JPH01306548A - 窒化チタン形成方法 - Google Patents

窒化チタン形成方法

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JPH01306548A
JPH01306548A JP13422388A JP13422388A JPH01306548A JP H01306548 A JPH01306548 A JP H01306548A JP 13422388 A JP13422388 A JP 13422388A JP 13422388 A JP13422388 A JP 13422388A JP H01306548 A JPH01306548 A JP H01306548A
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JP
Japan
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heating furnace
metal
titanium nitride
titanium
gas
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JP13422388A
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English (en)
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Kiyomitsu Suga
須賀 清光
Koji Hirose
広瀬 孝二
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Seikosha KK
Original Assignee
Seikosha KK
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Publication date
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  • Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は窒化チタン形成方法に関するものである。
〔従来技術とその問題点] 従来より、窒化チタンは所定の条件で形成した被膜が金
色を呈することから、金メツキの代替として装飾品のコ
ーテイング材とじてに用いられている。
窒化チタン波膜の形成方法の一例としては、従来から金
属チタンを窒素ガス雰囲気中で加熱して、窒化チタン形
成する方法が知られている。しかしながら、金色を呈す
る窒化チタンを得るためには、金属チタンと窒素とを常
に一定の固溶比で固溶させなければならない上、反応雰
囲気中に微量の酸素が含まれていると、金属チタンと酸
素とが反応して酸化チタンを形成し、所望の組成の被膜
を得ることができず、色調が大きく変化してしまう。
そのため、一般の加熱炉などで所定の色調の窒化チタン
を安定して得ることは困難であり、装飾被膜用の窒化チ
タンの形成は、反応性スパッタリングなとのPVD法に
よっているのが実状である。
しかしながらPVD法は条件設定が難しく、作業に手間
がかり、さらには高価な高純度窒素ガスやガス精製装置
などを必要とするため、製造コストが高くなってしまう
という欠点がある。
[発明の目的] そこで本発明の目的は、極めて簡単に安定した色調を得
ることができ、かつ製造コストの低い窒化チタンの形成
方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段] 本発明の特徴は、少なくとも表面に金属チタンよりなる
被処理材と、金属チタンより酸化し易い金属とを加熱炉
内に配置し、ついで上記加熱炉内に窒素ガスを導入して
加熱するところにある。
他の特徴は、加熱温度を780℃〜830℃とするとこ
ろにある。
さらに他の特徴は、窒素ガスを上記加熱炉の一端部側か
ら供給しかつ他端部側から排出し、上記被処理材に対し
て少なくとも上流側に上記金属を配置するところにある
[作用] 被処理材と、金属チタンより酸化し易い金属とを加熱炉
内に配置して、窒素ガス雰囲気内で加熱すると、該雰囲
気内の酸素が該金属と優先的に反応して金属酸化物を生
成し、酸化チタンの生成が防止される。
[実施例] 以下、図面に基づいて本発明の実施例について説明する
第1図において、加熱炉1の石英管2の一端部には窒素
ガス導入用の管状突起3が形成しである。
石英管2の他端部には開口2aが形成してあり、蓋体4
は石英管2の他端部と密着嵌合しかつ着脱自在になって
いる。蓋体4には窒素ガス排出用の管状突起5が形成し
である。管状突起3には市販の窒素ガスボンベ(図示せ
ず。)に連結されている耐熱性の窒素ガス導入用チュー
ブ6が連結してあり、管状突起5には同様の素材の窒素
ガス排出用チューブ7が連結しである。なお8は加熱用
のヒータである。
次に処理手順について説明する。
先ず、被処理材としての金属チタン9および金属チタン
より酸化され易い金属としてのタンクル10をセラミッ
クボード11上に載置し、タンタル10にて金属チタン
