された長円形ビームのレーザ光は被
加工物を照射してレーザ加工するという動作をくりかえ
し、この際のレーザ加工幅はビーム形状Ｘ方向変換機構
によって所望の大きさのものとなる。 （実施例） この発明に係る可変ビームレーザ加工装置の実施例を第
１図および第２図により説明する。 第１図に示す可変ビームレーザ加工装置１は、レーザ発
振器２をそなえているとともに、このレーザ発振器２で
発振されたレーザ光３（３ａ）の方向を定める反射鏡４
をそなえている。また、この発明に係る可変ビームレー
ザ加工装置１は、前記反射鏡４によって反射されたレー
ザ光３（３ａ）を通過させる入射光学系５と、前記入射
光学系５を通過したのちのレーザ光３（３ｃ）を反射さ
せる反射光学系６と、前記反射光学系６で反射されたレ
ーザ光３（３ｄ）を通過させる出射光学系７とをそなえ
ている。 これらのうち、入射光学系５は、前記反射鏡４によって
反射されたレーザ光３（３ａ）のビーム径をＸ方向に縮
小または拡大して当該ビーム径を調節するビーム形状Ｘ
方向変換機構５１をそなえているとともに、前記ビーム
形状Ｘ方向変換機構によってビーム径がＸ方向に調節さ
れたレーザ光３（３ｂ）のビーム径をＸ方向に対して直
角なＸ方向に縮小または拡大するビーム形状Ｘ方向変換
機構５２とを備えている。 また、反射光学系６は、この実施例においては複数の反
射面をもつポリゴンミラーからなるものであり、前記入
射光学系５から入射されたレーザ光３（３０）を前記ポ
リゴンミラーからなる反射光学系６のうちの一つの反射
面によってまず反射することにより１回目の走査を行い
、続いて次の反射面によって反射することにより２回目
の走査を行うという動作がくりかえし行われ、ここで走
査されたレーザ光３（３ｄ）は出射光学系７を通過する
。 この出射光学系７は、前記走査されたレーザ光３（３ｄ
）を被加工物１０の加工面に対して等速度で走査させる
ようにするｆΦθレンズ７１と、被加工物近傍レンズ７
２と、結像位置における許容誤差を緩和するとともにレ
ーザ光３（３ｅ）の長径／短径比をさらに大きくした長
円形ビームのレーザ光３（３ｆ）に変換するシリンドリ
カルレンズ７３と、レーザ光３（３ｆ）の走査幅を定め
る開口位置調整可能なスリット７４とをそなえている。 このような構成をもつ可変ビームレーザ加工装置１によ
って、被加工物１０に対してレーザ加工を行う手順につ
いて第２図とともに説明する。 まず、レーザ発振器２で発振されたレーザ光３（３ａ）
は、第２図（ａ）に示すような円形ビームの形状をなす
ものであり、この円形ビームのレーザ光３（３ａ）は反
射鏡４によって反射されたのち入射光学系５に入る。こ
の入射光学系５において、円形ビームのレーザ光３（３
ａ）は、ビーム形状Ｘ方向変換機構５１によってＸ方向
に縮小されて、第２図（ｂ）に示すようにＸ方向に縮小
された長円形ビームのレーザ光３（３ｂ）となり、次い
でビーム形状Ｘ方向変換機構５２によってビーム径がＸ
方向に対して直角なＸ方向に拡大されて、第２図（ｃ）
に示すような長円形ビームのレーザ光３ （３ｃ）とな
る。 この長円形ビームのレーザ光３（３ｃ）は、複数の反射
面をそなえかつ矢印方向に回転するポリゴンミラーから
なる反射光学系６によって反射されることによりくりか
えし走査するものとなり、このくりかえし走査する長円
形ビームのレーザ光３（３ｄ）は出射光学系７に入る。 この出射光学系７において、長円形ビームのレーザ光３
（３ｄ）は、ｆ・θレンズ７１によって被加工物１０の
表面で等連化されるものとなり、次いで被加工物近傍レ
ンズ７２を通過したのちシリンドリカルレンズ７３を通
過することによって長径／短径比のさらに大きい第２図
（ｄ）に示すような長円形ビームのレーザ光３（３ｆ）
に変換され、スリット７４によって走査幅が調節された
のち、被加工物１０の表面を照射しそして走査すること
によって、線状のレーザ加工が行われる。 そしてこの場合、ビーム形状Ｘ方向変換機構５１によっ
てビーム径をＸ方向に拡大させたときには、線状のレー
ザ加工において加工幅（線方向と直交する方向の幅）が
増大したものとなり、逆にビーム形状Ｘ方向変換機構５
