JPH0132044Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は、所定の透光性膜パターン等のパター
ンを被転写板に転写する時に使用されるフオトマ
スクの構造に係り、特に、縮小投影露光装置等を
用いて、フオトマスクの主表面上に形成されたパ
ターンを被転写板に転写するフオトマスクにペリ
クルを装着する際に、ペリクルの装着を容易に
し、かつ、その装着の精度を確認できるフオトマ
スクの構造に関する。

〔従来の技術〕

従来、フオトマスク１の構造は、第１４図に示
すように、ガラス等の透光性基板２の主表面上に
Cr膜等の遮光性膜パターン３を形成してなるも
のが知られている。さらに、縮小投影露光装置等
を用いて、このフオトマスク１の主表面上に形成
された遮光性膜パターン３を被転写板（図示せ
ず。）に転写する際に、後記するフオトマスク載
置用ステージ６の所定位置にフオトマスク１を載
置するための十字状アライメントマーク４及び直
線状アライメントマーク５も、フオトマスク１の
主表面上に形成されている。

前述したフオトマスク１は、縮小投影露光装置
等のフオトマスク載置用ステージ６（第１５図参
照）に載置されるが、この時、フオトマスク１は
ステージ６の所定位置に確実に載置されねばなら
ない。そこで、フオトマスク１とステージ６の位
置合わせを確実に行うために、ステージ６には、
十字状アライメントマーク４に対応するステージ
マーク７と、直線状アライメントマーク５に対応
するステージマーク８とが形成してある。そし
て、第１６図に示すように、十字状アライメント
マーク４とステージマーク７、及び直線状アライ
メントマーク５とステージマーク８とをそれぞれ
正確に適合させて、フオトマスク１をステージ６
に載置する。

ところで、近年、フオトマスク１の主表面に塵
埃が付着し、付着した鹿埃による像が遮光性膜パ
ターン３とともに被転写板に転写されることを防
止するために、第１７図に示したように、フオト
マスク１の主表面にペリクル１０を装着すること
が行われている。なお、第１７図では、フオトマ
スク１の主表面上の遮光性膜パターン３の図示を
省略してある。このペリクル１０は、ニトロセル
ロース等からなる透光性フイルム１１と、透光性
フイルム１１を支持する外枠１２とからなり、第
１８図に示すように、透光性フイルム１１はフオ
トマスク１の主表面から外枠１２を介して所定間
隔離れて配置される。

ペリクル１０をフオトマスク１に装着する時に
は、ペリクル装着作業者が、例えば、ペリクル１
０の透光性フイルム１１の主表面上の中心点と、
フオトマスク１の主表面上の中心点とを対応させ
るようにして、ペリクル１０をペリクル装着部９
（第１４図参照）に装着する。

〔考案が解決しようとする問題点〕

ペリクル１０を装着したフオトマスク１をステ
ージ６に載置する際には、第１８図に示したよう
に、フオトマスク１においてペリクル１０を装着
した主表面を下方へ向けてステージ６の開口部６
ａに挿入し、そして、十字状アライメントマーク
４とステージマーク７、及び直線状アライメント
マーク５とステージマーク８とをそれぞれ正確に
適合させねばならない。また、ステージ６の内側
面と外枠１２の外側面との間の距離L₁，L₂は非
常に微小であり、ペリクル１０を所定のペリクル
装着部９に正確に装着することが要求される。し
かし、このペリクル装着作業はその作業者の勘に
頼つて行われていることから、ペリクル１０を所
定のペリクル装着部９に正確に装着することは非
常に困難であつた。

そして、ペリクル１０が所定のペリクル装着部
９に装着されていない場合、ペリクル１０をステ
ージ６の開口部６ａに挿入して、ペリクル１０を
装着したフオトマスク１をステージ６に載置して
も、十字状アライメントマーク４とステージマー
ク７、及び直線状アライメントマーク５とステー
ジマーク８とをそれぞれ正確に適合させることが
不可能となり、このペリクル１０を装着したフオ
トマスク１は転写工程に使用できない。また、十
字状アライメントマーク４とステージマーク７、
及び直線状アライメントマーク５とステージマー
ク８とをそれぞれ適合させながら、ペリクル１０
を装着したフオトマスク１をステージ６の上方か
らステージ６に載置する場合に、ペリクル１０が
所定のペリクル装着部９からズレて装着されてい
ると、ステージ６の内側面と外枠１２の外側面と
の間の距離L₁，L₂が非常に微小である為、ペリ
クル１０がステージ６にぶつかつてしまい、ステ
ージ６やペリクル１０を破損することになつてし
まう。