9を取り囲むように配置する。ついで蓋体4を取り外し
、開口2aを介して金属チタン9とタンタル10とを加
熱炉1内に挿入し、ヒータ8との対向部に位置させる。
そして蓋体4を閉じた後、チューブ6、管状突起3を介
して窒素ガスボンベから窒素ガスを導入し、石英管2内
を窒素ガス雰囲気とする。その後、窒素ガスを導入しつ
つ、780℃〜830℃で約1時間加熱する。なお窒素
ガスは、ガスボンベからの圧力により、管状突起5.チ
ューブ7を介して自然に排出される。
以上の処理によって、金属チタン9の表面に金色を呈す
る窒化チタン被膜12(第2図示)を形成することがで
きた。この窒化チタン被膜12は第3図示のX線回折試
験の結果から、第2図に示すようにTiN層12 a、
T t2 N層12b。
T ia N層12cの31所からなるものであること
が確認された。
下表に、金属チタン9の近傍にタンタル10を配置して
窒化チタン被膜を形成した場合と、タンタル10を用い
ずに窒化チタン被膜を形成した場合の実験結果を示す。
なお試料としては金属チタン薄板を用い、加熱時間は1
時間とし、窒素ガスの流量は5000 ml/ min
とした。
久 上表に示すように、タンタルを用いずに処理したものは
一部に酸化物が観察されるのに対し、タンタルを加熱炉
内に配置したものは酸化物が観察されず均一な窒化チタ
ン被膜が得られる。これは加熱炉内に配置したタンタル
が窒素ガス雰囲気中の酸素と優先的に反応して金属酸化
物を生成し、それによって酸化チタンの生成が防止され
るからである。なお所望の金色を呈する窒化チタン被膜
を?1ノるには、750°C〜850℃の範囲で加熱す
ることか望ましく、この加熱温度範囲内では窒化チタン
被膜の表面硬度をビッカース硬度で450HV〜750
HVとすることができ、チタン薄板にもソリなどが生じ
ないことが確認された。
上述の実施例では、被処理材とともに加熱炉内に配置す
る金属としてタンタルを用いた例について説明したが、
該金属は金属チタンより酸化し易い金属、すなわち、酸
化物の生成自由エネルギーか酸化チタンの生成自由エネ
ルギーよりも小さな金属ならば良く、ニオブやクロムな
どを用いた場合にも同トlな効果がjすられる。
また本実施例のように窒素ガスを一端部側から導入し、
他端部側から排出するようにした場合には、小メ(°1
の加熱炉を用いた場合でも窒素ガスが不足することがな
く、常に一定の窒素固溶比を白−する窒化チタン波膜を
得ることができる。またこの場合には金属チタンより酸
化され易い金属を被処理材を取囲むように配置せず、被
処理材に対して上流側のみに配置するようにしても同様
な効果か得られる。
また上述の実施例では、被処理材として金属チタンを用
いた例を示したが、被処理材は表面が金属チタンで形成
されているものであれば良く、例えば鉄鋼など表面に金
属チタンを被覆したものであってもよい。
[効用] 以1−詳細に説明したように本発明によれば、スパッタ
リングなどの煩雑な処理を要することなく、一般の加熱
炉を用いて、組成比が一定で安定した色調の窒化チタン
波膜を容易に形成することかでき、4産に適する。しか
も高純度の窒素ガスを要することなく、安価な市販の窒
素ガスを用いることかできるため、製造コストの低減に
極めて角効ある。
また750°C〜850℃の温度範囲で加熱すれば、美
しい金色を呈する均一な窒化チタン被膜を?’Jること
ができる。
また加熱炉の一端部側から窒素ガスを導入し、他端部側
から窒素ガスを排出するようにすれば、小型の加熱炉を
用いた場合でも反応雰囲気中の窒素ガスか不足すること
がなく、常に一定の窒素固溶化をaする窒化チタン波膜
を得ることかできる。
またこの場合には金属チタンより酸化され易い金属を被
処理材を取囲むように配置せず、被処理材に対して1−
流側のみに配置するようにしても同様な効川か得られる
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の一実施例を示すものであり、第1図は加
熱炉の断面図、第2図は窒化チタン波膜を形成した被処
理材の断面の模式図、第3図は窒化チタン波膜のX線回
折試験の結果を示す回折強度と回折角の関係図である。 1・・・加熱炉、 9・・・被処理材、 10・・・金属チタンより酸化され易い金属。 第1図 第2図 /12冒4乙奇7・7句員 4欅(lIゴ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)少なくとも表面に金属チタンを有する被処理材と
    、金属チタンより酸化し易い金属とを加熱炉内に配置し
    、ついで上記加熱炉内に窒素ガスを導入して加熱するこ
    とを特徴とする窒化チタンの形成方法。
  2. (2)加熱温度を750℃〜850℃とすることを特徴
    とする請求項1記載の窒化チタン形成方法。
  3. (3)窒素ガスを上記加熱炉の一端部側から供給しかつ
    他端部側から排出し、上記被処理材に対して少なくとも
    上流側に上記金属を配置することを特徴とする請求項1
    または2記載の窒化チタン形成方法。
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