１によってビーム径をＸ方向に縮小させたときには、線
状のレーザ加工において加工幅が減少したものとなり、
このような加工幅の増減はレーザ加工中においても行う
ことが可能となる。 なお、上記実施例では、反射光学系６がポリゴンミラー
からなるものであり、レーザ光を走査することによって
、線状のレーザ加工を行うようにした場合を例にとって
説明したが、反射光学系６が単純な反射鏡をなすもので
あってもよく、このような場合にはレーザ加工に際して
ビーム形状Ｘ方向変換機構を調整することによってレー
ザ加工径を増減させることができる。 また、上記実施例では、ビーム形状Ｘ方向変換機構５１
およびビーム形状Ｘ方向変換機構５２が入射光学系５に
のみ設けである場合を説明したが、これにのみ限定され
ない。
振器をそなえ、前記レーザ発振器で発振されたレーザ光
を、入射光学系２反射光学系および出射光学系を経て被
加工物に照射して、当該被加工物に対するレーザ加工を
行うレーザ加工装置であって、前記入射光学系および／
または反射光学系に、前記レーザ光のビーム径をＸ方向
に縮小または拡大するビーム形状Ｘ方向変換機構と、レ
ーザ光のビーム径を前記Ｘ方向に対して直角なＸ方向に
縮小または拡大するビーム形状Ｘ方向変換機構をそなえ
た構成としたことを特徴としており、このような可変ビ
ームレーザ加工装置の構成を従来の課題を解決するため
の手段としたことを特徴としている。 この発明に係る可変ビームレーザ加工装置においては、
入射光学系に、または出射光学系に、または入射光学系
および出射光学系の両方に、レーザ光のビーム径をＸ方
向に縮小または拡大するビーム形状Ｘ方向変換機構と、
レーザ光のビーム径を前記Ｘ方向に対して直角なＸ方向
に縮小または拡大するビーム形状Ｘ方向変換機構とをそ
なえているが、このビーム形状Ｘ方向変換機構とビーム
形状Ｘ方向変換機構のレーザ光進行方向に対する前後関
係はとくに限定されないものであり、適宜設定しうるち
のである。 （作用） この発明に係る可変ビームレーザ加工装置は、入射光学
系および／または出射光学系に、レーザ光の進行方向の
発振側にビーム形状Ｘ方向変換機構を設けかつ照射側に
ビーム形状Ｘ方向変換機構を設けた場合において、レー
ザ発振器で発振された円形ビームのレーザ光がビーム形
状Ｘ方向変換機構を通過することによって、そのビーム
径がＸ方向に縮小または拡大されて調節され、次いでビ
ーム形状Ｘ方向変換機構を通過することによって前記Ｘ
方向に縮小または拡大されたレーザ光のビーム径がＸ方
向に対して直角なＸ方向に縮小または拡大されることに
よって長円形ビームのレーザ光に変換され、この長円形
ビームのレーザ光のビーム径は前者のビーム形状Ｘ方向
変換機構によって所望の大きさのものに調節され、レー
ザ加工径は所望の大きさのものとなる。 また、レーザ光の進行方向の発振側にビーム形状Ｘ方向
変換機構を設けかつ照射側にビーム形状Ｘ方向変換機構
を設けた場合において、レーザ発振器で発振された円形
ビームのレーザ光がビーム形状Ｘ方向変換機構を通過す
ることによって、レーザ光のビーム径がＸ方向に縮小ま
たは拡大されることにより長円形ビームのレーザ光に変
換され、この長円形ビームのレーザ光がビーム形状Ｘ方
向変換機構を通過することによってそのビーム径がＸ方
向に縮小または拡大され、長円形ビームのレーザ光のビ
ーム径は後者のビーム形状ｙ方向変換機構によって所望
の大きさのものに調節され、レーザ加工径は所望の大き
さのものとなる。 そして、反射光学系として例えば回転するポリゴンミラ
ーを用い、前記ビーム形状ｙ方向変換構およびビーム形
状Ｘ方向変換機構を入射光学系に設けた場合において、
ビーム径が調節された長円形ビームのレーザ光は前記ポ
リゴンミラーがもつ複数の反射面のうちの一つの反射面
で反射されつつ走査され、ここで走査された長円形ビー
ムのレーザ光は被加工物を照射してレーザ加工を行い、
次いで前記ビーム径が調節された長円形ビームのレーザ
光はポリゴンミラーがもつ次の反射面で反射されつつ走
査され、ここで走査された長円形ビームのレーザ光は被
加工物を照射してレーザ加工するという動作をくりかえ
