JPH01312504A - レーザ反射鏡の製造方法 - Google Patents
レーザ反射鏡の製造方法Info
- Publication number
- JPH01312504A JPH01312504A JP14528788A JP14528788A JPH01312504A JP H01312504 A JPH01312504 A JP H01312504A JP 14528788 A JP14528788 A JP 14528788A JP 14528788 A JP14528788 A JP 14528788A JP H01312504 A JPH01312504 A JP H01312504A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- reflecting mirror
- mirror
- reflector
- molybdenum
- Prior art date
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- Pending
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
この発明は、Ｃ０２レーザ、ＣＯレーザなどの赤外レー
ザに用いられるレーザ反射鏡の製造方法に関するもので
ある。
ザに用いられるレーザ反射鏡の製造方法に関するもので
ある。
［関連の技術および発明が解決しようとする課題］赤外
レーザ用反射鏡に用いられる材料としては、従来よりＣ
ｕ ｓ Ｍ ｏおよびＡｆＬなどが用いられてきている
。これらの材料の中でも、Ａ【は、軽量で、かつ被加工
性が良く、超精密切削加工が可能であるという長所を有
している。反面、硬度が低く、非常に表面が軟らかいの
で、表面に付着したごみ等をクリーニングする際に、表
面を傷つけてしまうという欠点を有している。
レーザ用反射鏡に用いられる材料としては、従来よりＣ
ｕ ｓ Ｍ ｏおよびＡｆＬなどが用いられてきている
。これらの材料の中でも、Ａ【は、軽量で、かつ被加工
性が良く、超精密切削加工が可能であるという長所を有
している。反面、硬度が低く、非常に表面が軟らかいの
で、表面に付着したごみ等をクリーニングする際に、表
面を傷つけてしまうという欠点を有している。
一方、Ｍｏは他の材料に比べ硬度が高いので、表面に付
着したごみ等をブラシ等で落しても表面に傷を付けるこ
とがないという長所を有しているが、比重が１０．２２
と重たいため、レーザ加工機の移動ヘッドに応用した場
合、駆動系への負担が大きくなり、作業性が悪いという
欠点を有している。
着したごみ等をブラシ等で落しても表面に傷を付けるこ
とがないという長所を有しているが、比重が１０．２２
と重たいため、レーザ加工機の移動ヘッドに応用した場
合、駆動系への負担が大きくなり、作業性が悪いという
欠点を有している。
そこで、ＡＩの反射鏡の鏡面の上にＭｏ薄膜を形成し表
面の硬度を高めて傷つきを防止し、軽量でしかも超精密
切削加工の可能なレーザ反射鏡にすることが考えられる
。
面の硬度を高めて傷つきを防止し、軽量でしかも超精密
切削加工の可能なレーザ反射鏡にすることが考えられる
。
しかしながら、Ａｉの熱膨張係数は２２．４Ｘ１０−６
であり、Ｍｏの熱膨張係数は５．ｌＸ１０−６であるの
で、両者の熱膨張係数は大きく相違する。このため、蒸
着によりＡｆＬの反射鏡基板の鏡面の上にＭｏ薄膜を形
成すると、薄膜の付着力が弱く、薄膜の剥がれや割れを
生じゃすい〇さらに、蒸着によりＭｏ薄膜を析出させる
と、析出する結晶の粒径が大きく、所望の硬度のＭ。
であり、Ｍｏの熱膨張係数は５．ｌＸ１０−６であるの
で、両者の熱膨張係数は大きく相違する。このため、蒸
着によりＡｆＬの反射鏡基板の鏡面の上にＭｏ薄膜を形
成すると、薄膜の付着力が弱く、薄膜の剥がれや割れを
生じゃすい〇さらに、蒸着によりＭｏ薄膜を析出させる
と、析出する結晶の粒径が大きく、所望の硬度のＭ。
薄膜を得ることができない。また、析出する結晶の粒径
が大きいため、均一な薄膜を形成することが難しく、反
射鏡基板表面の鏡面状態が維持されず、薄膜を形成する
ことによって鏡面が荒れてしまう。
が大きいため、均一な薄膜を形成することが難しく、反
射鏡基板表面の鏡面状態が維持されず、薄膜を形成する
ことによって鏡面が荒れてしまう。
この発明の目的は、強い付着力で反射鏡基板上に均一な
モリブデン薄膜を形成することのできるレーザ反射鏡の
製造方法を提供することにある。
モリブデン薄膜を形成することのできるレーザ反射鏡の
製造方法を提供することにある。
［課題を解決するための手段および作用］この発明の製
造方法では、アルミニウムまたはアルミニウムを主成分
とする合金からなる鏡面加工された反射鏡基板の鏡面に
、モリブデン薄膜をイオンブレーティング法により形成
