JPH0487025A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH0487025A JPH0487025A JP2202159A JP20215990A JPH0487025A JP H0487025 A JPH0487025 A JP H0487025A JP 2202159 A JP2202159 A JP 2202159A JP 20215990 A JP20215990 A JP 20215990A JP H0487025 A JPH0487025 A JP H0487025A
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- Japan
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- vacuum
- magnetic recording
- recording medium
- thin film
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- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁
気記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関する。
気記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関する。
従来の技術
最近の記録技術の進歩により、単位面積当りはもとより
、単位体積当りの記録密度の向上は著しく、一部強磁性
金属薄膜を磁気記録層とする蒸着テープの実用化により
、今後も発展が期待されている。
、単位体積当りの記録密度の向上は著しく、一部強磁性
金属薄膜を磁気記録層とする蒸着テープの実用化により
、今後も発展が期待されている。
第2図は従来の磁気記録媒体(蒸着テープ)の構造を示
す拡大断面図の一例であり、図において、1はポリエチ
レンテレフタレートフィルム等の炭分子フィルム、2は
高分子フィルム1の片面上に設けられた微粒子塗布層[
特開昭59−207422号公報、特開昭5!IJ−1
21631号公報等参照コ、3はCo−Ni−0斜め蒸
着膜よりなる磁気記録層、4はフッ素含有潤滑剤、5は
高分子フィルム1の他の面に塗布されたバックコート層
である。
す拡大断面図の一例であり、図において、1はポリエチ
レンテレフタレートフィルム等の炭分子フィルム、2は
高分子フィルム1の片面上に設けられた微粒子塗布層[
特開昭59−207422号公報、特開昭5!IJ−1
21631号公報等参照コ、3はCo−Ni−0斜め蒸
着膜よりなる磁気記録層、4はフッ素含有潤滑剤、5は
高分子フィルム1の他の面に塗布されたバックコート層
である。
現在達成されている最高の記録密度はハイバンド8ミリ
ビデオにより得られているが、満足できる画質を得るに
は、上記したような蒸着テープが不可欠となっている。
ビデオにより得られているが、満足できる画質を得るに
は、上記したような蒸着テープが不可欠となっている。
さらにはCo−Crに代表される垂直磁化膜の実用化も
期待され、磁気テープ、磁気ディスクの高密度化か一層
発展するものと期待されている。
期待され、磁気テープ、磁気ディスクの高密度化か一層
発展するものと期待されている。
第2図に示した蒸着テープは、高分子フィルム1上に塗
布法で微粒子を製膜時に同時に表面形成するか、または
別工程で微粒子分散塗布液を塗布、乾燥し、凹凸を形成
した後、真空中で系外より酸素を導入しながら、Co、
Co−Ni等を電子ビーム蒸着し、平坦化処理、バック
コート処理後、潤滑剤を塗布し、所定の幅に裁断し、カ
セット内に装着し、記録再生に供されるものである。
布法で微粒子を製膜時に同時に表面形成するか、または
別工程で微粒子分散塗布液を塗布、乾燥し、凹凸を形成
した後、真空中で系外より酸素を導入しながら、Co、
Co−Ni等を電子ビーム蒸着し、平坦化処理、バック
コート処理後、潤滑剤を塗布し、所定の幅に裁断し、カ
セット内に装着し、記録再生に供されるものである。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記した構成では、短波長になる程、信号
