JPH01310357A - 電子写真感光体の再利用方法 - Google Patents

電子写真感光体の再利用方法

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JPH01310357A
JPH01310357A JP63140842A JP14084288A JPH01310357A JP H01310357 A JPH01310357 A JP H01310357A JP 63140842 A JP63140842 A JP 63140842A JP 14084288 A JP14084288 A JP 14084288A JP H01310357 A JPH01310357 A JP H01310357A
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JP
Japan
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layer
organic
sensitive body
electrophotographic sensitive
sic
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JP63140842A
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Takao Kawamura
河村 孝夫
Akinori Iwasaki
彰典 岩崎
Naooki Miyamoto
宮本 直興
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Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Publication date
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    • G03G5/02Charge-receiving layers
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    • G03G5/05Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G03G5/0525Coating methods
    • GPHYSICS
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    • G03G5/08214Silicon-based
    • G03G5/08221Silicon-based comprising one or two silicon based layers

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はアモルファスシリコンカーバイド光導電層と有
機光半導体層を積層して成る電子写真感光体の再利用方
法に関するものである。
〔従来技術及びその問題点〕
電子写真感光体の光導電材料には、Se、 5e−Te
As□S 、s、ZnO,CdS、アモルファスシリコ
ンなどの無機材料と各種有機材料がある。そのなかで最
初に実用化されたものはSeであり、次いで、ZnO,
CdS、アモルファスシリコンも実用化された。また、
有機材料ではPVK−TNFが最初に実用化され、その
後、電荷の発生並びに電荷の輸送という機能を別々の有
機光半導体層に分担させるという機能分離型感光体が提
案され、この感光体によって有機材料の開発が飛躍的に
発展している。
一方、無機光半導体層の上に有機光半導体層を積層した
電子写真感光体も提案された。
例えば、特開昭56−14214号公報にはアモルファ
スシリコンカーバイド光導電層と有機光半導体層から成
る積層型感光体が提案されている。
しかし乍ら、上記感光体を長期間に亘って使用した場合
、画像濃度の低下、白地部のカプリ、解像力の低下、画
像ボケ、あるいは白抜け、黒ポチ、スジ等の種々の不均
一ノイズなどの画質の劣化が認められる。
この劣化原因は、感光体の一部に有機光半導体層を形成
しており、そのため、下記(1)〜(6)が生じるため
である。
(1)・・・繰り返し使用による光、熱、電流、また、
コロナ放電により発生するオゾン 、NOX等の活性物質などが原因となる有機光半導体組
成物の劣化 (2)・・・温度、湿度などの環境条件や長期保存によ
る有機光半導体層の劣化や変質、 ヒビ割れ等の物理的劣化 (3)・・・現像、転写工程でのトナーフィルミングや
