JPH06124486A - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents
光記録媒体の製造方法Info
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- JPH06124486A JPH06124486A JP24780992A JP24780992A JPH06124486A JP H06124486 A JPH06124486 A JP H06124486A JP 24780992 A JP24780992 A JP 24780992A JP 24780992 A JP24780992 A JP 24780992A JP H06124486 A JPH06124486 A JP H06124486A
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Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 歩止まりの良い光記録媒体の製造方法を提供
する。 【構成】 基板を射出成形等により成形した後、直ちに
紫外線硬化性樹脂等からなる表面保護層を形成し、次い
で該表面保護層の設けられていない側に記録層等を形成
するもの。早期に保護層を形成し、ホコリ等を吸着して
硬化樹脂の塗布時に塗布むら等が発生するのを防止す
る。
する。 【構成】 基板を射出成形等により成形した後、直ちに
紫外線硬化性樹脂等からなる表面保護層を形成し、次い
で該表面保護層の設けられていない側に記録層等を形成
するもの。早期に保護層を形成し、ホコリ等を吸着して
硬化樹脂の塗布時に塗布むら等が発生するのを防止す
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光記録媒体の製造方法に
関する。
関する。
【0002】
【従来の技術】近年、大容量、高速のメモリ媒体として
光記録媒体が注目されている。光記録媒体としては再生
専用型光ディスク(CD,CD−ROM等)、記録再生
型光ディスク(ライトワンス型)、記録、再生、消去、
再書込可能型光ディスク(リライタブル型)等が知られ
ている。これらの光記録媒体の基板としては一般に樹脂
基板(ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等)が用い
られており、該樹脂基板は光学特性を上げるため比較的
分子量の小さい樹脂を用いているので柔かく、傷がつき
やすい。また、これらの樹脂は帯電し易いのでゴミやホ
コリ等が付着しやすい。
光記録媒体が注目されている。光記録媒体としては再生
専用型光ディスク(CD,CD−ROM等)、記録再生
型光ディスク(ライトワンス型)、記録、再生、消去、
再書込可能型光ディスク(リライタブル型)等が知られ
ている。これらの光記録媒体の基板としては一般に樹脂
基板(ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等)が用い
られており、該樹脂基板は光学特性を上げるため比較的
分子量の小さい樹脂を用いているので柔かく、傷がつき
やすい。また、これらの樹脂は帯電し易いのでゴミやホ
コリ等が付着しやすい。
【0003】光記録媒体の通常の製造工程は、樹脂基板
を射出成形等により成形し、得られた基板にスパッタリ
ング等の方法により記録層等を設けた後、記録層の設け
られていない側の基板表面に紫外線硬化性樹脂等の表面
保護層を設けている。これらの作業はクリーンルーム内
で行なわれるが、オングストロームオーダー、ミクロン
オーダーの極めて微細なホコリ等が帯電した基板に吸い
付けられて付着してしまうこともあり、このような微細
なホコリであっても後工程の紫外線硬化性樹脂等を塗布
する際の塗布むらの原因となる。ミクロンオーダーの径
のレーザーを用いて書き込みや読み出しを行なう光記録
媒体であるから、このような塗布むらがエラーレートに
大きな影響を与え、不良品の増加する原因となってい
た。また、基板の表面に付着したホコリ等を拭き取るこ
