JPH01320643A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH01320643A JPH01320643A JP63155296A JP15529688A JPH01320643A JP H01320643 A JPH01320643 A JP H01320643A JP 63155296 A JP63155296 A JP 63155296A JP 15529688 A JP15529688 A JP 15529688A JP H01320643 A JPH01320643 A JP H01320643A
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- JP
- Japan
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- sputtering
- perpendicularly magnetized
- magnetized film
- film
- magnetic recording
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- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高密度記録再生特性の優れた垂直磁気記録媒体
の製造方法に関する。
の製造方法に関する。
従来の技術
高分子フィルム上に形成された磁性層の中で、膜面に垂
直な反平行磁化として残留した磁化状態を記録再生に利
用するいわゆる垂直磁気記録は、今後の高密度化に有効
であることから、実用化の為に多角的な研究開発がなさ
れている。かかる用途の磁気記録媒体の製造は、従来の
長手記録と異なり、確立した製造方法がなく、高周波ス
パッタリング等のいわゆるスパッタリング法や電子ビー
ム蒸着法でＣｏ−０ｒ合金の薄膜をポリイミド等の高分
子フィルム上に形成する方法が検討されてい：ｂＣ電子
通信学会論文誌Ｖｏｌ 、 Ｊ ６３−Ｃ、＆４ 。
直な反平行磁化として残留した磁化状態を記録再生に利
用するいわゆる垂直磁気記録は、今後の高密度化に有効
であることから、実用化の為に多角的な研究開発がなさ
れている。かかる用途の磁気記録媒体の製造は、従来の
長手記録と異なり、確立した製造方法がなく、高周波ス
パッタリング等のいわゆるスパッタリング法や電子ビー
ム蒸着法でＣｏ−０ｒ合金の薄膜をポリイミド等の高分
子フィルム上に形成する方法が検討されてい：ｂＣ電子
通信学会論文誌Ｖｏｌ 、 Ｊ ６３−Ｃ、＆４ 。
２３８〜２４５（１９８０）、特開昭６１−７７１２８
号公報、特公昭６２−１５６１５７５号公報、特開昭６
２−２７５３２２号公報参照〕。
号公報、特公昭６２−１５６１５７５号公報、特開昭６
２−２７５３２２号公報参照〕。
発明が解決しようとする課題
しかしながら、 Ｃｏ−（ｆｒやＣｏ−Ｔａ 、 Ｃｏ
−０ｒ−Ｗｂ 等のＣｏ合金ターゲットを円筒キャンに
対向して配設し円筒キャンに沿わせてポリイミドやポリ
アミド等の高分子フィルムを巻取りながら、ムｒガスを
放電ガスとして導入し、高周波グロー放電、直流マグネ
トロン放電等のグロー放電によりムｒイオンによりスパ
ッタリングすることで垂直磁化膜を形成したものは、記
録密度が上昇するにつれて、帯域の広いディジタル記録
での雑音レベルが大きくなり、十分なＯ／Ｎ が確保で
きないことから改善が望まれていた。
−０ｒ−Ｗｂ 等のＣｏ合金ターゲットを円筒キャンに
対向して配設し円筒キャンに沿わせてポリイミドやポリ
アミド等の高分子フィルムを巻取りながら、ムｒガスを
放電ガスとして導入し、高周波グロー放電、直流マグネ
トロン放電等のグロー放電によりムｒイオンによりスパ
ッタリングすることで垂直磁化膜を形成したものは、記
録密度が上昇するにつれて、帯域の広いディジタル記録
での雑音レベルが大きくなり、十分なＯ／Ｎ が確保で
きないことから改善が望まれていた。
本発明は上記した事情に鑑みなされたもので、広帯域の
０７Ｈの良好な垂直磁気記録用の磁気記録媒体を製造す
る方法を提供するものである。
０７Ｈの良好な垂直磁気記録用の磁気記録媒体を製造す
る方法を提供するものである。
課題を解決するだめの手段
上記した課題を解決するため、本発明の磁気記録媒体の
製造方法は、高分子フィルム上に垂直磁化膜をスパッタ
リング法で形成する際、スパッタリングを垂直磁化膜を
構成する元素のイオンビーム照射により行うようにした
ものである。
製造方法は、高分子フィルム上に垂直磁化膜をスパッタ
リング法で形成する際、スパッタリングを垂直磁化膜を
構成する元素のイオンビーム照射により行うようにした
ものである。
作用
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、上記した構成によ
