JPH01307006A - 記録再生用ヘッドとその製造方法 - Google Patents
記録再生用ヘッドとその製造方法Info
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- JPH01307006A JPH01307006A JP63136401A JP13640188A JPH01307006A JP H01307006 A JPH01307006 A JP H01307006A JP 63136401 A JP63136401 A JP 63136401A JP 13640188 A JP13640188 A JP 13640188A JP H01307006 A JPH01307006 A JP H01307006A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、記録用ヘッドとその製造方法、およびそれを
用いた記録装置に関するものである。さらに詳しくは、
アナログ信号を記録するＶＴＲやデジタル信号を記録し
たり消去したりする磁気ディスク用の磁気記録ヘッドや
光磁気記録用の光磁気記録ヘッド、光ヘッド等の記録ヘ
ッドの記録部の保護膜形成方法、及びその方法を用いて
製造される記録ヘッドに関するものである。
用いた記録装置に関するものである。さらに詳しくは、
アナログ信号を記録するＶＴＲやデジタル信号を記録し
たり消去したりする磁気ディスク用の磁気記録ヘッドや
光磁気記録用の光磁気記録ヘッド、光ヘッド等の記録ヘ
ッドの記録部の保護膜形成方法、及びその方法を用いて
製造される記録ヘッドに関するものである。
従来の技術
従来、ＶＴＲやフロッピーディスク等の記録用ヘッドの
製造は、セラミック基体の表面に磁性膜を蒸着し、さら
にもう一つのセラミックを接着し、媒体と接触する部分
を研磨した後切断する方法が一般に用いられている。
製造は、セラミック基体の表面に磁性膜を蒸着し、さら
にもう一つのセラミックを接着し、媒体と接触する部分
を研磨した後切断する方法が一般に用いられている。
発明が解決しようとした課題
従って、媒体と接触する部分の研磨は行われているが、
耐摩耗性を目的とした特別な表面処理は行われていなか
った。ただ、セラミックスの材質などを変えて耐摩耗性
を向上させていたに過ぎない。
耐摩耗性を目的とした特別な表面処理は行われていなか
った。ただ、セラミックスの材質などを変えて耐摩耗性
を向上させていたに過ぎない。
従って、従来の記録ヘッドは記録媒体に対して損傷が大
きく、また摩耗も激しく信頼性に乏しかった。
きく、また摩耗も激しく信頼性に乏しかった。
以上述べてきた従来法の欠点に鑑み、本発明の目的は、
滑剤をより薄く均一に且つピンホール無くヘッド上に形
成する方法を提供し、記録媒体に対する損傷を少なくす
ると共に記録ヘッド自体の信頼性を向上することにある
。
滑剤をより薄く均一に且つピンホール無くヘッド上に形
成する方法を提供し、記録媒体に対する損傷を少なくす
ると共に記録ヘッド自体の信頼性を向上することにある
。
課題を解決する・ための手段
本発明は、表面シラン界面活性剤よりなる単分子保護膜
が形成された記録用ヘッドを提供することにより、記録
媒体に対する損傷を低減するものである。また、記録用
ヘッドの表面に直接または間接にシラン界面活性剤を単
分子状に化学吸着させる方法、あるいはシラン界面活性
剤を単分子状に化学吸着させた後さらに所定のガスを含
む雰囲気中でエネルギー線（光、電子ビーム、Ｘ線、γ
線、イオンビーム等）を照射、あるいはプラズマ処理を
行うこと等によりシラン界面活性剤の感応基を変性させ