とも考えられるが、樹脂が柔かいため、傷つき易く、こ
れも不良品の原因となる。
を射出成形等により成形し、得られた基板にスパッタリ
ング等の方法により記録層等を設けた後、記録層の設け
られていない側の基板表面に紫外線硬化性樹脂等の表面
保護層を設けている。これらの作業はクリーンルーム内
で行なわれるが、オングストロームオーダー、ミクロン
オーダーの極めて微細なホコリ等が帯電した基板に吸い
付けられて付着してしまうこともあり、このような微細
なホコリであっても後工程の紫外線硬化性樹脂等を塗布
する際の塗布むらの原因となる。ミクロンオーダーの径
のレーザーを用いて書き込みや読み出しを行なう光記録
媒体であるから、このような塗布むらがエラーレートに
大きな影響を与え、不良品の増加する原因となってい
た。また、基板の表面に付着したホコリ等を拭き取るこ
とも考えられるが、樹脂が柔かいため、傷つき易く、こ
れも不良品の原因となる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ホコリ等が付着するこ
とによる紫外線硬化性樹脂等の塗布むらの発生や基板の
傷の発生を減少させ歩止まりの良い光記録媒体の製造方
法を提供する。
とによる紫外線硬化性樹脂等の塗布むらの発生や基板の
傷の発生を減少させ歩止まりの良い光記録媒体の製造方
法を提供する。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上記の問題
を解決するため検討を行なった結果、光記録媒体の製造
工程を見直し、基板を射出成形等で成形した後、直ぐ
に、すなわち、種々の工程を経てホコリ等の付着が生じ
る前に、紫外線硬化性樹脂等からなる表面保護層を形成
することによりホコリ等の吸着を防ぎ、また、たとえホ
コリが吸着しても拭くことを可能として、基板の表面欠
陥の発生を大幅に減少させ得ることを見出した。
を解決するため検討を行なった結果、光記録媒体の製造
工程を見直し、基板を射出成形等で成形した後、直ぐ
に、すなわち、種々の工程を経てホコリ等の付着が生じ
る前に、紫外線硬化性樹脂等からなる表面保護層を形成
することによりホコリ等の吸着を防ぎ、また、たとえホ
コリが吸着しても拭くことを可能として、基板の表面欠
陥の発生を大幅に減少させ得ることを見出した。
【0006】すなわち、本発明の要旨は、基板上に硬化
樹脂からなる表面保護層を設けた後に、該表面保護層の
設けられた側と反対側の基板面上に記録層を形成するこ
とを特徴とする光記録媒体の製造方法に存する。以下、
本発明につき図面を用いてさらに詳細に説明する。図
1、図2、図3は光記録媒体の一例の断面図である。
樹脂からなる表面保護層を設けた後に、該表面保護層の
設けられた側と反対側の基板面上に記録層を形成するこ
とを特徴とする光記録媒体の製造方法に存する。以下、
本発明につき図面を用いてさらに詳細に説明する。図
1、図2、図3は光記録媒体の一例の断面図である。
【0007】図中1は基板、2は記録層、3はスペー
サ、4は空気層、5は接着層、6は被覆層、7は表面保
護層(オーバコート層)を示す。該光記録媒体はその構
造から図1に示すようなエアーサンドイッチ構造方式、
図2に示すような全面密着貼り合せ方式、図3に示すよ
うな単板コーティング方式等に大別される。本発明はこ
れらのいずれの構造にも適用できる。
サ、4は空気層、5は接着層、6は被覆層、7は表面保
護層(オーバコート層)を示す。該光記録媒体はその構
造から図1に示すようなエアーサンドイッチ構造方式、
図2に示すような全面密着貼り合せ方式、図3に示すよ
うな単板コーティング方式等に大別される。本発明はこ
れらのいずれの構造にも適用できる。
【0008】本発明において基板1としては、ポリカー
ボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ
メチルメタクリレート樹脂等の樹脂基板が用いられる。
記録層2としては一般に公知の光記録として用いられる
層、構成のものが全て使用可能である。例えば、Al,
Au等の高反射率の金属からなる再生専用型記録層、ま
たTe等の低融点金属からなるライトワンス型記録層。
