JPH01319496A - ウラシル誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、エイズの治療薬として使用されている１−（
２−デオキシ−３−アジド−β−Ｄ−リボフラノシル）
−５−エチルウラシル（以下Ｃ８−８５と言う）の合成
中間体として有用な従来の文献に未載の新規化合物及び
該化合物の新規な製法に関する。

更に詳しくは、本発明は、エイズの治療薬として使用さ
れている下記式（Ａ） α で表されるＣ５−８５の合成の際の中間体として有用な
新規な下記式（１） 式中、Ｒ１は水素原子、水酸基又は で表されるウラシル誘導体に関する。

（従来の技術） 従来、上記式（Ａ）のＣ５−８５を合成する方法として
は、例えば５−エチルウラシルを原料とし、該化合物を
無水酢酸と反応させＮ−１−アセチル−５−エチルウラ
シルを合成し、該化合物を酢酸第二水銀で処理してＮ−
１−アセチル−５−エチルウラシルのモノ水銀塩となし
、次いで該水銀塩を３，５−ジー０−（ｐ−クロロベン
ゾイル）−２−デオキシ−α、β−Ｄ−リボフラノシル
クロライドと反応させ１−［３，５−ジー０−（ｐ−ク
ロロベンゾイル）−２−デオキシ−α、β−Ｄ−リボフ
ラノシル］−６−エチルウラシルを形成せしめ、次にこ
のウラシルを塩基性のカラムクロマトグラフィーで脱ベ
ンゾイル化して２−デオキシ−α、β−Ｄ−リボフラノ
シルー５−エチルウラシルを形成させ、更に、該ウラシ
ルをベンゾイルクロライドと反応させ、５−０−ベンゾ
イル−５−エチル−２−デオキシウリジンを合成し、該
ウリジンをメシルクロライドで処理した後ソジウムアジ
ドと反応させ、その後酢酸で加水分解して線式（Ａ）の
化合物を得る方法が知られている（Ｊ、Ｍｅｄ、Ｃｈｅ
ｍ、］　９６９，１２，５３３〜５３４及びＪ、Ｍｅｄ
、Ｃｈｅｍ、１９Ｂ７゜３０．１２７０〜１２７８参照
）。

しかしながら、上記の方法は、反応の工程が長く、しか
も収率が低いという不利益があり、実用的な方法とは言
いがたい。従って、短い工程で且つ好収率に前記式（Ａ
）の化合物を製造する方法の開発が強く望まれている。

（発明が解決しようとする課題） 本発明の目的は、エイズの治療薬として有用な上記式（
Ａ）の化合物を合成するに際し、上記従来の提案と異な
り、短い製造工程でしかも好収率で前記式（Ａ）の化合
物を合成するのに有用な上記式（１）の新規中間体及び
その製造方法を提供することにある。

（ｉ！題を解決するための手段） 本発明者らは、上述の従来方法における不利益乃至欠点
を解消すべくＣ５−８５の合成について鋭意研究を行っ
てきた。その結果、市場で安価且つ容易に入手できるキ
シロースから容易に合成もしくは人手できるテトラアセ
チルキシロフラノース［下記式（５）コから合成するこ
とのできる本発明の上記式（１）の従来の文献未載の化
合物を使用すれば、上記式（Ａ）の化合物が好純度且つ
好収率でしかも工業的に簡単な操作で有利に合成できる
ことを見出し本発明を完成した。