以上のように、非常に高い精度でペリクル１０
をフオトマスク１に装着する必要があり、その装
着の精度は、転写工程に使用する縮小投影露光装
置の規格によつて決定されるが、通常±0.2mmの
ズレ量しか許容されない。そして、この装着の精
度を保つてペリクル１０が装着されたフオトマス
ク１のみが転写工程に使用できるので、ペリクル
１０をフオトマスク１に装着した時に、その装着
の精度を確認することが要求されてきている。

本考案は、以上のような事情を鑑みてなされた
ものであり、ペリクルを所定のペリクル装着部に
正確に装着することができ、さらに、その装着の
精度を確認することができるフオトマスクの構造
を提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

本考案は、上記した目的を達成するためになさ
けたものであり、透光性基板の主表面上にパター
ンを形成したフオトマスクが、前記パターンを包
囲するペリクル装着部の領域近傍にペリクル位置
粗指示部と、前記ペリクル位置粗指示部より内側
および／または外側にペリクル位置測定用手段と
を形成していることを特徴とするフオトマスク構
造である。

〔実施例 １〕 第１図は本考案の実施例１によるフオトマスク
構造を示す平面図、第２図は本考案の実施例１に
よるフオトマスク構造を有するフオトマスクにペ
リクルを装着した状態を示す斜視図、第３図はペ
リクル位置粗指示部とペリクル位置測定用手段と
を示す平面図、第４図は所定のペリクル装着部に
ペリクルが装着された状態の一部を示す平面図、
第５図及び第６図は、ペリクルが所定のペリクル
装着部からズレて装着された状態の一部を示す平
面図である。

実施例１によるフオトマスク構造は、第１図に
示したように、ガラス等の透光性基板１３の主表
面上にCr膜等のＦ字状遮光性膜パターン１４を
形成したフオトマスク１５の主表面上に、ペリク
ル位置粗指示部１６，１７，１８，１９と、この
ペリクル位置粗指示部１６〜１９にそれぞれ対応
し、かつその内側に位置するペリクル位置測定用
手段１６ａ，１７ａ，１８ａ，１９ａとを形成し
てなる。さらに、フオトマスク１５の主表面上に
は、十字状アライメントマーク４及び直線状アラ
イメントマーク５も形成してある。一方、ペリク
ル２０は、第２図に示したように、主表面が正方
形の透光性フイルム２１と、この透光性フイルム
２１を支持する外枠２２とからなる。

ペリクル位置粗指示部１６〜１９は、それぞれ
第３図に示したように、ａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅ及び
ｆを直線で結んで形成される鉤状の遮光性膜パタ
ーンからなる。また、ペリクル位置測定用手段１
６ａ〜１９ａは、それぞれ、ペリクル位置粗指示
部１６〜１９の各ｂ点から透光性基板１３の主表
面上の中心点（図示せず。）に向かう直線上に、
３個の正方形の遮光性膜パターンを中心点方向に
向かつて接続してなる。

実施例１の場合、第３図中のｘ及びｙ、ペリク
ル位置測定用手段１６ａ〜１９ａを構成する正方
形の遮光性膜パターンの一辺の長さは、それぞれ
１mmに設定してある。また、第４図に示したよう
に、ペリクル位置測定用手段１６ａ〜１９ａの各
ｇ点に、ペリクル２０の外枠２２におけるフオト
マスク１５側の下辺の４つの頂点が位置する時、
ペリクル２０はフオトマスク１５の所定のペリク
ル装着部２３（第１図参照）に装着される。な
お、所定のペリクル装着部２３は、各ｇ点を連結
して形成される正方形（第１図中の一点鎖線で形
成される正方形）の内側部分であり、遮光性膜パ
ターン１４を包囲している。

次に、ペリクル位置粗指示部１６〜１９、及び
ペリクル位置測定用手段１６ａ〜１９ａを形成し
たフオトマスク１５に、ペリクル２０を装着する
方法、及び所定のペリクル装着部２３からのペリ
クル２０のズレ量を測定する方法について説明す
る。

