JPH01318288A - 多層配線基板 - Google Patents
多層配線基板Info
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- JPH01318288A JPH01318288A JP15169788A JP15169788A JPH01318288A JP H01318288 A JPH01318288 A JP H01318288A JP 15169788 A JP15169788 A JP 15169788A JP 15169788 A JP15169788 A JP 15169788A JP H01318288 A JPH01318288 A JP H01318288A
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- Pending
Links
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Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明は、多層配線基板に関するものである。
さらに詳しくは、この発明は、耐酸性を向上させた多層
配線基板に関するものである。
配線基板に関するものである。
(従来の技術)
計算機、通信機器、電子機器等に用すられる配線基板に
つ−ては、高密度実装の傾向にあり、多層配線基板に対
する需要が高まってきている。
つ−ては、高密度実装の傾向にあり、多層配線基板に対
する需要が高まってきている。
このような多層配線基板としては、たとえば第2図に示
したように、回路(7)を存する内層材(イ)の上下の
両面にガラスクロスに樹脂を含浸させた樹脂含浸基材(
つを配設し、金属箔に)を有する外層材(2)を配して
積層一体化したものが知られてbる。
したように、回路(7)を存する内層材(イ)の上下の
両面にガラスクロスに樹脂を含浸させた樹脂含浸基材(
つを配設し、金属箔に)を有する外層材(2)を配して
積層一体化したものが知られてbる。
この多層配線基板につ論では、第2図に示したように積
層一体化した後にドリル、パンチ等によって穴あけ加工
し、スルホールメリキしてメ噌キ層(h)を形成してb
る。
層一体化した後にドリル、パンチ等によって穴あけ加工
し、スルホールメリキしてメ噌キ層(h)を形成してb
る。
しかしながら、配線基板の高密度化と高速化への要求が
高まるにつれてその信頼性に注意が払われるようになっ
た結果、多層配線基板の穴あけ加工による衝撃によって
樹脂含浸基材(ヴの内層材接触部にマイクロクラ噌りが
発生し、このクラ9りにはメ噌キ加工時のメリキ液が侵
入し、内層材(,4)の回路(7)を侵食することが新
たな問題として浮上してきている。
高まるにつれてその信頼性に注意が払われるようになっ
た結果、多層配線基板の穴あけ加工による衝撃によって
樹脂含浸基材(ヴの内層材接触部にマイクロクラ噌りが
発生し、このクラ9りにはメ噌キ加工時のメリキ液が侵
入し、内層材(,4)の回路(7)を侵食することが新
たな問題として浮上してきている。
(発明が解決しようとする課題)
この発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたもので
あり、従来は特段の注意を払ってこなかった多層配線基
板の内層材に設けた回路のメ、ツキ液による侵食を防止
し、信頼性の高論多層配線基板を提供することを目的と
してbる。
あり、従来は特段の注意を払ってこなかった多層配線基
板の内層材に設けた回路のメ、ツキ液による侵食を防止
し、信頼性の高論多層配線基板を提供することを目的と
してbる。
(a題を解決するための手段)
この発明の多層配線基板は、上記の課題を解決するため
に、内層材の上下の面に樹脂含浸基材を介在させて外層
材を配設−像化してなる多層配線基板において、穴あけ
加工後、更に後硬化(アフター!fニア)させてなるこ
とを特徴としている。
に、内層材の上下の面に樹脂含浸基材を介在させて外層
材を配設−像化してなる多層配線基板において、穴あけ
加工後、更に後硬化(アフター!fニア)させてなるこ
とを特徴としている。
この発明の多層配線基板の要部を拡大して示したものが
@1図である。この第1図に示したように、内層材(1
)の上下の面には銅等の金属箔から形成した回路(2)
を設けており、この回路(2)を有する内層材(1)の
上下の面には樹脂含浸基材(3)を配設して−る。この
配設に際して、この発明におりては、たトエハガラスク
ロス、ガラスマット、紙などからなる基材(4)に含浸
させたエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂
、ポリエステル樹脂等の樹脂(5)の配設−像化後の樹
脂の硬化度は100憾であり、穴あけ加工後、更に後硬
化させて樹脂の完全、均一な100 %硬化を狙す耐酸
性を向上させるものである。
@1図である。この第1図に示したように、内層材(1
)の上下の面には銅等の金属箔から形成した回路(2)
を設けており、この回路(2)を有する内層材(1)の
上下の面には樹脂含浸基材(3)を配設して−る。この
配設に際して、この発明におりては、たトエハガラスク
ロス、ガラスマット、紙などからなる基材(4)に含浸
させたエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂
、ポリエステル樹脂等の樹脂(5)の配設−像化後の樹
脂の硬化度は100憾であり、穴あけ加工後、更に後硬
化させて樹脂の完全、均一な100 %硬化を狙す耐酸
性を向上させるものである。
このようなこの発明の多層配線基板におりては、通常、
その内層材(1)としては、両面または片面金属張nt
層板を工9チング等によって表面に回路(2)を形成し
たものを用込る。しかもこの内層材(1)としては、樹
脂含浸基材(3)との接着性を向上させるため酸や酸化
剤で表面粗化処理(黒化処理)したものが好適に用いら
れる。
その内層材(1)としては、両面または片面金属張nt
層板を工9チング等によって表面に回路(2)を形成し
たものを用込る。しかもこの内層材(1)としては、樹
脂含浸基材(3)との接着性を向上させるため酸や酸化
剤で表面粗化処理(黒化処理)したものが好適に用いら
れる。
樹脂含浸基材(3)としては、上記のようにガラスクロ
ス、紙等の基材にエポキシ樹脂、ボ1)イミド樹脂、不
飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂等の樹脂フェス
を乾燥後の樹脂量が約50〜60重量冬程変となるよう
に含浸したものを使用するが、好ましくは襟数枚、たと
えば2〜3枚程度使用することが望まし論。この場合、
内層材【1)に接する樹脂含浸基材(3)については、
樹脂の付着量、すなわちレジン厚は20μm以上とする
ことも有利である。このための樹脂の含浸量は約50〜
60重量幅程度とするのが好ましい。
ス、紙等の基材にエポキシ樹脂、ボ1)イミド樹脂、不
飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂等の樹脂フェス
を乾燥後の樹脂量が約50〜60重量冬程変となるよう
に含浸したものを使用するが、好ましくは襟数枚、たと
えば2〜3枚程度使用することが望まし論。この場合、
内層材【1)に接する樹脂含浸基材(3)については、
樹脂の付着量、すなわちレジン厚は20μm以上とする
ことも有利である。このための樹脂の含浸量は約50〜
60重量幅程度とするのが好ましい。
また、この発明の配線基板の外層材としては、銅、アル
ミニウム等の金属箔や、片面金属張積層板の金属側を最
外層としたものを用いることができる。
ミニウム等の金属箔や、片面金属張積層板の金属側を最
外層としたものを用いることができる。
(作 用)
この発明の多層配線基板に’jll/にては、配設−像
化後、すなわち二次積層成形後の樹脂の硬化度をZoo
%とし、穴あけ加工後、更に後硬化させることにより
樹脂の完全、均一な硬化が達成でき、メ噌キ液の浸入に
よる回路(2)の浸食を抑制するものである。
化後、すなわち二次積層成形後の樹脂の硬化度をZoo
%とし、穴あけ加工後、更に後硬化させることにより
樹脂の完全、均一な硬化が達成でき、メ噌キ液の浸入に
よる回路(2)の浸食を抑制するものである。
次にこの発明の実施例を示し、さらに詳しくこの発明の
多層配線基板につbて説明する。もちろん、この発明は
以下の実施例によって限定されるものではない。
多層配線基板につbて説明する。もちろん、この発明は
以下の実施例によって限定されるものではない。
(実施例)
0、8 tml厚の両面銅張ガラスクロスエポキシ積層
板の両面をエツチングおよび黒化処理して内層材とした
。
板の両面をエツチングおよび黒化処理して内層材とした
。
これとは別に、ガラスクロスに下記配合からなる樹脂を
含浸させた。
含浸させた。
エポキシ樹脂 100(重量部)(エ
ピコート1001 : シェル化学)ジシアンジア
ミド 4 ベンジルジメチルアミン 0.2メチルオキシト
ール 100樹脂含浸ガラスクロスとしては
、厚み0.1fl、樹脂付着厚み5μmのガラスクロス