しかして、本発明によれば、 （ａ）下記式（５） 式中、Ａｃはアセチル基を示す（以下同様）、で表され
るテトラアセチルキシロフラノースを、例えば無水塩化
第二錫の存在下に有機溶媒中で、下記式（４） 式中、Ｍｅはメチル基を示す（以下同様）、で表される
６−エチルビス（トリメチルシリル）ウラシルと反応さ
せて下記式（３ン で表される１−（２，３，５−トリー〇−アセチルキシ
ロフラノシル）−５−エチルウラシルを形成させ、 （ｂ）式（３）の化合物を塩基の存在下に加水分解して
下記式（２） で表されるｌ−β−Ｄ−キシロフラノシルー５−エチル
ウラシルを合成し、 （Ｃ）式（２）の化合物を酸の存在下にアセトンと反応
させることにより、上記式（Ａ）の化合物の合成中間体
として有用な本発明の前記式（１）に包含される下記式
（１）　−３ で表される１−（３，５−０−イソプロピリデン−β−
Ｄ−キシロフラノシル）−５−エチルウラシルを合成し
、 （ｄ）式（１）　−３の化合物をアセトニトリル中でク
ロロチオノ炭酸フェニル及び４−ジメチルアミノとリジ
ンの存在下に反応させることにより、上記式（Ａ）の化
合物の合成中間体として有用な本発明の式（１）に包含
される下記式（１）　−２で表される１−（２−０−フ
ェノキシチオカルボニル−３，５−０−イソプロピリデ
ン−β−Ｄ−キシ口フラノシル）−５−エチルウラシル
を合成し、 （ｅ）上記式（１）−２の化合物を有８１溶媒中でｎ−
）リブチルチンヒドライド及びアゾビスイソブチロニト
リルの存在下に反応させることにより、上記式（Ａ）の
化合物の合成中間体として有用な本発明の式（１）に包
含される下記式（１）　−１で表される１−く２−デオ
キシ−３，５−０−イソプロピリデン−β−Ｄ−キシロ
フラノシル）−５−エチルウラシルを合成し、 （ｆ）次いで、上記式（１）−１の化合物を溶媒中で酸
の存在下に加水分解させることにより下記式（Ｄ） で表される１−（２−デオキシ−β−Ｄ−キシロフラノ
シル）−５−エチルウラシルを合成し、（ｇ）上記式（
Ｄ）の化合物を有機溶媒中でベンゾイルハロゲン化物と
反応させることにより、上記式（Ａ）の化合物の合成中
間体として有用な下記式（Ｃ） 式中、Ｂｚはベンゾイル基を示す（以下同様）で表され
る１−（２−デオキシ−５−ベンゾイル−β、Ｄ−キシ
ロフラノシル）−５−エチルウラシルを合成し、 （ｈ）上記式（Ｃ）の化合物を有機溶媒中でメシチルハ
ロゲン化物と反応させ、次いで、溶媒の存在下にソジウ
ムアジドと反応することにより上記式（Ａ）の合成中間
体として有用な下記式（Ｂ）で表される１−（２−デオ
キシ−３−アジド−５−ベンゾイル−β、Ｄ−リボフラ
ノシル）−５−エチルウラシルを合成することができる
。

更に、上記式（Ｂ）の化合物をメタノールなどの有機溶
媒中でソジウムメチラートなどの塩基と反応させること
により、式（Ａ）の化合物を容易に合成することができ
る。

前記式（Ｄ）の化合物から前記式（Ａ）の化合物の製造
工程を含めて、前記式（５）の化合物から本発明の式（
１）の化合物を製造する方法を反応式で示すと、例えば
下記のとおりである。

反応式夏 ＋２１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　（１ノー３（１）−２（１＋−１ （ＤＪ　　　　　　　　　　　　　　［ＣＩ（ＢＪ　　
　　　　　　（Ａ。

註：　　ＡＩＯＮ＝（Ｍｅ）２Ｃ（ＣＮ）ＮＳＣ（ＣＮ
）（Ｍｅ）２前記式（Ａ）のＣ５−８５の合成中間体と
して有用な本発明の上記式（１）の化合物の製造方法を
、上記反応式■に従って以下にさらに詳細に説明する。

まず工程（ａ）における上記式（５）の化合物から上記
式（３）の化合物を合成する反応は、式（５）の化合物
を有機溶媒中、無水塩化第二錫の存在下に上記式（４）
の５−エチルビス（トリメチルシリル）ウラシルと反応
させることにより容易に行うことができる。