また、例えばTbFe,TbFeCo,TbCo,Dy
FeCo等の希土類と遷移金属の晶質磁性合金、MnB
i,MnCuBi等の多結晶垂直磁化膜等からなる光磁
気記録層が挙げられる。光磁気記録層としては単一層を
用いても良いし、GdTbFe/TbFeのように2層
以上の記録層を重ねても良い。
ボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ
メチルメタクリレート樹脂等の樹脂基板が用いられる。
記録層2としては一般に公知の光記録として用いられる
層、構成のものが全て使用可能である。例えば、Al,
Au等の高反射率の金属からなる再生専用型記録層、ま
たTe等の低融点金属からなるライトワンス型記録層。
また、例えばTbFe,TbFeCo,TbCo,Dy
FeCo等の希土類と遷移金属の晶質磁性合金、MnB
i,MnCuBi等の多結晶垂直磁化膜等からなる光磁
気記録層が挙げられる。光磁気記録層としては単一層を
用いても良いし、GdTbFe/TbFeのように2層
以上の記録層を重ねても良い。
【0009】通常、ライトワンス型(穴開けタイプ)の
場合には図1に示すように、空気層4を形成するように
スペーサー3を介したエアーサンドイッチ型、光磁気記
録型の場合には図2に示すように接着層5によって2枚
の基板を貼合せた貼合せ型や図3に示すような記録層2
の表面に被覆層6をコーティングしたコーティング型と
して用いられる。本発明はいずれの型式の媒体でも適用
可能である。
場合には図1に示すように、空気層4を形成するように
スペーサー3を介したエアーサンドイッチ型、光磁気記
録型の場合には図2に示すように接着層5によって2枚
の基板を貼合せた貼合せ型や図3に示すような記録層2
の表面に被覆層6をコーティングしたコーティング型と
して用いられる。本発明はいずれの型式の媒体でも適用
可能である。
【0010】本発明においては、まず、上記樹脂基板1
の片面に後述する硬化樹脂からなる表面保護層7を形成
する。上記表面保護層7のベースとなる硬化樹脂として
は光硬化型、熱硬化型、湿気硬化型等種々の硬化型の樹
脂が用いられるが、紫外線硬化型樹脂が好適に使用され
る。紫外線硬化型樹脂としてはアクリル系、エポキシ
系、ウレタン系等が挙げられ、特にアクリル系紫外線硬
化型樹脂が好適に使用される。該アクリル系紫外線硬化
型樹脂には重合性オリゴマー、モノマ、光重合性開始剤
及び増感剤を含有してもよい。該重合性オリゴマーとし
てはアクリル酸エステル、メタクリル酸エステルの二重
結合、アクリロイル基、メタクリロイル基の官能基を含
んだオリゴマーが使用され、ベースオリゴマーの主鎖構
造としてはポリエステル系、ポリエーテル系、ウレタン
系、エポキシ系、アクリル系、ポリチオール系、ポリイ
ミド系等挙げられる。具体的にはポリエステルアクリレ
ート、ポリエーテルアクリレート、ポリウレタンアクリ
レート、エポキシアクリレート、ポリブタジェンアクリ
レート等の重合性オリゴマーが好適に用いられる。光重
合開始剤としてはベンゾインエーテル類、ベンゾフェノ
ン類、アセトフェノン類等があげられる。
の片面に後述する硬化樹脂からなる表面保護層7を形成
する。上記表面保護層7のベースとなる硬化樹脂として
は光硬化型、熱硬化型、湿気硬化型等種々の硬化型の樹
脂が用いられるが、紫外線硬化型樹脂が好適に使用され
る。紫外線硬化型樹脂としてはアクリル系、エポキシ
系、ウレタン系等が挙げられ、特にアクリル系紫外線硬
化型樹脂が好適に使用される。該アクリル系紫外線硬化
型樹脂には重合性オリゴマー、モノマ、光重合性開始剤
及び増感剤を含有してもよい。該重合性オリゴマーとし
てはアクリル酸エステル、メタクリル酸エステルの二重
結合、アクリロイル基、メタクリロイル基の官能基を含
んだオリゴマーが使用され、ベースオリゴマーの主鎖構
造としてはポリエステル系、ポリエーテル系、ウレタン
系、エポキシ系、アクリル系、ポリチオール系、ポリイ
ミド系等挙げられる。具体的にはポリエステルアクリレ
ート、ポリエーテルアクリレート、ポリウレタンアクリ
レート、エポキシアクリレート、ポリブタジェンアクリ