る工程等を含み、これらの工程を複数回交互に行う等の
方法により単層または複数層の単分子膜を保護膜として
形成することを特徴とした記録用ヘッドの製造方法。さ
らにそれを用いた記録装置を提供するものである。
が形成された記録用ヘッドを提供することにより、記録
媒体に対する損傷を低減するものである。また、記録用
ヘッドの表面に直接または間接にシラン界面活性剤を単
分子状に化学吸着させる方法、あるいはシラン界面活性
剤を単分子状に化学吸着させた後さらに所定のガスを含
む雰囲気中でエネルギー線（光、電子ビーム、Ｘ線、γ
線、イオンビーム等）を照射、あるいはプラズマ処理を
行うこと等によりシラン界面活性剤の感応基を変性させ
る工程等を含み、これらの工程を複数回交互に行う等の
方法により単層または複数層の単分子膜を保護膜として
形成することを特徴とした記録用ヘッドの製造方法。さ
らにそれを用いた記録装置を提供するものである。
作用
以上の構成で、記録用ヘッドの表面に単分子保護膜ある
いは複数層の単分子保護膜が互いに月間で化学結合した
状態の高密度の有機薄膜をピンホール無く、かつ均一な
厚みで、非常に薄く形成できる。従って、磁気記録或は
再生ヘッドの効率が向上し、ノイズも減少できる作用が
ある。さらに単分子有機薄膜表面にＦ（フッ素）を含ま
せることにより、保護膜に滑性を持たせることができ、
ヘッドの滑り性が向上できる作用もある。
いは複数層の単分子保護膜が互いに月間で化学結合した
状態の高密度の有機薄膜をピンホール無く、かつ均一な
厚みで、非常に薄く形成できる。従って、磁気記録或は
再生ヘッドの効率が向上し、ノイズも減少できる作用が
ある。さらに単分子有機薄膜表面にＦ（フッ素）を含ま
せることにより、保護膜に滑性を持たせることができ、
ヘッドの滑り性が向上できる作用もある。
実施例
以下、実施例を第１〜８図を用いて説明する。
例えば、第１図に示すように、磁気記録用ヘッド本体１
上にスッパタ法等により耐摩耗性の高い金属酸化物（例
えばＳｉＯ＋やＡ１２０１等）或は金属（ＷやＭｏ等）
等の薄膜２を形成した後、シラン界面活性剤としてＣＨ
２：ＣＨ−（ＣＨ２）ｎ−８ｉ Ｃ１３（、：整数。１
０〜２０程度が最も扱いやすい）を用い、２×１０４〜
５ Ｘ １０−”Ｍｏｌ／１程度の濃度で溶かした８０
％ｎ−ヘキサン、１２％四塩化炭素、８Ｖ、クロロホル
ム溶液を調整し、前記磁気記録用ヘッド本体１を浸漬す
ると、磁気記録用ヘッド表面は一〇Ｈ基を含んでいるの
で表面で シラン界面活性剤による単分子吸着膜３が一層（２０〜
３０Ａの厚み）化学結合した状態で保護膜４として形成
される。 （第２図）従って、記録用ヘッドの表面に単
分子保護膜が化学結合した状態の高密度の有機薄膜をピ
ンホール無く、かつ均一な厚みで、非常に薄く形成でき
るので、磁気記録或は再生ヘッドの効率が向上され、且
つノイズも減少されて効果大なるものである。
上にスッパタ法等により耐摩耗性の高い金属酸化物（例
えばＳｉＯ＋やＡ１２０１等）或は金属（ＷやＭｏ等）
等の薄膜２を形成した後、シラン界面活性剤としてＣＨ
２：ＣＨ−（ＣＨ２）ｎ−８ｉ Ｃ１３（、：整数。１
０〜２０程度が最も扱いやすい）を用い、２×１０４〜
５ Ｘ １０−”Ｍｏｌ／１程度の濃度で溶かした８０
％ｎ−ヘキサン、１２％四塩化炭素、８Ｖ、クロロホル
ム溶液を調整し、前記磁気記録用ヘッド本体１を浸漬す
ると、磁気記録用ヘッド表面は一〇Ｈ基を含んでいるの
で表面で シラン界面活性剤による単分子吸着膜３が一層（２０〜
３０Ａの厚み）化学結合した状態で保護膜４として形成
される。 （第２図）従って、記録用ヘッドの表面に単
分子保護膜が化学結合した状態の高密度の有機薄膜をピ