上記反応は採用する有機溶媒の種類によっても異なるが
、一般的には、約り℃〜５０℃程度の温度範囲で、約１
〜ｌＯ時間程度で行うことができる。

上記反応に使用する上記式（４）の５−エチルビス（ト
リメチルシリル）ウラシルの使用量には特別の制約はな
いが、通常上記式（５）の化合物１モルに対して、例え
ば、約１〜約１．６モル程度の範囲で用いられる。また
、触媒として使用される無水塩化第二錫の使用量も広い
範囲で変えることができるが、一般的は、例えば、上記
式（５）の化合物１モルに対して約１〜約１．５モル程
度の範囲が適当である。さらに、使用しつる有機溶媒は
、反応に対して不活性な溶媒であれば特に制約はなくい
ずれであってもよいが、通常はベンゼン、トルエン、１
，２−ジクロルエタン、ジクロルメタン、四塩化炭素な
どがしばしば使用される。

これら溶媒の使用量は適宜に選択することができ、例え
ば、式（５）の化合物に対して約５〜約５０重量倍程度
の使用量を好ましく挙げることができる。反応終了後は
、常法に従って生成物を中和、洗浄し、所望により例え
ば、カラムクロマトグラフィーのごとき手段で精製して
前記式（３）の化合物が得られる。

次に工程（ｂ）において、上記式（３）の化合物から上
記式（２）の化合物を合成するには、例えば、式（３）
の化合物をナトリウムエチラート、ナトリウムメチラー
トのごとき塩基と反応させることにより容易に行うこと
ができる。この反応に使用する塩基の使用量は触媒量で
充分であるが、その好適な使用量を具体的に示せば、例
えば式（３）の化合物１モルに対して約１／１００〜約
１／１０モル程度の範囲である。上述の如き塩基を使用
する場合は、反応系内で対応するアルカリ土類金属ナト
リウムとから調製してもよい０反応は使用されるアルコ
ールが還流する程度の温度で行われる０反応時間は、通
常２時間程度行えば充分である０反応終了後は、例えば
酸性のイオン交換樹脂のごとき酸で中和し、例えば再結
晶などの手段で精製して式（２）の化合物が好純度、好
収率で得られる。

次に工程（ｃ）では、上記式（２）の化合物を酸の存在
下にアセトンと反応させて、本発明の上記式（１）に包
含される上記式（１）−３の１−（３，５−０−イソプ
ロピリデン−β−Ｄ−キシロフラノシル）−５−エチル
ウラシルを合成することができる０反応は室温程度の温
度で約３時間程度行えば充分である。この反応に使用し
うる酸としては、例えばｐ−）ルエンスルホン酸、塩酸
、硫酸などのごとき酸が使用できる。これら酸の使用量
は触媒量程度で充分であり、例えば、上記式（２）の化
合物に対して約１／１０（ｌｊｌ１％程度使用すれば充
分である。また、アセトンの使用量は当モル以上使用す
ればよく、例えば、上記式（２）化合物１モルに対して
約１〜約１００モル程度の範囲が好適である０反応終了
後は、反応生成物を水酸化バリウムの如きアルカリで中
和し、更に生成物を再結晶のごとき手段で精製すること
により、式（１）−３の化合物が好純度、好収率で得ら
れれる。

次に工程（ｄ）において、上記式（１）−３の化合物か
ら本発明の上記式（１）に包含される上記式（１）−２
の１−（２−０−フェノキシチオカルボニル−３，５−
０−イソプロピリデン−β−Ｄ−キシロフラノシル）５
−エチルウラシルを合成するには、式（１）−３の化合
物をアセトニトリル中でクロロチオノ炭酸フェニルおよ
び４−ジメチルアミノピリジンの存在下に反応させるこ
とにより行われる０反応は室温程度の温度で約２〜約４
時間程度で行われる。この反応に使用するクロロチオノ
炭酸フェニルの使用量としては、例えば、式（１）−３
の化合物に対して約１〜約１゜５モル程度の範囲を例示
することができる。また、４−ジメチルアミノピリジン
は過剰に用いた方が有利であり、例えば、式（１）−３
の化合物１モルに対して約１．５〜約３モル程度の範囲
で使用するのが一般的である。アセトニトリルの使用量
には格別の制約はなく適宜に選択することができるが、
通常は例えば、式（１）−３の化合物に対して約５〜約
１００重量倍の範囲が適当である。

反応終了後、例えば酢酸エチルのごとき溶媒で分配抽出
し、有機層を塩酸のごとき酸の水溶液で洗浄し、所望に
より生成物を再結晶のごとき手段で精製して本発明の上
記式（１）　−２が好純度、好収率で得られる。