し、この際のレーザ加工幅はビーム形状Ｘ方向変換機構
によって所望の大きさのものとなる。 （実施例） この発明に係る可変ビームレーザ加工装置の実施例を第
１図および第２図により説明する。 第１図に示す可変ビームレーザ加工装置１は、レーザ発
振器２をそなえているとともに、このレーザ発振器２で
発振されたレーザ光３（３ａ）の方向を定める反射鏡４
をそなえている。また、この発明に係る可変ビームレー
ザ加工装置１は、前記反射鏡４によって反射されたレー
ザ光３（３ａ）を通過させる入射光学系５と、前記入射
光学系５を通過したのちのレーザ光３（３ｃ）を反射さ
せる反射光学系６と、前記反射光学系６で反射されたレ
ーザ光３（３ｄ）を通過させる出射光学系７とをそなえ
ている。 これらのうち、入射光学系５は、前記反射鏡４によって
反射されたレーザ光３（３ａ）のビーム径をＸ方向に縮
小または拡大して当該ビーム径を調節するビーム形状Ｘ
方向変換機構５１をそなえているとともに、前記ビーム
形状Ｘ方向変換機構によってビーム径がＸ方向に調節さ
れたレーザ光３（３ｂ）のビーム径をＸ方向に対して直
角なＸ方向に縮小または拡大するビーム形状Ｘ方向変換
機構５２とを備えている。 また、反射光学系６は、この実施例においては複数の反
射面をもつポリゴンミラーからなるものであり、前記入
射光学系５から入射されたレーザ光３（３０）を前記ポ
リゴンミラーからなる反射光学系６のうちの一つの反射
面によってまず反射することにより１回目の走査を行い
、続いて次の反射面によって反射することにより２回目
の走査を行うという動作がくりかえし行われ、ここで走
査されたレーザ光３（３ｄ）は出射光学系７を通過する
。 この出射光学系７は、前記走査されたレーザ光３（３ｄ
）を被加工物１０の加工面に対して等速度で走査させる
ようにするｆΦθレンズ７１と、被加工物近傍レンズ７
２と、結像位置における許容誤差を緩和するとともにレ
ーザ光３（３ｅ）の長径／短径比をさらに大きくした長
円形ビームのレーザ光３（３ｆ）に変換するシリンドリ
カルレンズ７３と、レーザ光３（３ｆ）の走査幅を定め
る開口位置調整可能なスリット７４とをそなえている。 このような構成をもつ可変ビームレーザ加工装置１によ
って、被加工物１０に対してレーザ加工を行う手順につ
いて第２図とともに説明する。 まず、レーザ発振器２で発振されたレーザ光３（３ａ）
は、第２図（ａ）に示すような円形ビームの形状をなす
ものであり、この円形ビームのレーザ光３（３ａ）は反
射鏡４によって反射されたのち入射光学系５に入る。こ
の入射光学系５において、円形ビームのレーザ光３（３
ａ）は、ビーム形状Ｘ方向変換機構５１によってＸ方向
に縮小されて、第２図（ｂ）に示すようにＸ方向に縮小
された長円形ビームのレーザ光３（３ｂ）となり、次い
でビーム形状Ｘ方向変換機構５２によってビーム径がＸ
方向に対して直角なＸ方向に拡大されて、第２図（ｃ）
に示すような長円形ビームのレーザ光３ （３ｃ）とな
る。 この長円形ビームのレーザ光３（３ｃ）は、複数の反射
面をそなえかつ矢印方向に回転するポリゴンミラーから
なる反射光学系６によって反射されることによりくりか
えし走査するものとなり、このくりかえし走査する長円
形ビームのレーザ光３（３ｄ）は出射光学系７に入る。 この出射光学系７において、長円形ビームのレーザ光３
（３ｄ）は、ｆ・θレンズ７１によって被加工物１０の
表面で等連化されるものとなり、次いで被加工物近傍レ
ンズ７２を通過したのちシリンドリカルレンズ７３を通
過することによって長径／短径比のさらに大きい第２図
（ｄ）に示すような長円形ビームのレーザ光３（３ｆ）
に変換され、スリット７４によって走査幅が調節された
のち、被加工物１０の表面を照射しそして走査すること
によって、線状のレーザ加工が行われる。 そしてこの場合、ビーム形状Ｘ方向変換機構５１によっ
てビーム径をＸ方向に拡大させたときには、線状のレー
ザ加工において加工幅（線方向と直交する方向の幅）が
増大したものとなり、逆にビーム形状Ｘ方向変換機構５
１によってビーム径をＸ方向に縮小させたときには、線