所定のペリクル装着部２３へペリクル２０を装
着する時には、ペリクル位置粗指示部１６〜１９
を目安にして、外枠２２のフオトマスク１５側の
下辺の４つの頂点が各ｇ点に位置するようにして
装着する。第４図に示したように、ペリクル２０
が装着されると、所定のペリクル装着部２３にペ
リクル２０は装着されている。また、所定のペリ
クル装着部２３にペリクル２０が装着されていな
い場合には、第５図及び第６図に示したように、
ペリクル位置測定用手段１６ａ〜１９ａを構成す
る正方形の遮光性膜パターンと外枠２２の下辺と
の位置関係を、作業者が目視にて観測して、各場
合におけるズレ量M₁とM₂，M₃とM₄を確認す
る。

実施例１によるフオトマスク構造を有するフオ
トマスク１５を用いれば、ペリクル位置粗指示部
１６〜１９を目安にして所定のペリクル装着部２
３へペリクル２０を装着することができる。ま
た、所定のペリクル装着部２３からズレてペリク
ル２０が装着された場合には、ペリクル位置測定
用手段１６ａ〜１９ａを用いてそのズレ量を確認
できる。さらに、そのズレ量が所定の装着の精度
（例えば±0.2mm）に収まつていない時には、この
ペリクルを装着したフオトマスクは転写工程に使
用できないと即座に判断できる。

ペリクル位置粗指示部１６〜１９の形状は、ペ
リクル装着時の目安となる任意の形状を選択する
ことができ、その個数も４個に限定されず、少な
くとも１個以上あればよく、また、その形成する
場所もペリクル装着部の領域外の任意の場所であ
つてもよい。また、ペリクル位置測定用手段１６
ａ〜１９ａの形状・寸法も適宜選択することがで
き、例えば第１２図ａに示すように、正方形の遮
光性膜パターン２４ａの内部の遮光性膜を除去し
て白抜きしたペリクル位置測定用手段２４、さら
に、同図ｂに示すように、ペリクル位置粗指示部
１６〜１９の内側に形成された格子状のペリクル
位置測定用手段２５等であつてもよい。さらに、
ペリクル位置測定用手段１６ａ〜１９ａを構成す
る正方形の遮光性膜パターンの個数も、３個に限
定されず適宜選択することができ、さらに、各正
方形の遮光性膜パターンがその頂点で接続してい
なくてもよい。

実施例１では、ペリクル装着部２３の所定位置
を第４図に示したようにｇ点とし、第５図又は第
６図に示したような位置関係にあつたときにズレ
量M₁，M₂又はM₃，M₄としたが、逆にペリクル
装着部２３の所定位置を第５図又は第６図に示し
たような位置関係とし、第４図に示した位置関係
をズレ量としてもよい。このようなペリクル装着
部の所定位置の設定は、次の実施例２，３におい
ても同様である。

〔実施例 ２〕 第７図は本考案の実施例２によるフオトマスク
構造を示す平面図、第８図は本考案の実施例２に
よるフオトマスク構造を有するフオトマスクにペ
リクルを装着した状態を示す斜視図、第９図はペ
リクル位置粗指示部とペリクル位置測定用手段と
を示す平面図、第１０図は所定のペリクル装着部
にペリクルが装着された状態の一部を示す平面
図、第１１図はペリクルが所定のペリクル装着部
からズレて装着された状態の一部を示す平面図で
ある。

実施例２によるフオトマスク構造は、第７図に
示したように、ガラス等の透光性基板１３の主表
面上にCr膜等の透光性膜を除去してなるＦ字状
の白抜きパターン２６を形成したフオトマスク２
７の主表面上に、ペリクル位置粗指示部２８，２
９，３０と、このペリクル位置粗粗指示部２８〜
３０にそれぞれ対応し、かつその内側に位置する
ペリクル位置測定用手段２８ａ，２９ａ，３０ａ
とを形成してなる。さらに、透光性基板１３の主
表面上の縁近傍部分３１も遮光性膜を除去して白
抜きとなつていて、この縁近傍部分３１には、透
光性膜よりなる十字状アライメントマーク４及び
直線状アライメントマーク５が形成してある。一
方、ペリクル３２は、第８図に示したように、主
表面が円形の透光性フイルム３３と、この透光性
フイルム３３を支持するリング状の外枠３４とか
らなる。