してレーザ反射鏡を製造している。
造方法では、アルミニウムまたはアルミニウムを主成分
とする合金からなる鏡面加工された反射鏡基板の鏡面に
、モリブデン薄膜をイオンブレーティング法により形成
してレーザ反射鏡を製造している。
イオンブレーティング法は、蒸発原子をイオン化させ、
バイアス電圧をかけ加速して基板へ衝突させて薄膜を形
成する方法である。この発明に従い、イオンブレーティ
ング法で薄膜を形成させれば、付着強度の大きい薄膜が
形成され、また均一な厚みの薄膜を形成することができ
る。
バイアス電圧をかけ加速して基板へ衝突させて薄膜を形
成する方法である。この発明に従い、イオンブレーティ
ング法で薄膜を形成させれば、付着強度の大きい薄膜が
形成され、また均一な厚みの薄膜を形成することができ
る。
また蒸着で形成した薄膜に比べ結晶粒径が小さいことか
ら、Ｍｏ薄膜本来の高い硬度（Ｈｖ −２５０）を有す
るものが得られる。
ら、Ｍｏ薄膜本来の高い硬度（Ｈｖ −２５０）を有す
るものが得られる。
特に、真空度ｌＸｌ０−’Ｔｏｒｒ以上、イオン化電圧
２０〜５０Ｖ１基板バイアス電圧０．７〜２ｋＶ蒸着速
度２〜５０人／秒、基板温度室温〜４００℃の条件下で
薄膜を作製した場合に以上述べた特性において優れた薄
膜が得られる。
２０〜５０Ｖ１基板バイアス電圧０．７〜２ｋＶ蒸着速
度２〜５０人／秒、基板温度室温〜４００℃の条件下で
薄膜を作製した場合に以上述べた特性において優れた薄
膜が得られる。
［実施例］
超精密旋盤によって切削し鏡面加工したアルミニウム反
射鏡基板の上にモリブデン薄膜を以下のようにして形成
した。純度９９．９９％のモリブデン焼結体を原料にし
て、真空度ｌＸｌ０−６Ｔｏｒｒ、イオン化電圧２０Ｖ
電流３６Ａ、基板バイアス電圧１．５ｋＶ電流０．０７
Ａ、薄膜成長速度９．９Ａ／秒の条件で、アルミニウム
反射鏡基板の上に厚み約１０μｍのモリブデン薄膜を形
成した。
射鏡基板の上にモリブデン薄膜を以下のようにして形成
した。純度９９．９９％のモリブデン焼結体を原料にし
て、真空度ｌＸｌ０−６Ｔｏｒｒ、イオン化電圧２０Ｖ
電流３６Ａ、基板バイアス電圧１．５ｋＶ電流０．０７
Ａ、薄膜成長速度９．９Ａ／秒の条件で、アルミニウム
反射鏡基板の上に厚み約１０μｍのモリブデン薄膜を形
成した。
薄膜を形成して得られた反射鏡の反射率を測定したとこ
ろ９８．２％であり、モリブデンの材料の反射鏡の反射
率とほぼ同じであることがわかった。また、鏡面の硬度
を測定したところ、２５０Ｈｋであり、本来のモリブデ
ンの硬さ２５０Ｈｋと同じ硬度を有していることがわか
った。ピンセットによる引掻き強度テストを行なったと
ころ、モリブデン薄膜を形成する前のアルミニウム反射
鏡基板では傷が付いたのに対し、この発明に従いモリブ
デン薄膜が形成されたレーザ反射鏡ではほとんど傷が付
かないことがわかった。また、アルコールを含ませたガ
ーゼで鏡面を拭き取りクリーニングの試験を行なったと
ころ、全く傷が付かなかった。
ろ９８．２％であり、モリブデンの材料の反射鏡の反射
率とほぼ同じであることがわかった。また、鏡面の硬度
を測定したところ、２５０Ｈｋであり、本来のモリブデ
ンの硬さ２５０Ｈｋと同じ硬度を有していることがわか
った。ピンセットによる引掻き強度テストを行なったと
ころ、モリブデン薄膜を形成する前のアルミニウム反射
鏡基板では傷が付いたのに対し、この発明に従いモリブ
デン薄膜が形成されたレーザ反射鏡ではほとんど傷が付
かないことがわかった。また、アルコールを含ませたガ
ーゼで鏡面を拭き取りクリーニングの試験を行なったと
ころ、全く傷が付かなかった。
比較として、蒸着によりモリブデン薄膜をアルミニウム
反射鏡基板の上に形成したものを作製した。この発明に
従いモリブデン薄膜を形成したものは薄膜の剥離や割れ
が全く観察されなかったが、この比較のものは、モリブ
デン薄膜の剥離や割れが観察された。
反射鏡基板の上に形成したものを作製した。この発明に
従いモリブデン薄膜を形成したものは薄膜の剥離や割れ
が全く観察されなかったが、この比較のものは、モリブ
デン薄膜の剥離や割れが観察された。
この発明に従い上述の実施例で得られた反射鏡を、ＣＯ
２レーザに対して使用したところ、従来の金を蒸着させ
た銅反射鏡と同様の高い反射率を示した。また、溶接材
料の跳返り等により鏡面に強く付着した異物やごみは、
ナイロンブラシによって鏡面に傷つけることなく除去す
ることができた。
２レーザに対して使用したところ、従来の金を蒸着させ
た銅反射鏡と同様の高い反射率を示した。また、溶接材
料の跳返り等により鏡面に強く付着した異物やごみは、
ナイロンブラシによって鏡面に傷つけることなく除去す
ることができた。
さらに、この実施例の反射鏡を、ＣＯ□レーザ加工機の
ヘッドに取付けたところ、３軸制御用サーボモータにか
かる負荷は従来の全蒸着銅反射鏡ニ比べ３０％減少し、