レート等の重合性オリゴマーが好適に用いられる。光重
合開始剤としてはベンゾインエーテル類、ベンゾフェノ
ン類、アセトフェノン類等があげられる。
【0011】本発明においては、上記紫外線硬化型樹脂
の塗料、例えば重合性オリゴマー、モノマー、光重合開
始剤及び増感剤、所望により溶媒を含有する塗料を直接
或いは該塗料に導電性フィラー又は帯電防止剤を溶解又
は懸濁させて練り込んだものを上記基板表面に塗布した
後、紫外線照射して重合反応させて硬化樹脂を形成させ
る。上記硬化樹脂の塗布は、基板表面にスピンコート、
ディッピング、スプレーコート、グラビア塗布等の公知
の方法が採用できる。上記硬化樹脂の粘度としては通常
1〜10cpsの範囲である。
の塗料、例えば重合性オリゴマー、モノマー、光重合開
始剤及び増感剤、所望により溶媒を含有する塗料を直接
或いは該塗料に導電性フィラー又は帯電防止剤を溶解又
は懸濁させて練り込んだものを上記基板表面に塗布した
後、紫外線照射して重合反応させて硬化樹脂を形成させ
る。上記硬化樹脂の塗布は、基板表面にスピンコート、
ディッピング、スプレーコート、グラビア塗布等の公知
の方法が採用できる。上記硬化樹脂の粘度としては通常
1〜10cpsの範囲である。
【0012】上記表面保護層7の膜厚としては通常0.
1〜30μmの範囲であり、その表面硬度としては鉛筆
硬度でH以上である。本発明においては上記した樹脂基
板の片面に表面保護層(トップコート層)7を設けた
後、該表面保護層7の設けられた側と反対側の基板面に
記録層2を形成する。記録層2としては上記した一般に
公知の光記録として用いられる層、構成のものが全て使
用可能であり、その層形成方法も公知の方法、例えば、
スパッタリング等の物理蒸着法(PVD)、プラズマC
VD等の化学蒸着法(CVD)、イオンプレーティング
等が採用可能である。PVD法にて上記記録層2を成膜
形成するには、所定の組成を有するターゲットを用いて
電子ビーム蒸着又はスパッタリングにより基板1上に記
録層2を堆積するのが通常の方法である。膜の堆積速度
は速すぎると膜応力を増加させ、遅すぎると生産性が低
下するので、通常0.1〜100Å/sec程度の範囲
で適宜決定される。
1〜30μmの範囲であり、その表面硬度としては鉛筆
硬度でH以上である。本発明においては上記した樹脂基
板の片面に表面保護層(トップコート層)7を設けた
後、該表面保護層7の設けられた側と反対側の基板面に
記録層2を形成する。記録層2としては上記した一般に
公知の光記録として用いられる層、構成のものが全て使
用可能であり、その層形成方法も公知の方法、例えば、
スパッタリング等の物理蒸着法(PVD)、プラズマC
VD等の化学蒸着法(CVD)、イオンプレーティング
等が採用可能である。PVD法にて上記記録層2を成膜
形成するには、所定の組成を有するターゲットを用いて
電子ビーム蒸着又はスパッタリングにより基板1上に記
録層2を堆積するのが通常の方法である。膜の堆積速度
は速すぎると膜応力を増加させ、遅すぎると生産性が低
下するので、通常0.1〜100Å/sec程度の範囲
で適宜決定される。
【0013】
実施例1 中央に直径15mmの孔を有する直径130mmφ、板
厚さ1.2mmの案内溝付き円形平板状のポリカーボネ
ート樹脂製基板を射出成形で得た後、直ぐに、その片面
上にUV硬化型オーバコート剤(アクリル系UV硬化型
樹脂)をスピンコーターを用いて塗布し、紫外線照射し
て硬化させ、厚さ1.0μmの表面保護膜を得た。次い
で該保護膜の形成された面と反対側の基板面上に記録膜
(250〜300ÅのTe等の低融点金属からなるライ
トワンス型記録層)をスパッタ装置で成膜して光記録媒
体を製造した。
厚さ1.2mmの案内溝付き円形平板状のポリカーボネ
ート樹脂製基板を射出成形で得た後、直ぐに、その片面
上にUV硬化型オーバコート剤(アクリル系UV硬化型
樹脂)をスピンコーターを用いて塗布し、紫外線照射し
て硬化させ、厚さ1.0μmの表面保護膜を得た。次い
で該保護膜の形成された面と反対側の基板面上に記録膜
(250〜300ÅのTe等の低融点金属からなるライ
トワンス型記録層)をスパッタ装置で成膜して光記録媒