ンホール無く、かつ均一な厚みで、非常に薄く形成でき
るので、磁気記録或は再生ヘッドの効率が向上され、且
つノイズも減少されて効果大なるものである。
この状態でも、単分子の保護膜として充分滑性はあるが
さらに性能を向上させるため、酸素あるいはＮ２を含ん
だ雰囲気中で（空気中でもよい）ビニル基５ （ＣＨｇ
：ＣＨ−）をエネルギー線（電子線、Ｘ線、γ線、紫外
線、イオン線）で照射し、ビニル基４に水酸（−ＯＨ）
基６（第３図）あるいはアミノ（−ＮＨ＊）基７（第４
図）を付加させる。なお、これらの感応基がビニル基に
付加することはＦＴＩＲ分析により確認された。また、
このとき表面に並んだビニル基は、０２やＮ２を含んだ
プラズマ中で処理する方法でも−ＯＨ基や−Ｎ Ｈａ基
の付加を行うことができる。以下、同じ反応液を用い化
学吸着工程およびＯＨ基あるいはＮ Ｈ２基付加工程を
繰り返すことにより、磁気記録ヘッドの表面に複数層の
単分子膜が互いに層間で化学結合した状態の高密度の単
分子累積膜保護膜８（保ｉ（ｉ膜４（第１図））を得る
ことができる。（第５図及び第６図）従って、記録用ヘ
ッドの表面に複数層の単分子保護膜が互いに層間で化学
結合した状態の高密度の有機薄膜をピンホール無く、か
つ均一な厚みで、非常に薄く形成できる。
さらに性能を向上させるため、酸素あるいはＮ２を含ん
だ雰囲気中で（空気中でもよい）ビニル基５ （ＣＨｇ
：ＣＨ−）をエネルギー線（電子線、Ｘ線、γ線、紫外
線、イオン線）で照射し、ビニル基４に水酸（−ＯＨ）
基６（第３図）あるいはアミノ（−ＮＨ＊）基７（第４
図）を付加させる。なお、これらの感応基がビニル基に
付加することはＦＴＩＲ分析により確認された。また、
このとき表面に並んだビニル基は、０２やＮ２を含んだ
プラズマ中で処理する方法でも−ＯＨ基や−Ｎ Ｈａ基
の付加を行うことができる。以下、同じ反応液を用い化
学吸着工程およびＯＨ基あるいはＮ Ｈ２基付加工程を
繰り返すことにより、磁気記録ヘッドの表面に複数層の
単分子膜が互いに層間で化学結合した状態の高密度の単
分子累積膜保護膜８（保ｉ（ｉ膜４（第１図））を得る
ことができる。（第５図及び第６図）従って、記録用ヘ
ッドの表面に複数層の単分子保護膜が互いに層間で化学
結合した状態の高密度の有機薄膜をピンホール無く、か
つ均一な厚みで、非常に薄く形成できる。
更に、表面にＦを含んだ単分子膜９を形成しようとした
場合には、最終の吸着工程で試薬としてＣＦａ−ＣＦａ
−（ＣＨ，）＋ｓ−８ｉ ＣＩｓ等Ｆを含んだシリコン
界面活性剤を用いて化学吸着を行ったり、或は成膜を終
えた後、さらに最表面の単分子膜をフッ素を含むガス中
でプラズマ処理することにより表面にＦを含む単分子累
積膜を形成できる。 （第７図）従って、ヘッド表面の
有機薄膜表面にＦを含ませることにより、保護膜に滑性
を持たせることができ、ヘッドの滑り性が向上できる効
果がある。
場合には、最終の吸着工程で試薬としてＣＦａ−ＣＦａ
−（ＣＨ，）＋ｓ−８ｉ ＣＩｓ等Ｆを含んだシリコン
界面活性剤を用いて化学吸着を行ったり、或は成膜を終
えた後、さらに最表面の単分子膜をフッ素を含むガス中
でプラズマ処理することにより表面にＦを含む単分子累
積膜を形成できる。 （第７図）従って、ヘッド表面の
有機薄膜表面にＦを含ませることにより、保護膜に滑性
を持たせることができ、ヘッドの滑り性が向上できる効
果がある。
一方、シラン界面活性剤を一層化学吸着法で形成した基
板を長鎖脂肪酸（例えば、ＣＨｓ−（ＣＨｇ）、−ＣＯ
ＯＨ，、は１０〜２５）あるいは、長鎖アルコール（例
えば、ＣＨｓ−（ＣＨｚ）ｎ−ＯＨｌ−は１０〜２５）
を溶かした水溶液中に浸せきすることにより、長鎖脂肪