次に、工程（ｅ）において、上記式（１）　−２の化合
物から本発明の上記式（１）に包含される上記式（１）
−１の１−（２−デオキシ−３，６−〇−イソプロピリ
デンーβ−Ｄ−キシロフラノシル）−６−エチルウラシ
ルを合成するには、例えば、上記式（１）−２の化合物
を有８１′？＃媒中、ｎ−トリブチルチンヒドライド及
びアゾビスイソブチロニトリルの存在下に処理して合成
される。

反応は例えば窒素ガスのごとき不活性雰囲気下に行うの
が有利である。処理温度は使用される有機溶媒にもよる
が、−船釣には約り０℃〜約１５０℃程度の範囲が採用
される。処理時間も適宜に選択することができるが、通
常は約２〜約３時間程度の範囲が選択される。この反応
に用いられるｎ−トリブチルチンヒドライドの使用量と
しては、式（１）−２の化合物１モルに対して約２〜約
５モル程度の範囲を好ましく例示することができる。

また、アゾビスイソブチロニトリルの好ましい使用量と
しては、例えば、式（１）−２の化合物１モルに対して
約１１５〜約１７５０モル程度の範囲とすることができ
る。有機溶媒は種々のものが使用可能であるが、好まし
い溶媒を示せば例えば、トルエン、キシレン等を挙げる
ことができる。これら溶媒の使用量には特別の制約はな
く適当な範囲を選択することができ、例えば式（１）−
２の化合物に刻して約１０〜約２００重量倍程度の範囲
が例示される０反応終了後、反応生成物をカラムクロマ
トグラフィーのごとき手段で精製するか、又は再結晶の
ような手段で精製して本発明の式（１）−１の化合物が
好純度、好収率で得られる。

次に、工程（ｆ）では、上記式（１）　−１の化合物を
酸と反応させて、上記式（Ｄ）の１−（２−デオキシ−
β、Ｄ−キシロフラノシル）−６−エチルウラシルを合
成することができる０反応は約０〜約８０℃程度の温度
で約１〜約５時間程度の時間で十分である。この反応に
使用しうる酸としては、例えば、ｐ−）ルエンスルホン
酸、酢酸、塩酸、硫酸等の如き酸が挙げられる。これら
の酸の使用量は、例えば、上記式（１）−１の化合物１
モルに対して約０．１〜約２００モル程度の範囲が好適
である０反応終了後、抽出、蒸留、更には、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーなどの手段で精製することに
より、上記式（Ｄ）の化合物が好純度、好収率で得られ
る。

次に工程（ｇ）において、上記式（Ｄ）の化合物から上
記式（Ｃ）の１−（２−デオキシ−５−ベンゾイル−β
、Ｄ−キシロフラノシル）−５−エチルウラシルを合成
するには、式（Ｄ）の化合物を有機溶媒中でベンゾイル
クロライドと反応させることにより行われる０反応は約
り℃〜約５０℃程度の温度で約０．５時間〜約５時間程
度の時間行うことができる。この反応に使用するベンゾ
イルクロライドの使用量としては、例えば、式（Ｄ）の
化合物１モルに対して約１．０〜約１．５モル程度の範
囲を例示することができる。また、上記反応に使用する
有８Ｎ溶媒の例としては、例えば、ピリジン、ジクロル
メタンなどを挙げることができ、その使用量は、例えば
、上記式（Ｄ）の化合物に対して約５〜約２０重量倍程
度の使用量を好ましく挙げることができる０反応終了後
は抽出、減圧蒸留、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーなどの精製手段を用いて上記式（Ｃ）の化合物を好純
度、好収率で得ることができる。

次に工程（ｈ）において、上記式（Ｃ）の化合物から上
記式（Ｂ）の１−（２−デオキシ−３−アジトー５−ベ
ンゾイル−β、Ｄ−リボフラノシル）−６−エチルウラ
シルを合成するには、式（Ｃ）の化合物を有機溶媒中で
メシルクロライドと反応させることにより、メシル化物
である１−（２−デオキシ−３−メシル−５−ベンゾイ
ル−β。