ペリクル位置粗指示部２８〜３０は、それぞれ
第９図に示したように、外枠３４の外側面に対応
する曲率を有する円弧hk，ijと、直線hi，kjとに
よつて囲まれる帯状の白抜きパターンからなる。
また、ペリクル位置測定用手段２８ａ〜３０ａ
は、それぞれペリクル位置粗指示部２８〜３０の
円弧hk上の中心点ｎから透光性基板１３の主表
面上の中心点（図示せず。）に向かう直線上に、
３個の正方形の白抜きパターンを透光性基板１３
の主表面上の中心点方向に向かつて接続してな
る。

実施例２の場合、円弧hkと円弧ijとの間隔は１
mmであり、ペリクル位置測定用手段２８ａ〜３０
ａを構成する正方形の白抜きパターンの一辺の長
さは、それぞれ0.6mmである。また、第１０図に
示したように、ペリクル３２の外枠３４における
フオトマスク２７側の外周円が、ペリクル位置測
定用手段２８ａ〜３０ａの各ｌ及びｍ点（第９図
参照）に位置する時、ペリクル３２はフオトマス
ク２７の所定のペリクル装着部３５（第７図参
照）に装着される。なお、所定のペリクル装着部
３５は、各ペリクル位置測定用手段２８ａ〜３０
ａの各ｌ及びｍ点を通過する円（第７図中の一点
鎖線で形成される円）の内側部分であり、白抜き
パターン２６を包囲している。

実施例２において、所定のペリクル装着部３５
へペリクル３２を装着する方法は実施例１と同様
である。また、所定のペリクル装着部３５にペリ
クル３２が装着されていない場合には、第１１図
に示したように、ペリクル位置測定用手段２８ａ
〜３０ａの正方形の白抜きパターンと外枠３４の
外周円との位置関係を作業者が目視にて、ズレ量
M₅を確認する。実施例２によるフオトマスク構
造を有するフオトマスクによれば、実施例１と同
様の効果が得られる。

ペリクル位置粗指示部２８〜３０の形状は、ペ
リクル装着時の目安となる任意の形状を選択する
ことができ、その個数も３個に限定されず、少な
くとも１個あればよい。また、ペリクル位置測定
用手段２８ａ〜３０ａの形状・寸法も適宜選択す
ることができ、例えば第１２図ｃに示すように、
３個の楕円の白抜きパターンを接続してなるペリ
クル位置測定用手段３６であつてもよい。さら
に、第１２図ｄに示すように、ペリクル位置粗指
示部２８〜３０の内側に、外枠３４の外側面の曲
率と同一曲率を有する３個の円弧状の白抜きパタ
ーンを、所定間隔で並設したペリクル位置測定用
手段３７であつてもよい。

〔実施例 ３〕 実施例３によるフオトマスク構造は、第１３図
に示すように、ガラス等の透光性基板１３の主表
面上にCr膜等のＦ字状遮光性膜パターン１４を
形成したフオトマスク１５の主表面上に、ペリク
ル位置粗指示部３８と、このペリクル位置粗指示
部３８の外側の外側ペリクル位置測定用手段３
９，４０と、ペリクル位置粗指示部３８の内側の
内側ペリクル位置測定用手段４１とを形成してな
る。

ペリクル位置粗指示部３８は遮光性膜パターン
からなり、その正方形状の外周３８ａと正方形状
の内周３８ｂとの間隔は１mmであり、この外周３
８ａは実施例１中で示したペリクル装着部２３
（第１図参照）の外周と一致し、この外周３８ａ
の内側部分がペリクル装着部４２となる。外側ペ
リクル位置測定用手段３９は、外周３８ａから１
mm外側に形成した遮光性膜パターンからなり、そ
の線幅は、0.1mmであり、外側ペリクル位置測定
用手段４０は、外側ペリクル位置測定用手段３９
から１mm外側に形成した遮光性膜パターンからな
り、その線幅は0.1mmである。内側ペリクル位置
測定用手段４１は、外周３８ｂから１mm内側に形
成した遮光性膜パターンからなり、その線幅は
0.1mmである。