体を製造した。
【0014】上記方法で製造した光記録媒体100枚に
つき基板の表面欠陥を下記基準に基づき目視観察した結
果、1枚の欠陥品が見出された。(欠陥率1%)検査基
準:50μm以上の傷、異物、塗布ムラ等の欠陥のある
ものを欠陥品とする。
つき基板の表面欠陥を下記基準に基づき目視観察した結
果、1枚の欠陥品が見出された。(欠陥率1%)検査基
準:50μm以上の傷、異物、塗布ムラ等の欠陥のある
ものを欠陥品とする。
【0015】比較例1 実施例1においてまず基板にスパッタ装置で記録層を設
けた後、保護層を形成させたこと以外は同様にして光記
録媒体を製造した。その結果光記録媒体100枚中に基
板表面欠陥品10枚が見出された。(欠陥率10%)
けた後、保護層を形成させたこと以外は同様にして光記
録媒体を製造した。その結果光記録媒体100枚中に基
板表面欠陥品10枚が見出された。(欠陥率10%)
【0016】
【発明の効果】本発明の方法によれば、基板成形後にま
ず保護層を形成するので、記録層等を形成するためのハ
ンドリング時にホコリ等の付着が少なくなり、また、ホ
コリ等の付着があっても基板に傷をつけることなく拭う
ことが可能となる等光記録媒体の歩止まりの向上に大き
く役立つ。
ず保護層を形成するので、記録層等を形成するためのハ
ンドリング時にホコリ等の付着が少なくなり、また、ホ
コリ等の付着があっても基板に傷をつけることなく拭う
ことが可能となる等光記録媒体の歩止まりの向上に大き
く役立つ。
【図1】光記録媒体の一例の断面図
【図2】光記録媒体の一例の断面図
【図3】光記録媒体の一例の断面図
1 基板 2 記録層 3 スペーサ 4 空気層 5 接着層 6 被覆層 7 表面保護層
Claims (1)
- 【請求項1】 基板上に硬化樹脂からなる表面保護層を
設けた後に、該表面保護層の設けられた側と反対側の基
板面上に記録層を形成することを特徴とする光記録媒体
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24780992A JPH06124486A (ja) | 1992-09-17 | 1992-09-17 | 光記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24780992A JPH06124486A (ja) | 1992-09-17 | 1992-09-17 | 光記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06124486A true JPH06124486A (ja) | 1994-05-06 |
Family
ID=17168988
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24780992A Pending JPH06124486A (ja) | 1992-09-17 | 1992-09-17 | 光記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06124486A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007234095A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Victor Co Of Japan Ltd | 光ディスク製造方法及び光ディスク製造装置 |
-
1992
- 1992-09-17 JP JP24780992A patent/JPH06124486A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007234095A (ja) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Victor Co Of Japan Ltd | 光ディスク製造方法及び光ディスク製造装置 |
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