紙粉などの付着 (4)・・・空気中の汚染物質の付着 (5)・・・紙、クリーニングブレードなどとの摩擦に
よる感光体表面の摩耗や傷 (6)・・・コロナ放電による放電破壊〔発明の目的〕 本発明者等は上記事情に鑑みて鋭意研究に努めた結果、
上記積層型感光体のアモルファスシリコンカーバイド光
導電層(以下、アモルファスシリコンカーバイドをa−
SiCと略す)を、そのままに残し、そして、劣化した
有機光半導体層を、新たな有機光半導体層と取り替える
ことにより再利用ができることを見い出した。
従って、本発明は上記知見により完成されたものであり
、その目的は劣化した電子写真感光体の一部を取り替え
、これにより、電子写真感光体を廃棄処分することなく
有効に利用し、製造コスト及び製造効率を改善すること
にある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明に係る電子写真感光体の再利用方法は、導電性基
板上にa−SiC光導電層と有機光半導体層が順次積層
された電子写真感光体より有機溶剤を用いて上記有機光
半導体層を除去し、次いで、上記a−5iC光導’xi
O上に再度有機光半導体層を形成して電子写真感光体と
成すことを特徴とする。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明においては、上記の通り、有機溶剤を用いて有機
光半導体層を溶解除去し、次いで、従来周知の方法によ
り再度有機光半導体層を形成するという再利用方法が特
徴である。
しかも、この再利用方法において、有機光半導体層の下
地層としてa−SiC光導電層を選んだ点も特徴である
即ち、高硬度な特性をもつa−SiC層を光導電層とし
て用いた場合、他の光導電材料に比べ、傷がつかず、そ
のため、有機光半導体層の溶解除去並びに再形成のプロ
セスにおいて、そのa−SiC光導電層の表面平滑性が
維持され、その結果、電子写真感光体の特性が劣化しな
い。
本発明に係る電子写真感光体の基本的層構成は添付図面
の通りである。
同図によれば、導電性基板(1)の上にa−3iC光導
電層(2)及び有機光半導体層(3)が順次積層されて
いる。そして、a−SiC光導電層(2)には電荷発生
という機能があり、他方の有機光半導体N(3)には電
荷輸送という機能がある。
本発明によれば、上記a−SiC光導電層(2)の元素
比率を下記の通りの範囲内に設定した場合、その層(2
)自体の光感度を顕著に高めることができる。
組成式:  (Sl+−11Cx ) +−y A y
 (但しAは水素又はハロゲン) 0.05 < x < 0.5、好適には0.1 < 
x < 0.40.2 < V < 0.5 、好適に
は0.25 < y < 0.45上記X値が0.05
以下の場合には短波長側の光感度が高められず、X値が
0.5以上の場合には光導電性が著しく低くなり、光キ
ャリアの励起機能が低下する。
また、y値が0.2以下の場合には暗導電率が大きくな
る傾向にあり、しかも、光導電率が低下傾向にあり、そ
のために所望通りの光導電性が得られず、y値が0.5
以上の場合にはa−SiCliの内部応力が増大し、基
板との密着性が劣化して剥離し易くなる。
また、上記a−3iC光導電層(2)には水素(H)元
素やハロゲン元素がダングリングボンド終端用に含有さ
れているが、これらの元素のなかで!1元素が終端部に
取り込まれ易く、これによってバンドギャップ中の局在
準位密度が低減化されるという点で望ましい。
a−3iC光導電層(2)の厚みは0.05〜5 pr
s 、好適には0.1〜3μmの範囲内に設定すればよ
く、この範囲内であれば、高い光感度が得られ、残留電
位が低くなる。
前記基板(1)には銅、黄銅、SO5、AI等の金属導
電体、或いはガラス、セラミックス等の絶縁体の表面に
導電体薄膜をコーティングしたものがあり、就中、AI
がコスト面並びにa−SiC層との密着性という点で有
利である。
また、本発明に係る電子写真感光体は有機光半導体層(
3)の材料選択により負帯電型又は正帯電型に設定する
ことができる。即ち、負帯電型電子写真感光体の場合、
有機光半導体層(3)に電子供与性化合物が選ばれ、一
方、正帯電型電子写真感光体の場合には有機光半導体層
(3)に電子吸引性化合物が選ばれる。
電子供与性化合物には高分子量のものとして、ポリ−N
−ビニルカルバゾール、ポリビニルピレン、ポリビニル
アントラセン、ピレンへホルムアルデヒド縮重合体など
があり、また、低分子量のものとしてオキサジアゾール
、オキサゾール、ピラゾリン、トリフェニルメタン、ヒ