実施例１中で示したペリクル２０を所定のペリ
クル装着部４２へ装着する時には、ペリクル位置
粗指示部３８を目安にして外枠２２のフオトマス
ク１５側の下辺が外周３８ａと重なるようにして
装着する。この時、外枠２２のフオトマスク１５
側の下辺が外周３８ａとが完全に重なれば、ペリ
クル２０は所定のペリクル装着部４２に装着され
ている。ペリクル２０が所定のペリクル装着部４
２からズレて装着された場合には、外側及び内側
ペリクル位置測定用手段３９，４０，４１，及び
外周３８ａを用いてズレ量を確認する。つまり、
例えば、外枠２２のフオトマスク１５側の下辺の
一辺が、外側ペリクル位置測定用手段３９と外周
３８ａとの間に位置する時には、その一辺がどの
あたりに位置するかを作業者が目分量で確認する
ことによりズレ量が分かる。

ペリクル位置粗指示部３８の外周３８ａと内周
３８ｂは、正方形状以外に、装着するペリクルに
対応した任意の形状であつてよい。また、外周３
８ａと内周３８ｂとの間隔、外側及び内側ペリク
ル位置測定用手段３９，４０，４１の線幅等の寸
法も適宜選択される。さらに、外側ペリクル位置
測定用手段、及び内側ペリクル位置測定用手段は
それぞれ２個、１個に限定されず、必要に応じて
適当数設けてよい。

〔考案の効果〕

本考案のフオトマスク構造によれば、ペリクル
位置粗指示部を目安にして、ペリクルを所定のペ
リクル装着部に正確に装着することができ、さら
に、ペリクル位置測定用手段によつて、ペリクル
の装着の精度を確認することができる。そして、
ペリクルの装着の精度が所定の装着の精度に収ま
つていない時には、そのペリクルを装着したフオ
トマスクが転写工程に使用できないと即座に判断
でき、転写工程における作業性を大幅に向上でき
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の実施例１によるフオトマスク
構造を示す平面図、第２図は本考案の実施例１に
よるフオトマスク構造を有するフオトマスクにペ
リクルを装着した状態を示す斜視図、第３図はペ
リクル位置粗指示部とペリクル位置測定用手段と
を示す平面図、第４図は所定のペリクル装着部に
ペリクルが装着された状態の一部を示す平面図、
第５図及び第６図は、ペリクルが所定のペリクル
装着部からズレて装着された状態の一部を示す平
面図、第７図は本考案の実施例２によるフオトマ
スク構造を示す平面図、第８図は本考案の実施例
２によるフオトマスク構造を有するフオトマスク
にペリクルを装着した状態を示す斜視図、第９図
はペリクル位置粗指示部とペリクル位置測定用手
段とを示す平面図、第１０図は所定のペリクル装
着部にペリクルが装着された状態の一部を示す平
面図、第１１図はペリクルが所定のペリクル装着
部からズレて装着された状態の一部を示す平面
図、第１２図はペリクル位置測定用手段の変形例
を示す図、第１３図は本考案の実施例３によるフ
オトマスク構造を示す平面図、第１４図は従来の
フオトマスク構造を示す平面図、第１５図はフオ
トマスク載置用ステージを示す斜視図、第１６図
は十字状アライメントマークとステージマーク、
及び直線状アライメントマークとステージマーク
の適合を示す図、第１７図は従来のフオトマスク
にペリクルを装着した状態を示す斜視図、第１８
図はペリクルを装着したフオトマスク、及びステ
ージの断面図である。 １３…透光性基板、１４…遮光性膜パターン、
１５，２７…フオトマスク、１６，１７，１８，
１９，２８，２９，３０，３８…ペリクル位置粗
指示部、１６ａ，１７ａ，１８ａ，１９ａ，２
４，２５，２８ａ，２９ａ，３０ａ，３６，３
７，３９，４０，４１…ペリクル位置測定用手
段、２０，３２…ペリクル、２３，３５，４２…
ペリクル装着部、２６…白抜きパターン。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 透光性基板の主表面上にパターンを形成したフ
   オトマスクが、前記パターンを包囲するペリクル
   装着部の領域近傍にペリクル位置粗指示部と、前
   記ペリクル位置粗指示部より内側および／または
   外側にペリクル位置測定用手段とを形成している
   ことを特徴とするフオトマスク構造。