状のレーザ加工において加工幅が減少したものとなり、
このような加工幅の増減はレーザ加工中においても行う
ことが可能となる。 なお、上記実施例では、反射光学系６がポリゴンミラー
からなるものであり、レーザ光を走査することによって
、線状のレーザ加工を行うようにした場合を例にとって
説明したが、反射光学系６が単純な反射鏡をなすもので
あってもよく、このような場合にはレーザ加工に際して
ビーム形状Ｘ方向変換機構を調整することによってレー
ザ加工径を増減させることができる。 また、上記実施例では、ビーム形状Ｘ方向変換機構５１
およびビーム形状Ｘ方向変換機構５２が入射光学系５に
のみ設けである場合を説明したが、これにのみ限定され
ない。
以上説明してきたように、この発明に係る可変ビームレ
ーザ加工装置は、レーザ発振器をそなえ、前記レーザ発
振器で発振されたレーザ光を。 入射光学系９反射光学系および出射光学系を経て被加工
物に照射して、当該被加工物に対するレーザ加工を行う
ものであって、前記入射光学系および／または反射光学
系に、レーザ光のビーム径をＸ方向に縮小または拡大す
るビーム形状Ｘ方向変換機構と、前記レーザ光のビーム
径をＸ方向に対して直角なＸ方向に縮小または拡大する
ど−ム形状Ｘ方向変換機構をそなえた構成としたもので
あるから、ビーム形状Ｘ方向変換機構を操作することに
よってさまざまなビーム径をもつ長円形ビームのレーザ
光を得るようにすることにより、さまざまな加工径のレ
ーザ加工を行うことができ、かつまた反射光学系によっ
てレーザ光を走査する場合にさまざまな加工幅をもつ線
状レーザ加工を行うことができ、レーザ加工中であって
もレーザ加工部分の加工径や加工幅を変更することが可
能であり、従来のように光学系を再構成する必要がない
という著しく優れた効果がもたらされるものである。
ーザ加工装置は、レーザ発振器をそなえ、前記レーザ発
振器で発振されたレーザ光を。 入射光学系９反射光学系および出射光学系を経て被加工
物に照射して、当該被加工物に対するレーザ加工を行う
ものであって、前記入射光学系および／または反射光学
系に、レーザ光のビーム径をＸ方向に縮小または拡大す
るビーム形状Ｘ方向変換機構と、前記レーザ光のビーム
径をＸ方向に対して直角なＸ方向に縮小または拡大する
ど−ム形状Ｘ方向変換機構をそなえた構成としたもので
あるから、ビーム形状Ｘ方向変換機構を操作することに
よってさまざまなビーム径をもつ長円形ビームのレーザ
光を得るようにすることにより、さまざまな加工径のレ
ーザ加工を行うことができ、かつまた反射光学系によっ
てレーザ光を走査する場合にさまざまな加工幅をもつ線
状レーザ加工を行うことができ、レーザ加工中であって
もレーザ加工部分の加工径や加工幅を変更することが可
能であり、従来のように光学系を再構成する必要がない
という著しく優れた効果がもたらされるものである。
第１図はこの発明に係る可変ビームレーザ加工装置の基
本構成を示す平面説明図、第２図（ａ）（ｂ）（ｃ）（
ｄ）は第１図に示した可変ビームレーザ加工装置におい
て各部位におけるレーザ光のビーム形状変化を示す各々
説明図、第３図は従来のレーザ加工装置を示す説明図で
ある。 １・・・可変ビームレーザ加工装置、 ２・・・レーザ発振器、 ３ （３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅ、３ｆ）−−−レ
ーザ光、 ５・・・入射光学系、 ６・・・反射光学系、 ７・・・出射光学系、 ５１・・・ビーム形状Ｘ方向変換機構、５２・・・ビー
ム形状Ｘ方向変換機構。 特許出願人 株式会社 日平トヤマ代理人ｊｆ理士
小 塩 豊 第１図 、１ で１」こビー４ム１Ｌ−サ゛力Ｕ１安も１１７′ し−ツ゛克 工ん
本構成を示す平面説明図、第２図（ａ）（ｂ）（ｃ）（
ｄ）は第１図に示した可変ビームレーザ加工装置におい
て各部位におけるレーザ光のビーム形状変化を示す各々
説明図、第３図は従来のレーザ加工装置を示す説明図で
ある。 １・・・可変ビームレーザ加工装置、 ２・・・レーザ発振器、 ３ （３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅ、３ｆ）−−−レ