Ｄ−キシロフラノシル）−５−エチルウラシルを合成し
、次いで該メシル化物を溶媒中ソジウムアジドと反応さ
せてアジド化することにより容易に行われる。上記メシ
ル化反応は約０〜約８０℃程度の温度で約ｊ〜約６時間
程度の時間行うことができる。この反応に使用するメシ
ルクロライドの使用量としては、式（Ｃ）の化合物に対
して約１〜約５モル程度の範囲を例示することができる
。

また、上記反応に使用する有機溶媒は、通常ピリジン、
ジクロルメタンなどが例示できる。これらの溶媒の使用
量は、適宜に選択すればよく、例えば、式（Ｃ）の化合
物に対して約１〜約３０重量倍程度の使用量を好ましく
挙げることができる。

反応終了後、溶媒を除去し、精製単離することなく、そ
のまま次のアジド化反応に進めることができる。該アジ
ド化反応は約２５〜約１００℃程度の温度で約０．６〜
約５時間程度の時間行うことができる。上記反応に使用
するソジウムアジドの使用量は、例えば、上記式（Ｃ）
の化合物１モルに対して約１〜約５モル程度であること
ができる。

また、上記反応には種々の溶媒が使用可能であるが、例
えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシドな
どを挙げることができる。これらの溶媒の使用量には、
特別な制約はなく、例えば、式（Ｃ）の化合物に対して
約１〜約５０１量倍程度の範囲とすることができる。反
応終了後、抽出、蒸留、更にはシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーなどの精製手段を用いて上記式（Ｂ）の化
合物が好純度、好収率で得られる。

以上述べた如くして製造される前記式（Ｂ）の化合物は
、例えば前記反応式に示したようにして、エイズの治療
薬として使用できるＣ５−８５に誘導することができる
。

本発明の上記式（Ｂ）の化合物からＣ５−８５を合成す
るには、例えば、式（Ｂ）の化合物をメタノールなどの
溶媒中、例えば、ソジウムメチラートなどの塩基と反応
させることにより容易に行うことができる。

（実施例及び参考例） 以下に本発明の式（１）及びＣ５−８５の化合物の製造
方法を実施例ならびに参考例を挙げてさらに説明する。

実施例１ １−　（２，３，５−）リーＯ−アセチルキシロフラノ
シル）−５−エチルウラシル［式（３）］の％式％（）
］ フラスコにテトラアセチルキシロフラノース１６．３ｇ
　（５１，１ミリモル）、５−エチルビス（トリメチル
シリル）ウラシル１６ｇ　（５６，２ミリモル）および
１，２−ジクロルエタン５００ｍ１を仕込み、室温下で
撹拌しながら溶解させ、この中に１．２−ジクロルエタ
ン６０ｍ１に無水塩化第二錫１４．２ｇ　（５４，４ミ
リモル）を溶解した溶液を３０分間で滴下しながら加え
、滴下終了後、更に同じ温度で約１０時間反応させた。

反応終了後、反応液にクロロホルム２００ｍ１を加え、
飽和炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、濾液を硫酸ナトリ
ウムで乾燥した後、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝９：ｌ）
にかけて精製して標記化合物を１９．７ｇ得た。

収率：９９．６％ １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３　） δｐｐｍ：　１．１６　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）
、２．１１　（３Ｈ，Ｓ）、２．１４　（６Ｈ、Ｓ）、
２．４０　（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）、４．３２〜
４．６　（２Ｈ，ｍ）、５．１５〜５．１７　（ＩＨ，
ｍ）、５．２１〜５．４０（ＩＨ，ｍ）、８．０９　（
ＩＨ，ｄ、Ｊ＝２゜９Ｈｚ）、７．２６　（ＩＨ，ｂｒ
、Ｓ）、９゜４６　（ＩＨ，ｂｒＳ） 実施例２ １−β−Ｄ−キシロフラノシルー５−エチルウラシル［
式（２）］の合成［工程（ｂ）］フラスコに式（３）の
１−　（２，３，５−）リー〇−アセチルキシロフラノ
シル）−δ−エチルウラシル１８ｇ　（４６，６ミリモ
ル）及び無水メタノール５００ｍ１を仕込み、溶解させ
た後、室温下で、金属ナトリウムの細片を触媒量加え２
時間還流した。反応終了後、イオン交換樹脂（Ａｍｂｅ
ｒｌｉｓｔ１５）で中和してから濾過し、濾液を濃縮し
、濃縮液にエチルアルコール：エーテル（１：　１）を
加え再結晶を行って、標記化合物を１１．９５ｇ得た。