ドラゾン、トリアリールアミン、N−フェニルカルバゾ
ール、スチルベンなどがあり、この低分子物質は、ポリ
カーボネート、ポリエステル、メタアクリル樹脂、ポリ
アミド、アクリルエポキシ、ポリエチレン、フェノール
、ポリウレタン、ブチラール樹脂、ポリ酢酸ビニル、ユ
リア樹脂などのバインダに分散されて用いられる。
電子吸引性化合物には、2.4.7− トリニトロフル
オレンなどがある。
次に本発明に係る電子写真感光体の製法を述べる。
a−SiC層を形成するにはグロー放電分解法、イオン
ブレーティング法、反応性スパッタリング法、真空蒸着
法、CVO法などの薄膜形成方法がある。
グロー放電分解法を用いる場合、Si元素含有ガスとC
元素含有ガスを組合せ、この混合ガスをプラズマ分解し
て成膜形成する。このSi元素含有ガスにはSt Ha
 + 5fzll&+ St 1lls + StF 
a + 5tC1415iHCh等々があり、また、C
元素含有ガスにはCH4,CtH4,CtH□、C,H
,等々があり、就中、CzHzは高速成膜性が得られる
という点で望ましい。
°上述した通りに薄膜形成方法を用いてa−SiC層を
形成すると、次に有機光半導体層を形成する。
有機光半導体層は浸漬塗工方法又はコーティング法によ
り形成され、前者は感光材が溶媒中に分散された塗工液
の中に浸漬し、次いで、一定な速度で引上げ、そして、
自然乾燥及び熱エージング(約150℃、約1時間)を
行うという方法であり、また、後者のコーティング法に
よれば、コーター(塗機)を用いて、溶媒に分散された
感光材を塗布し、次いで熱風乾燥を行う。
かくして得られた電子写真感光体を使用した場合、有機
光半導体N(3)の劣化は避けられず、そのため、この
感光体を再利用するに当たって、その有機光半導体層(
3)を有機溶剤により除去する。
この除去方法には浸漬、超音波洗浄、ブラッシング洗浄
などがある。
この有機溶剤は、有機光半導体層を溶解できるものであ
ればよく、例えばトリクロールエチレン、トリクロール
エタン、パークロルエチレン、メチレンクロライドなど
がある。
そして、有機光半導体層(3)を除去し、a−3iC光
導電層(2)をそのままに残した感光体に対して、再度
、前記同じ方法により有機光半導体1! (3)を形成
すると、所要通りの特性をもつ電子写真感光体が再び得
られる。
〔発明の効果〕
以上の通り、本発明による電子写真感光体の再利用方法
によれば、廃棄処分すべき電子写真感光体を再び使用す
ることができ、しかも、もう−度初期の優れた電子写真
特性が得られ、これにより、省エネルギ化に適した電子
写真感光体が提供できる。
また、本発明に係る再利用方法によれば、有機光半導体
の溶解除去並びに再度の形成により容易に電子写真感光
体を製作することができ、これにより、製造コスト及び
製造効率を改善することができる。
【図面の簡単な説明】
添付図面は本発明に係る電子写真感光体の基本的層構成
を示す断面図である。 l・・導電性基板 2・・アモルファスシリコンカーバイド光導電層3・・
有機光半導体層 特許出願人 (663)京セラ株式会社代表者 安城 
欽寿 同   河村孝夫

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 導電性基板上にアモルファスシリコンカーバイド光導電
    層と有機光半導体層が順次積層された電子写真感光体よ
    り有機溶剤を用いて上記有機光半導体層を除去し、次い
    で、上記アモルファスシリコンカーバイド光導電層の上
    に再度有機光半導体層を形成して電子写真感光体と成す
    ことを特徴とする電子写真感光体の再利用方法。
JP63140842A 1988-06-08 1988-06-08 電子写真感光体の再利用方法 Pending JPH01310357A (ja)

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5593078A (en) * 1979-01-01 1980-07-15 Nippon Signal Co Ltd:The Wheel detector
JPS6018444A (ja) * 1983-07-13 1985-01-30 日本信号株式会社 車輪検知装置
JPS6094866A (ja) * 1983-10-28 1985-05-28 新日本製鐵株式会社 車種判別装置

Patent Citations (3)

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