ーザ光、 ５・・・入射光学系、 ６・・・反射光学系、 ７・・・出射光学系、 ５１・・・ビーム形状Ｘ方向変換機構、５２・・・ビー
ム形状Ｘ方向変換機構。 特許出願人 株式会社 日平トヤマ代理人ｊｆ理士
小 塩 豊 第１図 、１ で１」こビー４ム１Ｌ−サ゛力Ｕ１安も１１７′ し−ツ゛克 工ん
Claims (1)
- （１）レーザ発振器をそなえ、前記レーザ発振器で発振
されたレーザ光を、入射光学系、反射光学系および出射
光学系を経て被加工物に照射して、当該被加工物に対す
るレーザ加工を行うレーザ加工装置であって、前記入射
光学系および／または反射光学系に、前記レーザ光のビ
ーム径をｙ方向に縮小または拡大するビーム形状ｙ方向
変換機構と、レーザ光のビーム径を前記ｙ方向に対して
直角なｘ方向に縮小または拡大するビーム形状ｘ方向変
換機構をそなえたことを特徴とする可変ビームレーザ加
工装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63135080A JPH01306088A (ja) | 1988-06-01 | 1988-06-01 | 可変ビームレーザ加工装置 |
| EP89122022A EP0429706B1 (en) | 1988-06-01 | 1989-11-29 | Laser processing method and apparatus |
| US07/442,957 US5103074A (en) | 1988-06-01 | 1989-11-29 | Laser processing method and apparatus |
| KR1019890017497A KR0137215B1 (ko) | 1988-06-01 | 1989-11-30 | 레이저 가공장치 및 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63135080A JPH01306088A (ja) | 1988-06-01 | 1988-06-01 | 可変ビームレーザ加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01306088A true JPH01306088A (ja) | 1989-12-11 |
Family
ID=15143369
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63135080A Pending JPH01306088A (ja) | 1988-06-01 | 1988-06-01 | 可変ビームレーザ加工装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5103074A (ja) |
| EP (1) | EP0429706B1 (ja) |
| JP (1) | JPH01306088A (ja) |
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1988
- 1988-06-01 JP JP63135080A patent/JPH01306088A/ja active Pending
-
1989
- 1989-11-29 US US07/442,957 patent/US5103074A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-11-29 EP EP89122022A patent/EP0429706B1/en not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0429706A1 (en) | 1991-06-05 |
| EP0429706B1 (en) | 1995-09-06 |
| US5103074A (en) | 1992-04-07 |
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