(樹脂量45重量%)を用Aた。さらに最外層には、享
み35μmの銅箔を配し、これからなる積層体を成形圧
力40 Kq/ci 、 tas℃で100分間加熱加
圧して4層の多層配線基板を得、該多層配線基板をドリ
ルによ−て穴あけ加工した後、更に150℃で60分間
後硬化させた。
ピコート1001 : シェル化学)ジシアンジア
ミド 4 ベンジルジメチルアミン 0.2メチルオキシト
ール 100樹脂含浸ガラスクロスとしては
、厚み0.1fl、樹脂付着厚み5μmのガラスクロス
(樹脂量45重量%)を用Aた。さらに最外層には、享
み35μmの銅箔を配し、これからなる積層体を成形圧
力40 Kq/ci 、 tas℃で100分間加熱加
圧して4層の多層配線基板を得、該多層配線基板をドリ
ルによ−て穴あけ加工した後、更に150℃で60分間
後硬化させた。
また、比較のために、後硬化させない以外は上記と同様
にして多層配線基板を製造した。
にして多層配線基板を製造した。
これらの多層配線基板について、ドリル穴あけ部のメー
Iキ液の侵入の大きさと、塩酸による腐食を評価した。
Iキ液の侵入の大きさと、塩酸による腐食を評価した。
その結果を示したものが表1である。
この表1から明らかなように、この発明の実施例の場合
には、メ噌キ液のしみ込みは少なく、かつ塩酸による回
路腐食は認められなかった。
には、メ噌キ液のしみ込みは少なく、かつ塩酸による回
路腐食は認められなかった。
表 1
(発明の効果)
この発明の多層配線基板においては、メ噌キ液の侵入に
よる回路浸食は着るしく抑制される。信頼性の高い多層
配線基板が実現される。
よる回路浸食は着るしく抑制される。信頼性の高い多層
配線基板が実現される。
第1図は、この発明の多層配線基板について示した要部
断面図である。 第2因は、従来の多層配線基板の例を示した部分断面図
である。 1・・・内層材 2・・・回路 3・・・樹脂含浸基材
4・・・基材 5・・・樹脂。 第1図 第2図
断面図である。 第2因は、従来の多層配線基板の例を示した部分断面図
である。 1・・・内層材 2・・・回路 3・・・樹脂含浸基材
4・・・基材 5・・・樹脂。 第1図 第2図
Claims (1)
- (1)内層材の上下面に樹脂含浸基材を介在させて多層
材を配設一体化してなる多層配線基板において、穴あけ
加工後、更に後硬化させてなることを特徴とする多層配
線基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15169788A JPH01318288A (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | 多層配線基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15169788A JPH01318288A (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | 多層配線基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01318288A true JPH01318288A (ja) | 1989-12-22 |
Family
ID=15524286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15169788A Pending JPH01318288A (ja) | 1988-06-20 | 1988-06-20 | 多層配線基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01318288A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01270396A (ja) * | 1988-04-22 | 1989-10-27 | Matsushita Electric Works Ltd | 多層配線基板 |
-
1988
- 1988-06-20 JP JP15169788A patent/JPH01318288A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01270396A (ja) * | 1988-04-22 | 1989-10-27 | Matsushita Electric Works Ltd | 多層配線基板 |
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