欠落(ドロップアウト、エラー等)の程度が悪くなると
いった課題があり、改善が望まれていた。
欠落(ドロップアウト、エラー等)の程度が悪くなると
いった課題があり、改善が望まれていた。
本発明は上記した課題を解決するものであり、信号欠落
の少ない、高密度の磁気記録媒体を得ることかできる磁
気記録媒体の製造方法を提供するものである。
の少ない、高密度の磁気記録媒体を得ることかできる磁
気記録媒体の製造方法を提供するものである。
課題を解決するための手段
上記目的を達成するために本発明は、強磁性金属薄膜を
放電電極に対する対向電極として、高電圧電源により真
空中で高電圧放電処理するようにしたものである。
放電電極に対する対向電極として、高電圧電源により真
空中で高電圧放電処理するようにしたものである。
作用
したがって本発明の磁気記録媒体の製造方法は、上記し
た構成により、ドロップアウトやエラーの原因となる大
きな突起が放電エネルギーで除去され、除去されたもの
が真空中で再び蒸着テープに被着することがないため、
従来ドロップアウト低減のために行われていたバニッシ
ング処理よりも高い信頼度で改善できるものである。
た構成により、ドロップアウトやエラーの原因となる大
きな突起が放電エネルギーで除去され、除去されたもの
が真空中で再び蒸着テープに被着することがないため、
従来ドロップアウト低減のために行われていたバニッシ
ング処理よりも高い信頼度で改善できるものである。
実施例
以下、図面を参照しながら本発明の一実施例について説
明する。第1図は本発明を実施するのに用いた放電処理
装置の要部構成図であり、図において、6はその表面に
強磁性金属薄膜か配された高分子フィルムよりなる被処
理体であり、後述する放電電極と対向するように構成さ
れる。7は被処理体6の送り出し軸、8は同じく巻き取
り軸、9は放電電極で、Al、Mo、Ta、 ステンレ
ス鋼等の金属で構成され、10は高電圧電源で、電流遮
断特性をもたせたものが好ましく、正の5kV〜100
kVの範囲の電圧を発生するものか適している。電流遮
断特性をもたない高電圧電源は、時としてドロップアウ
トの原因となる突起部の除去のみにとどまらず、放電エ
ネルギーがその周囲に及び、強磁性金属薄膜を必要以上
に蒸発除去させてしまうことになるからである。
明する。第1図は本発明を実施するのに用いた放電処理
装置の要部構成図であり、図において、6はその表面に
強磁性金属薄膜か配された高分子フィルムよりなる被処
理体であり、後述する放電電極と対向するように構成さ
れる。7は被処理体6の送り出し軸、8は同じく巻き取
り軸、9は放電電極で、Al、Mo、Ta、 ステンレ
ス鋼等の金属で構成され、10は高電圧電源で、電流遮
断特性をもたせたものが好ましく、正の5kV〜100
kVの範囲の電圧を発生するものか適している。電流遮
断特性をもたない高電圧電源は、時としてドロップアウ
トの原因となる突起部の除去のみにとどまらず、放電エ
ネルギーがその周囲に及び、強磁性金属薄膜を必要以上
に蒸発除去させてしまうことになるからである。
11は絶縁導入端子、12は真空槽、13は真空排気系
、14は真空槽12内に必要とするガスを導入するため
のガス導入パイプ、15は真空槽12内の真空度を調整
したりガスの流入量を制限するための可変リークバルブ
である。
、14は真空槽12内に必要とするガスを導入するため
のガス導入パイプ、15は真空槽12内の真空度を調整
したりガスの流入量を制限するための可変リークバルブ
である。
(実施例1)
以下、さらに具体的に本発明の実施例について、比較例
との対比で説明する。
との対比で説明する。
厚み10μmの触媒残渣にもとづく突起以外は積極的に
内在粒子を添加していないポリエチレンテレフタレート
フィルム上に、直径200人のSiO□微粒子を平均2
5ケ/μdになるように塗布し、その上に直径1mの円
筒キャンに沿わせて、真空度が5 X 10−5(To
rr)の酸素ガス中でCo−N1(Co : 80wt
%)を最小入射角40度で、電子ビーム蒸着し、0.1
5μmのCo−Ni−0膜を形成し、6000mの被処
理体6を準備した。
内在粒子を添加していないポリエチレンテレフタレート