酸あるいは長鎖アルコールの単分子膜をさらに一層前記
シラン界面活性剤よりなる単分子膜表面に吸着形成でき
る。（第８図） 例えば、ＣＨｉ−（ＣＨ２）ローＯＨを１０−６閣ｏ１
／ｌ溶かした水溶液中に１０℃で３０分浸せきすると長
鎖アルコールの単分子膜がＯＨ基を表にして一層長鎖ア
ルコールの単分子ｉｔｏを吸着形成できる。
板を長鎖脂肪酸（例えば、ＣＨｓ−（ＣＨｇ）、−ＣＯ
ＯＨ，、は１０〜２５）あるいは、長鎖アルコール（例
えば、ＣＨｓ−（ＣＨｚ）ｎ−ＯＨｌ−は１０〜２５）
を溶かした水溶液中に浸せきすることにより、長鎖脂肪
酸あるいは長鎖アルコールの単分子膜をさらに一層前記
シラン界面活性剤よりなる単分子膜表面に吸着形成でき
る。（第８図） 例えば、ＣＨｉ−（ＣＨ２）ローＯＨを１０−６閣ｏ１
／ｌ溶かした水溶液中に１０℃で３０分浸せきすると長
鎖アルコールの単分子膜がＯＨ基を表にして一層長鎖ア
ルコールの単分子ｉｔｏを吸着形成できる。
（第８図）このことにより、さらにヘッドの滑り性が向
上された。
上された。
なお、化学吸着用の材料として、ジアセチレン系の誘導
体〔例えば、ＣＨ２：ＣＨ−（ＣＨｇ）ｎ−ＣＣ−ＣＣ
−（ＣＨｇＬ−８Ｉ Ｃｌａ （１１％ ＠：整数）等
〕を用いた場合には、紫外線照射によりポリジアセチレ
ンの架橋を生成させ面方向の導電性を持たすことができ
、ヘッド基体表面の帯電を防止することも可能である。
体〔例えば、ＣＨ２：ＣＨ−（ＣＨｇ）ｎ−ＣＣ−ＣＣ
−（ＣＨｇＬ−８Ｉ Ｃｌａ （１１％ ＠：整数）等
〕を用いた場合には、紫外線照射によりポリジアセチレ
ンの架橋を生成させ面方向の導電性を持たすことができ
、ヘッド基体表面の帯電を防止することも可能である。
また、上記実施例では、金属酸化膜や金属を介して間接
的にヘッド表面に単分子累積膜を形成した例を示したが
、磁気記録ヘッドは通常セラミックスと磁性金属ででき
ているので直接ヘッド表面に単分子吸着保護膜を形成し
ても同じ効果が得られることは言うまでもない。
的にヘッド表面に単分子累積膜を形成した例を示したが
、磁気記録ヘッドは通常セラミックスと磁性金属ででき
ているので直接ヘッド表面に単分子吸着保護膜を形成し
ても同じ効果が得られることは言うまでもない。
以上、述べてきた実施例は、ヘッドとして磁気記録用の
ヘッド用いて説明してきたが、光デイスク用のレーザヘ
ッド、レコード針等の耐摩耗性を向上したり、表面保護
を目的とした全ての記録ヘッド、或はそれを用いたアナ
ログやデジタル信号等の電気信号を記録するＶ Ｔ Ｒ
，磁気ディスク装置、光磁気ディスク装置等に応用でき
る。
ヘッド用いて説明してきたが、光デイスク用のレーザヘ
ッド、レコード針等の耐摩耗性を向上したり、表面保護
を目的とした全ての記録ヘッド、或はそれを用いたアナ
ログやデジタル信号等の電気信号を記録するＶ Ｔ Ｒ
，磁気ディスク装置、光磁気ディスク装置等に応用でき
る。
発明の効果
以上述べてきた方法により、記録用ヘッドの表面に単分
子保護膜あるいは複数層の単分子保護膜が互いに層間で
化学結合した状態の高密度の有機薄膜をピンホール無く
、かつ均一な厚みで、非常に薄く形成できる。従って、
磁気記録或は再生ヘッドとしての効率が向上でき、ノイ
ズも減少できて効果大なるものである。さらに単分子有
機薄膜表面にＦを含ませたり２層構造としたことにより
、保護膜に滑性を持たせることができ、ヘッドの滑り性
が向上される。従って、ヘッドの耐摩耗性向上効果大な
るものである。また、磁気ディスクや磁気テープ等の記
録媒体に与える損傷を少なく押さえることができる効果
もある。
子保護膜あるいは複数層の単分子保護膜が互いに層間で
化学結合した状態の高密度の有機薄膜をピンホール無く