このため駆動初期の立上がりからの制御性が向上し、位
置精度が２０％向上した。
ヘッドに取付けたところ、３軸制御用サーボモータにか
かる負荷は従来の全蒸着銅反射鏡ニ比べ３０％減少し、
このため駆動初期の立上がりからの制御性が向上し、位
置精度が２０％向上した。
なお、この実施例ではアルミニウムの反射鏡基板につい
て説明したが、アルミニウムを主成分とする合金からな
る反射鏡基板においても同様に、この発明の効果が発揮
される。
て説明したが、アルミニウムを主成分とする合金からな
る反射鏡基板においても同様に、この発明の効果が発揮
される。
［発明の効果］
以上説明したように、この発明によれば、イオンブレー
ティング法によりモリブデン薄膜をアルミニウムまたは
アルミニウムを主成分とする合金からなる反射鏡基板の
鏡面に形成させるため、この発明により得られるレーザ
反射鏡の鏡面は高い硬度を有しており、傷が付きにくく
、長期間使用することができる。さらにまた、軽量であ
るので、サーボモータへの負荷が少なく、装置全体のコ
ンパクト化および高精度化を図ることができる。
ティング法によりモリブデン薄膜をアルミニウムまたは
アルミニウムを主成分とする合金からなる反射鏡基板の
鏡面に形成させるため、この発明により得られるレーザ
反射鏡の鏡面は高い硬度を有しており、傷が付きにくく
、長期間使用することができる。さらにまた、軽量であ
るので、サーボモータへの負荷が少なく、装置全体のコ
ンパクト化および高精度化を図ることができる。
Claims (1)
- （１）アルミニウムまたはアルミニウムを主成分とする
合金からなる鏡面加工された反射鏡基板の鏡面に、モリ
ブデン薄膜を形成してレーザ反射鏡を製造する方法にお
いて、 前記モリブデン薄膜をイオンブレーティング法により形
成することを特徴とする、レーザ反射鏡の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14528788A JPH01312504A (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | レーザ反射鏡の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14528788A JPH01312504A (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | レーザ反射鏡の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01312504A true JPH01312504A (ja) | 1989-12-18 |
Family
ID=15381651
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14528788A Pending JPH01312504A (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | レーザ反射鏡の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01312504A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03171001A (ja) * | 1989-11-30 | 1991-07-24 | Toshiba Corp | 反射鏡 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5652701B2 (ja) * | 1973-11-06 | 1981-12-14 | ||
| JPH01300203A (ja) * | 1988-05-27 | 1989-12-04 | Sumitomo Electric Ind Ltd | レーザ反射鏡 |
-
1988
- 1988-06-13 JP JP14528788A patent/JPH01312504A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5652701B2 (ja) * | 1973-11-06 | 1981-12-14 | ||
| JPH01300203A (ja) * | 1988-05-27 | 1989-12-04 | Sumitomo Electric Ind Ltd | レーザ反射鏡 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03171001A (ja) * | 1989-11-30 | 1991-07-24 | Toshiba Corp | 反射鏡 |
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