フィルム上に、直径200人のSiO□微粒子を平均2
5ケ/μdになるように塗布し、その上に直径1mの円
筒キャンに沿わせて、真空度が5 X 10−5(To
rr)の酸素ガス中でCo−N1(Co : 80wt
%)を最小入射角40度で、電子ビーム蒸着し、0.1
5μmのCo−Ni−0膜を形成し、6000mの被処
理体6を準備した。
この被処理体6を高電圧放電処理を行った後、溶液塗布
法で0.4μmのバックコート層と0.007μmのパ
ーフルオロポリエーテル(モンテジソン社製)tンブリ
ンZ−25)を塗布し、8mm幅の磁気テープとした。
法で0.4μmのバックコート層と0.007μmのパ
ーフルオロポリエーテル(モンテジソン社製)tンブリ
ンZ−25)を塗布し、8mm幅の磁気テープとした。
比較例としては、放電処理しなかったものと、放電処理
せず、研磨テープによりバニッシング処理したものを用
いた。ドロップアウトとヘッド目づまりはハイバンド8
ミリビテ゛オを用いて比較し、15 μsec、 −
16dBのドロップアウトの最大値を1分当りの個数と
して評価し、目づまりは2時間テープを任意に10巻選
び、記録再生した時に発生した目づまりの全時間で示し
た。
せず、研磨テープによりバニッシング処理したものを用
いた。ドロップアウトとヘッド目づまりはハイバンド8
ミリビテ゛オを用いて比較し、15 μsec、 −
16dBのドロップアウトの最大値を1分当りの個数と
して評価し、目づまりは2時間テープを任意に10巻選
び、記録再生した時に発生した目づまりの全時間で示し
た。
測定条件と評価結果を第1表にまとめて示した。
〈第
表〉
(注)Al電極とCo−Ni−0膜の距離は5国、被処
理体6の移動速度は2m/sinである。
理体6の移動速度は2m/sinである。
(実施例2)
強磁性金属薄膜を放電電極に対する対向電極として、高
電圧電源により真空中で高電圧放電処理した後、少なく
とも潤滑剤の一部を真空蒸着するようにしたものである
。
電圧電源により真空中で高電圧放電処理した後、少なく
とも潤滑剤の一部を真空蒸着するようにしたものである
。
実施例の磁気記録媒体の製造方法は、上記した構成によ
り、ドロップアウト欠陥部の除去と、さらに除去部の信
頼性、特に耐候特性を向上できるものである。
り、ドロップアウト欠陥部の除去と、さらに除去部の信
頼性、特に耐候特性を向上できるものである。
高電圧放電処理部とは別に、連続して潤滑剤を真空蒸着
できるような装置を用いて実施した例について詳しく説
明する。
できるような装置を用いて実施した例について詳しく説
明する。
厚み8μmのポリエチレンテレフタレートフィルムを用
い、その上面に直径180人のTiO2を35ケ/μボ
となるように塗布し、直径1mの円筒キャンに沿わせて
、最小入射角40度で、酸素分圧4 X 10 ’ (
Torr)とし、Coを0.075μm電子ビーム蒸着
し、その後再度同条件でCOを0.075.czm電子
ビーム蒸着し、計0.15μmの2層蒸着磁性層を形成
した基板を準備した。
い、その上面に直径180人のTiO2を35ケ/μボ
となるように塗布し、直径1mの円筒キャンに沿わせて
、最小入射角40度で、酸素分圧4 X 10 ’ (
Torr)とし、Coを0.075μm電子ビーム蒸着
し、その後再度同条件でCOを0.075.czm電子
ビーム蒸着し、計0.15μmの2層蒸着磁性層を形成
した基板を準備した。
上記した基板を高電圧放電処理した後、別装置で(真空
は破らずに移動して)潤滑剤を真空蒸着し、一部のもの
は、その後大気中で溶液塗布法で、さらに潤滑剤を塗布
し、さらにバンクコート層を設けて、8mm幅の磁気テ
ープに加工して評価した。
は破らずに移動して)潤滑剤を真空蒸着し、一部のもの
は、その後大気中で溶液塗布法で、さらに潤滑剤を塗布
し、さらにバンクコート層を設けて、8mm幅の磁気テ
ープに加工して評価した。
放電処理条件は、基板を2m/minで移動しなからA
1電極と基板の距離を5CITlとし、Al電極に正の
電圧20kVを印加し、これに200 k Hzlok
V、−、の交流電圧を重畳し、あらかしめ真空度を3
x 10−6(Torr)に排気した後、酸素ガスを3
X 10 ′a(Torr)の真空度になるまで導入
して行うように選んだ。なお、比較例は、放電処理しな