り、垂直磁化膜中に放電ガスがとり込まれたり、グロー
放電により系内の構成材が不純物として不安定に取り込
まれたりしないことから、結晶配向が理想的になり、記
録波長が短かくなっても、磁化の均一性が微視的に保た
れるので、雑音が改良され、Ｃ／Ｎが良好となり、垂直
磁化膜を構成する結晶が異常成長するトリガーもなくな
るので、耐久性も改善されるから保護層を薄くして出力
の低下を最小限にとどめることもでき、良好な垂直磁気
記録用の磁気記録媒体を製造できることになる。
り、垂直磁化膜中に放電ガスがとり込まれたり、グロー
放電により系内の構成材が不純物として不安定に取り込
まれたりしないことから、結晶配向が理想的になり、記
録波長が短かくなっても、磁化の均一性が微視的に保た
れるので、雑音が改良され、Ｃ／Ｎが良好となり、垂直
磁化膜を構成する結晶が異常成長するトリガーもなくな
るので、耐久性も改善されるから保護層を薄くして出力
の低下を最小限にとどめることもでき、良好な垂直磁気
記録用の磁気記録媒体を製造できることになる。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の一実施例について説
明する。図は本発明の実施に用いたスパッタリング装置
の要部断面図で、図で１は高分子フィルムで、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポ
リエーテルエーテルケトン。
明する。図は本発明の実施に用いたスパッタリング装置
の要部断面図で、図で１は高分子フィルムで、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポ
リエーテルエーテルケトン。
ポリイミド等が用いられる。２は円筒キャンで、他の回
転支持体例えば、回転ベルトなどでもよい。
転支持体例えば、回転ベルトなどでもよい。
３は送り出し軸、４は巻取り軸、６はＧｏ −Ｏｒ 。
Ｇｏ−Ｔｉ、Ｇｏ−Ｔａ、Ｇｏ−Ｍｏ、Ｇｏ−Ｗ、Ｃｏ
−０ｒ−Ｎｂ等の垂直磁化膜を形成するのに用いるター
ゲットで、６はイオン銃、７はイオンビーム、８はスパ
ッタ原子を模式的に示したものである。９は真空容器、
１０は真空排気系である。
−０ｒ−Ｎｂ等の垂直磁化膜を形成するのに用いるター
ゲットで、６はイオン銃、７はイオンビーム、８はスパ
ッタ原子を模式的に示したものである。９は真空容器、
１０は真空排気系である。
本発明は、例えばＣｏ−０ｒ垂直磁化膜の形成の場合は
、Ｇｏ−Ｏｒをターゲットにして、Ｏｒイオン又はＧｏ
イオンのいずれか一方又は両方のイオンをビーム化し
てターゲットに照射して、スパッタリングを行うもので
、高真空でスパッタリングが出来る上、垂直磁化膜を構
成する元素のイオンでスパッタリングを行うことから不
純物の混入が無視され極めて均一な垂直磁化膜が得られ
ることになる。
、Ｇｏ−Ｏｒをターゲットにして、Ｏｒイオン又はＧｏ
イオンのいずれか一方又は両方のイオンをビーム化し
てターゲットに照射して、スパッタリングを行うもので
、高真空でスパッタリングが出来る上、垂直磁化膜を構
成する元素のイオンでスパッタリングを行うことから不
純物の混入が無視され極めて均一な垂直磁化膜が得られ
ることになる。
以下、更に具体的な実施例について、比較例との対比で
詳しく説明する。厚み１１μｍポリエチレンナフタレー
トフィルムを直径６０口の円筒キャンを１５０″Ｃに加
熱した状態にし、その面に沿わせ、５ Ｘ １０−’
（Ｔｏｒｒ ） 〜８ Ｘ １０−６（Ｔｏｒｒ）の真
空中を２往復（２ｍ／ｗｉｎさせた後Ｏｏ−Ｃｒ（ｃｏ
：ａｅｗｔ％）をターゲットにして１６に６ＶのＯｒイ
オンを１２０μＡ／ｄで照射し照射面積１幅方向１６Ｃ
ＩＲ，長手方向１２ＣＭ〕スパッタリングして、ｃｏ−
ｃｒ（ｃｏ：ｓｏｗｔ％）垂直磁化膜を０．１５μｍ形
成した。形成時の真空度は７Ｘ１０−’〜９ Ｘ １０
’（Ｔｏｒｒ） とした。尚製膜面積は幅１３α
、長さ５ｏｏｍである。
詳しく説明する。厚み１１μｍポリエチレンナフタレー
トフィルムを直径６０口の円筒キャンを１５０″Ｃに加
熱した状態にし、その面に沿わせ、５ Ｘ １０−’
（Ｔｏｒｒ ） 〜８ Ｘ １０−６（Ｔｏｒｒ）の真
空中を２往復（２ｍ／ｗｉｎさせた後Ｏｏ−Ｃｒ（ｃｏ
：ａｅｗｔ％）をターゲットにして１６に６ＶのＯｒイ
オンを１２０μＡ／ｄで照射し照射面積１幅方向１６Ｃ
ＩＲ，長手方向１２ＣＭ〕スパッタリングして、ｃｏ−
ｃｒ（ｃｏ：ｓｏｗｔ％）垂直磁化膜を０．１５μｍ形
成した。形成時の真空度は７Ｘ１０−’〜９ Ｘ １０
’（Ｔｏｒｒ） とした。尚製膜面積は幅１３α
、長さ５ｏｏｍである。
一方比較例は、あらかじめ６ Ｘ １０−’ （Ｔｏｒ
ｒ）に排気した後、人ｒを０．０８ （Ｔｏｒｒ）まで