収率：９４．２％ 融点：１２８℃ 実施例３ １−　（３，５−０−イソプロピリデン−β−Ｄ−キシ
ロフラノシル）−５−エチルウラシル［式（１）−３］
の合成［工程（ｃ）コ フラスコに式（２）の１−β−Ｄ−キシロフラノシルー
５−エチルウラシル１１．９５ｇ　（４３゜９ミリモル
）、アセトン３００ｍ１およびｐ−）ルエンスルホン１
％ｔ１．Ｏｇを仕込み、室温で２時間撹拌した０反応終
了後、水酸化バリウム３ｇで中和し、濾過した後濃縮し
た。残さば５００ｇのシリカゲルを充填したカラムクロ
マトグラフィー（クロロホルム：メタノール＝９：ｌ）
で精製して標記の化合物１０．６９ｇを得た。

収率ニア３．５％ １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３） δｐｐｍ：　１．１５　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７−　δＨｚ
）、１．２７　（３Ｈ，Ｓ）、１．４０　（２Ｈ、ｑ、
Ｊ＝７．５Ｈｚ）、１．４８　（３Ｈ，Ｓ）、４．０７
〜４．６１　（５Ｈ，ｍ）、６．０（ＩＨ，ｍ）、７．
９Ｅ３　（ＩＨ，ｂｒ、Ｓ）＋１０．７０　（ＩＨ，ｂ
ｒＳ） 実施例４ ｌ−（２−０−フェノキシチオカルボニル−３゜５−０
−イソプロピリデン−β−Ｄ−キシロフラノシル）−５
−エチルウラシル［式（１）−２コの合成［工程（ｄ）
］ 式（１）　−３の１−　（３，５−０−イソプロピリデ
ン−β−Ｄ−キシロフラノシル）−５−エチルウラシル
４．１５ｇ　（１３，３ミリモル）を無水アセトニトリ
ル５００ｍ　ｌ中に撹拌しながら加え、さらにクロロチ
オノ炭酸フェニル２．５ｇ（１４，６ミリモル）と４−
ジメチルアミノピリジン３．３ｇ　（２６，８ミリモル
）を加えてから、室温で２時間撹拌した０反応終了後、
酢酸エチル２５０　ｍ　ｌ＋氷水　５０　ｍ　ｌで分配
抽出し、有機層を十分冷却してからＩＮＩＨＣ１／Ｈ２
０，飽和炭酸ナトリウム水溶液、飽和食塩水溶液で順次
洗浄を行フた。硫酸ナトリウムを加え、−晩装置した後
、濾過し、濃縮して標記化合物を５．４２ｇ得た。

収率二９０．９％ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３） δｐｐｍ：　１．１７　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）
、１．４２　（３Ｈ，Ｓ）、１．４９　（３Ｈ、Ｓ）、
２．３１　（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）、４．１２〜
４．２０　（３Ｈ，ｍ）、４．５９　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝
７．５Ｈｚ）、５．５６　（ＩＨ，ｂｒ、Ｓ）、６．２
２　（ＩＨ，ｂｒＳ）、７゜１０〜７．４９　（５Ｈ，
ｍ）、７．８２（ＩＨ，ｂｒＳ）、１０．０３　　（Ｉ
Ｈ，ｂｒＳ）・ 実施例５ １−く２−デオキシ−３，５−０−イソプ、ロビリデン
ーβ−Ｄ−キシロフラノシル）−５−エチルウラシル［
式（１）−１１の合成［工程（ｅ）コデシケーターで減
圧乾燥した式（１）−２の１−　（２−０−フェノキシ
チオカルボニル−３，５−〇−イソプロピリデンーβ−
Ｄ−キシロフラノシル）−５−エチルウラシル４．４２
ｇ　（１０゜８ミリモル）に蒸留トルエン５８０　ｍ　
ｌを加えて溶解し、アゾビスイソブチロニトリル３２１
ｍｇ（２，０ミリモル）とｎ−）リブチルチンヒドライ
ド８．６ｇ　（２９，２ミリモル）を加えた。５時間窒
素ガス気流下に７５℃に加熱し還流した。