、かつ均一な厚みで、非常に薄く形成できる。従って、
磁気記録或は再生ヘッドとしての効率が向上でき、ノイ
ズも減少できて効果大なるものである。さらに単分子有
機薄膜表面にＦを含ませたり２層構造としたことにより
、保護膜に滑性を持たせることができ、ヘッドの滑り性
が向上される。従って、ヘッドの耐摩耗性向上効果大な
るものである。また、磁気ディスクや磁気テープ等の記
録媒体に与える損傷を少なく押さえることができる効果
もある。
従って、アナログやデジタル信号を記録する■ＴＲ１磁
気ディスク装置、光磁気ディスク装置等に応用すれば、
装置としての性能を大幅に向上できる。
気ディスク装置、光磁気ディスク装置等に応用すれば、
装置としての性能を大幅に向上できる。
第１図〜第８図は本発明の詳細な説明するための磁気記
録ヘッドの断面を示し、第１図は磁気ヘッドの概略断面
図、第２図〜第８図は第１図中Ｏ印Ａ部を分子レベルま
で拡大した工程断面図であ１・・・・・・ヘッド体、２
・・・・・・金属酸化物薄膜、３・・・・・・単分子吸
着膜、４・・・・・・保護膜、５・・・・・・ビニル基
、６・・・・・・水酸基、７・・・・・・アミノ基、８
・・・・・・単分子累積膜、１０・・・・・・長鎖アル
コールの単分子膜。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか１８第 １ 図 お ２１２Ｉ 第７図 富８図 の サ 派 派 Ｄ Ｑｉデ
法
録ヘッドの断面を示し、第１図は磁気ヘッドの概略断面
図、第２図〜第８図は第１図中Ｏ印Ａ部を分子レベルま
で拡大した工程断面図であ１・・・・・・ヘッド体、２
・・・・・・金属酸化物薄膜、３・・・・・・単分子吸
着膜、４・・・・・・保護膜、５・・・・・・ビニル基
、６・・・・・・水酸基、７・・・・・・アミノ基、８
・・・・・・単分子累積膜、１０・・・・・・長鎖アル
コールの単分子膜。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか１８第 １ 図 お ２１２Ｉ 第７図 富８図 の サ 派 派 Ｄ Ｑｉデ
法
Claims (11)
- （１）ヘッド表面にシラン界面活性剤よりなる単分子保
護膜が形成されていることを特徴とした記録用ヘッド。 - （２）ヘッド表面にシラン界面活性剤よりなる複数層の
単分子保護膜が形成されていることを特徴とした記録用
ヘッド。 - （３）単分子保護膜がヘッド表面に化学結合しているこ
とを特徴とした特許請求の範囲第１項記載の記録用ヘッ
ド。 - （４）複数層の単分子保護膜が互いに層間で化学結合し
ていることを特徴とした特許請求の範囲第２項記載の記
録用ヘッド。 - （５）単分子保護膜がフッ素を含んでいることを特徴と
した特許請求の範囲第１項又は第２項記載の記録用ヘッ
ド。 - （６）ヘッド表面に−ＳｉＣｌ＿３基を含むシラン界面
活性剤を化学吸着させ、直接または間接に前記活性剤の
シリコンとヘッド表面のの酸素を化学結合させて、単分
子膜を一層形成することを特徴とした記録用ヘッドの製
造方法。 - （７）ヘッド表面にシラン界面活性剤を化学吸着させ、
直接または間接に前記活性剤のシリコンとヘッド表面の
の酸素を化学結合させて、単分子膜を一層形成する工程
と、一層単分子膜を形成した後、Ｎ＿２又はＯ＿２を含
むガス雰囲気中で高エネルギービームを照射するか又は
プラズマ処理した後シラン界面活性剤を化学吸着させる
工程を複数回繰り返すことを特徴とした記録用ヘッドの
製造方法。 - （８）シラン界面活性剤として、ＣＨ＿２＝ＣＨ−（Ｃ
Ｈ＿２）＿ｎ−ＳｉＣｌ＿３（ｎ：整数）で表される化
学物質を用いることを特徴とした特許請求の範囲第６項