導入し、ｃｏ−ｃｒ（ｃｏ ：ａｏｗｔ％）をターゲッ
トにして１３．１５６ （ＭＨ２）１．９（ＫＷ）の高
周波グロー放電による、いわゆる高周波スパッタリング
法でＧｏ−Ｏｒ（Ｇｏ ： ８０ｗｔ％）垂直磁化膜を
０．１６μｍ形成した。製膜面積は同じである。夫々パ
ーフルオロポリエーテルとして市販のモンテフルオス社
製の”フォンプリンＺ−２５”を溶液塗布法で約７５人
塗布し、８ミリ幅の磁気テープに加工した。
ｒ）に排気した後、人ｒを０．０８ （Ｔｏｒｒ）まで
導入し、ｃｏ−ｃｒ（ｃｏ ：ａｏｗｔ％）をターゲッ
トにして１３．１５６ （ＭＨ２）１．９（ＫＷ）の高
周波グロー放電による、いわゆる高周波スパッタリング
法でＧｏ−Ｏｒ（Ｇｏ ： ８０ｗｔ％）垂直磁化膜を
０．１６μｍ形成した。製膜面積は同じである。夫々パ
ーフルオロポリエーテルとして市販のモンテフルオス社
製の”フォンプリンＺ−２５”を溶液塗布法で約７５人
塗布し、８ミリ幅の磁気テープに加工した。
夫々の磁気テープを実施例と比較例の中から各１０巻ず
つ抽出し、改造した８ミリビデオにより、ビット長０．
２μｍ、）ラックピッチ５μｍでディジタル信号を記録
再生し、帯域７ （ＭＨｚ ）でのＣ／Ｎを比較した。
つ抽出し、改造した８ミリビデオにより、ビット長０．
２μｍ、）ラックピッチ５μｍでディジタル信号を記録
再生し、帯域７ （ＭＨｚ ）でのＣ／Ｎを比較した。
初期値は、実施例の１巻を標準として０（ｄＢ）とする
と、平均値はｏ、１（ｄＢ）で最大最小偏差は０．２（
ｄＢ）であったのに対し、比較例は平均値が−１゜９（
ｄＢ） で偏差は２．４（ｄＢ）あった。又耐久性を
みるのに、５℃１０％ＲＨでくり返し走行し、再生出力
を比較した結果実施例はＧｏ回走行後の出力は−０，６
〜−０，９（ｄＢ） であったのに対し、比較例は−０
，９〜−ｓ、３（ｄＢ） とバラツキが大きがった。
と、平均値はｏ、１（ｄＢ）で最大最小偏差は０．２（
ｄＢ）であったのに対し、比較例は平均値が−１゜９（
ｄＢ） で偏差は２．４（ｄＢ）あった。又耐久性を
みるのに、５℃１０％ＲＨでくり返し走行し、再生出力
を比較した結果実施例はＧｏ回走行後の出力は−０，６
〜−０，９（ｄＢ） であったのに対し、比較例は−０
，９〜−ｓ、３（ｄＢ） とバラツキが大きがった。
発明の効果
以上のように本発明によれば、高密度記録特性の優れた
垂直磁気記録用の磁気記録媒体が製造できるといった優
れた効果がある。
垂直磁気記録用の磁気記録媒体が製造できるといった優
れた効果がある。
図は本発明を実施するのに用いたスパッタリング装置の
要部断面図である。 １・・・・・・高分子フィルム、５・・・・・・ターゲ
ット、６・・・・・・イオン銃、７・・・・・・イオン
ビーム。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名／−
−一高分３フイルム
要部断面図である。 １・・・・・・高分子フィルム、５・・・・・・ターゲ
ット、６・・・・・・イオン銃、７・・・・・・イオン
ビーム。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名／−
−一高分３フイルム
Claims (1)
- 高分子フィルム上に垂直磁化膜をスパッタリング法で形
成する際、スパッタリングを垂直磁化膜を構成する元素
のイオンビーム照射により行うことを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63155296A JPH01320643A (ja) | 1988-06-23 | 1988-06-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63155296A JPH01320643A (ja) | 1988-06-23 | 1988-06-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01320643A true JPH01320643A (ja) | 1989-12-26 |
Family
ID=15602793
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63155296A Pending JPH01320643A (ja) | 1988-06-23 | 1988-06-23 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01320643A (ja) |
-
1988
- 1988-06-23 JP JP63155296A patent/JPH01320643A/ja active Pending
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