反応終了後、濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（クロロホルム：酢酸エチル＝１：１）にか
け精製して標記化合物を２．８３ｇ得た。

収率：８Ｂ、４％ ＩＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３） δｐｐｍ：　　１．１６　　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．５Ｈ
ｚ）、　　１．３８　　（３Ｈ，Ｓ）、１．４８　　（
３Ｈ。

Ｓ）、２．０９〜２．８０　　（Ｈ，ｍ）、３．８４　
　（Ｉ　Ｈ，ｍ）、４．　１〜４．３　　（２Ｈ，ｍ）
＋４．３〜４．５　　（ＩＨ，ｍ）、６．　１７　　（
ＩＨ。

ｄｄ、Ｊ＝５．９Ｈｚ）、７．９３　　（ＩＨ，ｂｒＳ
）、９．６　　（ＩＨ，ｂｒＳ）。

参考例１ ｌ−（２−デオキシ−β、Ｄ−キシロフラノシル）−５
−エチルウラシル〔式（Ｄ）］の合成［工程（ｆ）］ フラスコに式（１）−１の１−（２−デオキシ−３，５
−０−イソプロピリデン−β−Ｄ−キシロフラノシル）
−５−エチルウラシル２．０ｇ（６，７ミリモル）およ
び７０％の酢酸水溶液６７ｍ１を仕込み、５０℃の温度
で撹拌しながら２゜５時間反応を行った０反応終了後、
減圧下にａｍし、残さをシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（クロロホルム：メタノール＝４：１）にかけ精
製し、標記化合物１．２１ｇを得た。

収率ニア０．０％ １Ｈ−ＮＭＲ（ｄ５−ＤＭＳＯ） δｐｐｍ：　１．０５　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．．５Ｈｚ
）、２．０４　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝１４．７Ｈｚ、２．
９Ｈｚ）＋　２．１４　（２Ｈ２Ｑ、Ｊ　＝７．５Ｈｚ
）、２．４〜２．７　（Ｉ　Ｈ，ｍ）。

３．５〜３．９　（３Ｈ，ｍ）、４．２８　（ＩＨ、ｍ
）、４．６３　（ＩＨ，ｍ）、５．２２　（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝２．９Ｈｚ）、６．１１　（ＩＨ。

ｄｄ、Ｊ＝８．２Ｈｚ、２．３Ｈｚ）、７．８１　（Ｉ
Ｈ，Ｓ）、１１．１２　（ＩＨ，ｂｒＳ）。

参考例２ ｌ−（２−デオキシ−５−ベンゾイル−β、Ｄ−キシロ
フラノシル）−６−エチルウラシル［式（Ｃ）］の合成
［工程（ｇ）コ。

フラスコに式（Ｄ）の１−（２−デオキシ−β。

Ｄ−キシロフラノシル）−５−エチルウラシル１゜０ｇ
（３，９ミリモル）およびピリジン２０ｍ１を仕込み氷
水で冷却する。この中に撹拌しながらベンゾイルクロラ
イド０．６６ｇ　（４，７ミリモル）を滴下する。滴下
終了後、更に、０℃の温度で２時間反応を行う。反応終
了後、減圧下に濃縮し、残さをシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（クロロホルム：メタノール＝９５：５）
にかけ精製し、標記化合物１．３９ｇを得た。

収率：９９．３％ ’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ３　） δｐｐｍ：　１．ｌ　１　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．５Ｈｚ
）、２．３１　（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）。

２．１〜２．８　（２Ｈ，ｍ）、４．２〜４．９　（４
Ｈ，ｍ）、５．１８　（ＩＨ，ｂｒＳ）、６．２２　（
ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝８．２Ｈｚ、２．３Ｈｚ）。