いものを使用した。
1電極と基板の距離を5CITlとし、Al電極に正の
電圧20kVを印加し、これに200 k Hzlok
V、−、の交流電圧を重畳し、あらかしめ真空度を3
x 10−6(Torr)に排気した後、酸素ガスを3
X 10 ′a(Torr)の真空度になるまで導入
して行うように選んだ。なお、比較例は、放電処理しな
いものを使用した。
磁気テープの測定条件と、得られた評価結果を第2表に
示した。
示した。
(以 下 余 白)
〈第
表〉
(注)■ スチル寿命は出力が3dB低下するまでの時
間である。
間である。
■ 出力低下は再生8時間の間の出力低下の最大値であ
る。
る。
このように、上記実施例によれば、強磁性金属薄膜を真
空中で高電圧放電処理することによって、磁気記録媒体
上にある大きな突起が除去されるため、ヘッド目づまり
を起さず、ドロップアウトやスチル特性などを著しく向
上できるものである。
空中で高電圧放電処理することによって、磁気記録媒体
上にある大きな突起が除去されるため、ヘッド目づまり
を起さず、ドロップアウトやスチル特性などを著しく向
上できるものである。
発明の効果
本発明は上記実施例より明らかなように、強磁性金属薄
膜を被処理体として真空中で高電圧放電処理することに
よって信号欠落の少ない、耐久性に優れ、ヘッド相性の
良好な磁気記録媒体を製造できるといったすぐれた効果
を有するものである。
膜を被処理体として真空中で高電圧放電処理することに
よって信号欠落の少ない、耐久性に優れ、ヘッド相性の
良好な磁気記録媒体を製造できるといったすぐれた効果
を有するものである。
第1図は本発明の一実施例における磁気記録媒体の製造
方法を実施するために用いた放電処理装置の概略断面正
面図、第2図は従来の蒸着テープ(磁気記録媒体)の部
分拡大断面図である。 6・・・・・・被処理体、9・・・・・・放電電極、1
0・・・・・・高電圧電源。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか1名〜−−藪処
理本 一一一砧屹ミ電源
方法を実施するために用いた放電処理装置の概略断面正
面図、第2図は従来の蒸着テープ(磁気記録媒体)の部
分拡大断面図である。 6・・・・・・被処理体、9・・・・・・放電電極、1
0・・・・・・高電圧電源。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか1名〜−−藪処
理本 一一一砧屹ミ電源
Claims (2)
- (1)強磁性金属薄膜を放電電極に対する対向電極とし
て、高電圧電源により真空中で高電圧放電処理すること
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - (2)強磁性金属薄膜を放電電極に対する対向電極とし
て、高電圧電源により真空中で高電圧放電処理した後、
少なくとも潤滑剤の一部を真空蒸着することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2202159A JPH0487025A (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2202159A JPH0487025A (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0487025A true JPH0487025A (ja) | 1992-03-19 |
Family
ID=16452938
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2202159A Pending JPH0487025A (ja) | 1990-07-30 | 1990-07-30 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0487025A (ja) |
-
1990
- 1990-07-30 JP JP2202159A patent/JPH0487025A/ja active Pending
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