JPH0444042A - フォトマスク - Google Patents
フォトマスクInfo
- Publication number
- JPH0444042A JPH0444042A JP2153354A JP15335490A JPH0444042A JP H0444042 A JPH0444042 A JP H0444042A JP 2153354 A JP2153354 A JP 2153354A JP 15335490 A JP15335490 A JP 15335490A JP H0444042 A JPH0444042 A JP H0444042A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pellicle
- vernier
- photomask
- accuracy
- pellicle frame
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 abstract description 9
- 238000011326 mechanical measurement Methods 0.000 abstract description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体装置などの製造に使用するフォトマス
クのペリクル装着精度確認用のマークに関する。
クのペリクル装着精度確認用のマークに関する。
従来のフォトマスクのペリクル装着精度確認用のマーク
は、第６図（α）に示すように矩形の精度確認用マーク
５を、フォトマスク１のパターン面側のペリクルが装着
される位置に数ケ所設けていた。精度確認用マークの短
辺はペリタルフレームの装着位置規格であり、第６図（
ｂ）に示すように、ペリクルフレーム４がすべて精度確
認用マーク５の上にあれば、ペリクル装着精度は正常で
あると判断していた。
は、第６図（α）に示すように矩形の精度確認用マーク
５を、フォトマスク１のパターン面側のペリクルが装着
される位置に数ケ所設けていた。精度確認用マークの短
辺はペリタルフレームの装着位置規格であり、第６図（
ｂ）に示すように、ペリクルフレーム４がすべて精度確
認用マーク５の上にあれば、ペリクル装着精度は正常で
あると判断していた。
しかし、前述の従来技術では、精度確認用マークをフォ
トマスク製造のパターン描画工程において同時に設ける
ため、精度確認用マークの位置にもばらつきが生じ、精
度確認用マークの短辺寸法を「ペリクル装着規格＋マー
ク位置のばらつき」にしなげればならないという問題点
を有していたそこで本発明はこのような問題点を解決す
るもので、その目的とするところは、正確なペリクル装
着精度が求められる精度確認用マークを提供するところ
にある。
トマスク製造のパターン描画工程において同時に設ける
ため、精度確認用マークの位置にもばらつきが生じ、精
度確認用マークの短辺寸法を「ペリクル装着規格＋マー
ク位置のばらつき」にしなげればならないという問題点
を有していたそこで本発明はこのような問題点を解決す
るもので、その目的とするところは、正確なペリクル装
着精度が求められる精度確認用マークを提供するところ
にある。
本発明のフォトマスクは、四角形のペリクルを装着する
フォトマスクにおいて、フォトマスクのパターン面側の
端面の際とペリクルフレームが装着される位置に、バー
ニアを設けた事を特徴とする。
フォトマスクにおいて、フォトマスクのパターン面側の
端面の際とペリクルフレームが装着される位置に、バー
ニアを設けた事を特徴とする。
第１図（ａ）は本発明の実施例におけるフォトマスクの
平面図であって、フォトマスク１のパターン面側に、端
面の際にはバーニア２が、ペリクルフレームが装着され
る位置にはバーニア６がそれぞれ設けられている。第２
図（α）はバーニア２、バーニア６の実施例を示す図で
ある。実際の場合、バーニア２は第２図（ｂ）のバーニ
ア２の拡大図に示すように、約半分フォトマスク１から
食み出し途切れた状態になる。
平面図であって、フォトマスク１のパターン面側に、端
面の際にはバーニア２が、ペリクルフレームが装着され
る位置にはバーニア６がそれぞれ設けられている。第２
図（α）はバーニア２、バーニア６の実施例を示す図で
ある。実際の場合、バーニア２は第２図（ｂ）のバーニ
ア２の拡大図に示すように、約半分フォトマスク１から
食み出し途切れた状態になる。
次に、第１図（ｂ）は本発明の実施例におけるフォトマ
スクにペリクルを装着した状態の平面図である。ペリク
ルを装着した時のバーニア３は、第２図（ｃ）のバーニ
ア６の拡大図に示すように、約半分ペリクルフレームで
隠される。
スクにペリクルを装着した状態の平面図である。ペリク
ルを装着した時のバーニア３は、第２図（ｃ）のバーニ
ア６の拡大図に示すように、約半分ペリクルフレームで
隠される。
前記実施例において実際の精度を求めてみると以下のよ
うになる。
うになる。
第２図（ｂ）のバーニア２の読み値は「−ｏ、 ６叫」
である。また第２図（ｃ）のバーニア６の読み値は「−
０，１ｍｍ Ｊである。よって、本実施例の場合ペリク
ル装着精度は、 （装着精度）＝（バーニア２）−（バーニア６）により
求められるので「−０，２ｍｍ Ｊとなる。
である。また第２図（ｃ）のバーニア６の読み値は「−
０，１ｍｍ Ｊである。よって、本実施例の場合ペリク
ル装着精度は、 （装着精度）＝（バーニア２）−（バーニア６）により
求められるので「−０，２ｍｍ Ｊとなる。
以上に述べたように本発明によれば、フォトマスクのパ
ターン面側の端面の際とペリクルフレームが装着される
位置に、バーニアを設ける事により、開学にかつ正確に
ペリクルの装着精度を求めることができるという効果を
有する。また、ノギスなど機械的な測定の必要もないの
で、異物付着の防止という効果も有する。
ターン面側の端面の際とペリクルフレームが装着される
位置に、バーニアを設ける事により、開学にかつ正確に
ペリクルの装着精度を求めることができるという効果を
有する。また、ノギスなど機械的な測定の必要もないの
で、異物付着の防止という効果も有する。
第１図（α）、（ｂ）は本発明のフオ）ｆスフの実施例
を示す、ペリクル装着前後の平面図である。 第２図（ｄ）、（１，（Ｃ）は本発明のフォトマスクに
設けるバーニアの実施例を示す拡大図である。 第６図（α）、（ｂ）は従来のフォトマスクを示す、ペ
リクル装着前後の平面図である。 １・・・・・・・・・フォトマスク ２・・・・・・・・・バーニア ６・・・・・・・・・バーニア ４・・・・・・・・・ペリクルフレーム５・・・・・・
・・・精度確認用マーク以上 出願人 セイコーエプソン株式会社
を示す、ペリクル装着前後の平面図である。 第２図（ｄ）、（１，（Ｃ）は本発明のフォトマスクに
設けるバーニアの実施例を示す拡大図である。 第６図（α）、（ｂ）は従来のフォトマスクを示す、ペ
リクル装着前後の平面図である。 １・・・・・・・・・フォトマスク ２・・・・・・・・・バーニア ６・・・・・・・・・バーニア ４・・・・・・・・・ペリクルフレーム５・・・・・・
・・・精度確認用マーク以上 出願人 セイコーエプソン株式会社
Claims (1)
- 四角形のペリクルを装着するフォトマスクにおいて、
フォトマスクのパターン面側の端面の際とペリクルフレ
ームが装着される位置に、バーニアを設けた事を特徴と
するフォトマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2153354A JPH0444042A (ja) | 1990-06-12 | 1990-06-12 | フォトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2153354A JPH0444042A (ja) | 1990-06-12 | 1990-06-12 | フォトマスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0444042A true JPH0444042A (ja) | 1992-02-13 |
Family
ID=15560630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2153354A Pending JPH0444042A (ja) | 1990-06-12 | 1990-06-12 | フォトマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0444042A (ja) |
-
1990
- 1990-06-12 JP JP2153354A patent/JPH0444042A/ja active Pending
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