JPH0133104B2 - - Google Patents
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- JPH0133104B2 JPH0133104B2 JP57132922A JP13292282A JPH0133104B2 JP H0133104 B2 JPH0133104 B2 JP H0133104B2 JP 57132922 A JP57132922 A JP 57132922A JP 13292282 A JP13292282 A JP 13292282A JP H0133104 B2 JPH0133104 B2 JP H0133104B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ベンゾチアジンカルボキサミド抗炎
症剤の改良された製造法に関する。 N−置換されたベンゾチアジンカルボキサミド
抗炎症剤合成のための二つの方法が、米国特許第
3591584号に示されている。これらのうちの第一
のものは、N−置換基が複素環成分でないカルボ
キサミドを製造するために用いられる。それは、
有機イソシアネート、R3NCO(式中R3は例えば
一定のアルキル基、フエニル基またはナフチル基
である)を、4−オキソ(または3−オキソ)
1,2−ベンゾチアジンと接触させて、例えば式 の化合物または相当する3−オキソ−4−カルボ
キサミドを生成させることにより成る。 第二の方法は、N−置換基が複素環成分であ
る、それらのアミドの製造に好適であり;その方
法は、所望のベンゾチアジンカルボキサミドを生
成するための、相当するカルボン酸エステルと適
当なアミン、R2NH2(R2は複素環基である)との
反応、 例えば、 を包含する。 米国特許第3891637号には、アミノ基転移工程
によつて、式()のN−複素環アミドを相当す
るN−フエニルアミドから得る方法が示されてい
る。 米国特許第3853862号には、金属水素化物の存
在におけるベンゼンスルホニルグリシンアミド
()の環化による、式()の4−オキソ−1,
2−ベンゾチアジン−3−カルボキサミドの製造
方法、例えば が示されている。 1981年9月15日発行の米国特許第4289879号に
は、相当する3−(2−メトキシエチル)エステ
ルを経由する、ピロクシカム(piroxicam)〔4
−ヒドロキシ−2−メチル−N−(2−ピリジル)
−2H−1,2−ベンゾチアジン−3−カルボキ
サミド1,1−ジオキシド〕の製法が記載されて
いる。 本発明は次式の3,4−ジヒドロ−2H−1,
2−ベンゾチアジン−3−カルボキサミド−1,
1−ジオキシド: (式中、Rは水素、ベンジルまたは炭素数1〜3
のアルキル;Zは2−ピリジル、アルキル置換−
2−ピリジル、2−チアゾリル、1個または2個
のアルキル基で置換された2−チアゾリル、ある
いは5−アルキル−3−イソキサゾリルであり、
ここで各アルキルは炭素数1〜4である) の製法であつて、下記工程 (a) 式 (式中、R1はベンジルまたは炭素数1〜4の
アルキル) のエステルと式ZNH2のアミンとを反応不活性
有機溶媒の存在下約0〜110℃の温度で接触さ
せて式 の中間体を生成し、 (b) 該中間体を単離し、この中間体を反応不活性
溶媒中約120〜200℃の温度で加熱することから
なる方法に関する。 本発明の式()の化合物および本発明の工程
中、置換基R、R1およびZとして特に好適なの
は、次のものである: Rは1から3個の炭素原子を有するアルキル基
であり、 R1は、1から4個の炭素原子を有するアルキ
ル基であり、 そしてZは、2−ピリジル基、2−チアゾリル
基、5−メチル−3−イソキサゾリル基、6−メ
チル−2−ピリジル基、または4,5−ジメチル
−2−チアゾリル基である。 上述の置換基としてさらに特に好適なのは次の
ものである: Rはメチル基であり、 R1はメチル基またはエチル基であり、そして Zは、2−ピリジル基、2−チアゾリル基また
は5−メチル−3−イソキサゾリル基である。本
発明の最も好適な化合物は、式中のRおよびR1
が各々メチル基であつてZが2−ピリジル基であ
る、式()の化合物である。本発明の工程によ
つて得られる相当する式()の抗炎症剤は、総
称的に「ピロクシカム(piroxicam)」として知
られている。例えば、ワイズマン(Wiseman)、
Roy.Soc.Med.Int.Cong.Symp.Ser.1、11−23
(1978)を参照されたい。 本発明の方法は、改良された収率と増大された
生産性という利点を有し、溶媒の体積あたりかな
り多重量の式()の生成物を与える。本発明の