又は第７項記載の記録用ヘッドの製造方法。 - （９）ヘッドが磁気記録用であることを特徴とした特許
請求の範囲第６項又は第７項記載の記録用ヘッドの製造
方法。 - （１０）ヘッド表面にシラン界面活性剤を化学吸着させ
前記活性剤のシリコンとヘッド表面の酸素を直接または
間接に化学結合させて単分子膜を一層形成する工程と、
長鎖脂肪酸又は長鎖アルコールを溶解した水溶液に浸せ
きし、さらにもう一層の長鎖脂肪酸又はアルコール単分
子膜を吸着累積する工程を含むことを特徴とした記録用
ヘッド製造方法。 - （１１）ヘッドが磁気記録用であることを特徴とした特
許請求の範囲第６項又は第７項又は第１０項記載の記録
用ヘッドの製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63136401A JP2517067B2 (ja) | 1988-06-02 | 1988-06-02 | 記録再生用ヘッドとその製造方法 |
| US07/354,240 US4992300A (en) | 1988-05-24 | 1989-05-19 | Manufacturing method for a recording medium or a recording head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63136401A JP2517067B2 (ja) | 1988-06-02 | 1988-06-02 | 記録再生用ヘッドとその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01307006A true JPH01307006A (ja) | 1989-12-12 |
| JP2517067B2 JP2517067B2 (ja) | 1996-07-24 |
Family
ID=15174304
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63136401A Expired - Lifetime JP2517067B2 (ja) | 1988-05-24 | 1988-06-02 | 記録再生用ヘッドとその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2517067B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61129709A (ja) * | 1984-11-27 | 1986-06-17 | Canon Electronics Inc | 磁気ヘツド |
-
1988
- 1988-06-02 JP JP63136401A patent/JP2517067B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61129709A (ja) * | 1984-11-27 | 1986-06-17 | Canon Electronics Inc | 磁気ヘツド |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2517067B2 (ja) | 1996-07-24 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080430 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
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