７．２３〜８．０１　（５）（、ｍ）、８．５８　（Ｉ
Ｈ，ｄ、Ｊ＝３．７Ｈｚ）、１１．０　（ＬＨ，ｂｒＳ
）。

参考例３ ｌ−（２−デオキシ−３−アジド−５−ベンゾイル−β
−Ｄ−リボフラノシル）−５−エチルウラシル［式（Ｂ
）］の合成［工程（ｈ）］　。

フラスコに式（Ｃ）の１−（２−デオキシ−５−ベンゾ
イル−β−Ｄ−キシロフラノシル）−５−エチルウラシ
ル１．３ｇ　（３，６ミリモル）およびとリジン３０　
ｍ　ｌを仕込み、氷水で冷却する。

この中に撹拌しながら、メシルクロライド１．２４ｇ　
（１０，８ミリモル）を滴下し、更に、０℃で３時間反
応を行う。メシル化反応終了後、蒸留、抽出などの処理
を行い、１−（２−デオキシ−３−メシル−６−ペンゾ
イルーβ−Ｄ−キシロフラノシル）−６−エチルウラシ
ル１．９８ｇを得た。

上述の様にして得た１−（２−デオキシ−３−メシル−
５−ベンゾイル−β−Ｄ−キシロフラノシル）−５−エ
チルウラシル１．９ｇ　（４，４ミリモル）、ジメチル
ホルムアミド５０　ｍ　ｌ　、ソジウムアジド４７０ｍ
ｇ　（７，２ミリモル）および水６ｍｌを仕込み、１０
０℃の温度で３時間反応を行う０反応終了後、減圧下に
蒸留し、残さをシリカゲルクロマトグラフィー（クロロ
ホルム：メタノール＝９５　：　５）で精製し、標記化
合物１゜２７ｇを得た。

収率：８７．３％ １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣ１３） δｐｐｍ：０．９５　　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．７Ｈｚ）
、２．０４〜２．２９　　（２Ｈ，ｍ）、２゜４８　　
（２Ｈ，ｑ、、Ｊ”−７，７Ｈｚ）、４．０８〜４．７
９　　（４Ｈ，ｍ）、６．　１５　　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝
６．６Ｈｚ）、７．　１３　　（ＩＨ，Ｓ）。

７．４０〜８．０８　　（５Ｈ，ｍ）、９．３１　　（
ＩＨ，ｂｒＳ）。

参考例４ ｌ−（２−デオキシ−３−アジド−β−Ｄ−リボフラノ
シルー５−エチルウラシル（Ｃ５−８５）［（Ａ）コの
合成 フラスコに式（Ｂ）の１−（２−デオキシ−３−アジト
ー５−ベンゾイル−β−Ｄ−リボフラノシル）−５−エ
チルウラシル８３０ｍｇ、メタノール２０ｍ【およびＩ
Ｎ−ソジウムメチラートのメタノール溶液２．２ｍｌ　
（２，２ミリモル）を仕込み、撹拌しながら室温下で３
．５時間反応を行う。反応終了後、イオン交換樹脂（Ａ
ｍｂｅｒｌｉｓｔ１５）で中和してから濾過し、濾液を
減圧下に濃縮し、残さをシリカゲルクロマトグラフィー
（クロロホルム：メタノール＝９５：５）で精製するこ
とにより、標記化合物５６０　ｍ　ｇを得た。収率：９
２．４％ １Ｈ−ＮＭＲ（ｄ５−ＤＭＳＯ） δｐｐｍ：　１．０６　（３Ｈ，ｔ、Ｊ＝７．δＨｚ）
、２．０９〜２．５５　（４Ｈ，ｍ）、３．６７〜３．
８９（３Ｈ２ｍ）、４．４１（ＩＨ２ｑ。

Ｊ＝６．２Ｈｚ）、５．１８　（ＩＨ，ｔ、Ｊ＝４゜８
Ｈｚ）、６．１３　（’ＩＨ，ｔ、Ｊ：６．４Ｈｚ）、
７．６７　（ＩＨ，Ｓ）、１１．１９　（ＩＨ，Ｓ）は
か１名

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記式（１） ▲数式、化学式、表等があります▼（１） 式中、Ｒ＿１は水素原子、水酸基又は ▲数式、化学式、表等があります▼を示す で表されるウラシル誘導体。