工程によつて得られた式()の生成物は、また
改良された純度をも有している。本発明の工程の
その上の利点は、母液を次のバツチへ繰り返し再
循環させることができ、それによつて好結果が得
られることである。 本発明の工程における式()の中間体の単離
によつて、先行技術の工程においては不可能であ
つた付加的な精製を行なうことができる。こうし
て、この方法では、中間体化合物()の単離に
よつて精製されるため、より純度の低い出発物質
を用いることができる。このことは、抗炎症剤
()の純度を低下させることなく不純なアミン
ZNH2を使用することができるため、明らかな利
点である。さらに、上に定義したような式ZNH2
のアミンは、先行技術の方法によつては精製が困
難であることは、当分野で公知である。 本発明方法におけるの式()の化合物は、ほ
ぼ等モル量の、式()の4−オキソ−1,2−
ベンゾチアジン−3−カルボン酸エステルと適当
なアミン、ZNH2(式中Zは先に定義した通りで
ある)とを接触させることによつて得られる。こ
の反応は、反応に不活性な有機溶媒の存在におい
て、温度約0から110℃、および反応時間24時間
まで、で実施される。この反応に対する特に好適
な温度範囲は約20から90℃であり、この温度で
は、この反応は通常数分から数時間、例えば15分
から約4時間で完了する。その後、所望ならば式
()の生成物は、例えば、この反応混合物を室
温またはそれ以下に冷却し、沈澱した固体を過
して集め、そして乾燥させることによつて、単離
される。 この中で限定された反応に不活性な有機溶媒
は、用いられる反応条件で出発物質または反応生
成物のどちらとも目に見えるほど反応せず、しか
も反応温度またはそれ以下の温度で、少なくとも
実質分の出発物質を溶解させることができるもの
である。さらに、上記の溶媒は、当技術分野に習
熟した人には公知の標準的な技術によつて所望の
生成物がその溶媒から容易に回収できるものであ
る。式()の所望の化合物の製造に使用され得
る、反応に不活性な有機溶媒の例は、ベンゼン、
トルエン、キシレン類、エチルベンゼン、テトラ
リンおよびデカリンのような炭化水素類;クロロ
ホルム、二塩化メチレン、二塩化エチレン、臭化
エチルおよび二臭化エチレンのようなハロゲン化
炭化水素類;アセトンおよびメチルエチルケトン
のようなケトン類;エチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、1,2−ジメトキシエタンおよびジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエー
テル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドおよびN−メチル−2−ピロリジノンのよ
うなジアルキルアミド類;ジメチルスルホキシド
およびアセトニトリル;である。特に好適なの
は、少くとも、用いられる最高反応温度と同じ位
高い大気沸点を有する、上述の溶媒である。特に
好適なのは、経済性および効率のため、商用混合
キシレンである。 式()の生成物に関する最初の研究では、そ
のような反応のための古典的な(不安定な)中間
体に類似する構造を形成するための、アミンとエ
ステルとの間の共有結合が示唆された。しかしな
がら、さらに研究した結果は、1:1モル付加物
が、実験式()の化合物の構造をより正確に表
すことを強く示唆している。 13C−NMRおよび
1H−NMRスペクトル証拠および赤外スペクト
ルにおける二つのカルボニル帯の存在は、特に、
そのような付加物と一致している。 上述したように、式()の化合物は、R1OH
の除去による式()の抗炎症剤の生成における
中間体として有用である。 上の反応もまた、上に限定した、特に好適な反
応に不活性な有機溶媒の一つの存在において実施
されるが、但し、温度は、反応中に発生するアル
コールを追い出すために、高められた温度で実施
される。この反応に好適な温度は、約120から200
℃であり、特に好適なのは約135から145℃であ
る。 上記反応による式()の化合物の生成に使用
され得る、反応に不活性な有機溶媒は、好適な温
度範囲より実質的に低い温度で沸とうしそのため
高圧装置の使用を必要とするであろう溶媒を除い
て、本発明の式()の化合物の生成のために上
に示したものと同じである。この反応に特に適す
る溶媒は、トリエン、キシレン類、エチルベンゼ
ン、テトラリンおよびデカリンであり;そして最
も好適なのは、経済性と効率の点から、混合キシ
レンである。もちろん、当分野に習熟した人に認
められる通り混合キシレンは、温度制御と副生成
物のアルコール、R1OHの除去とを容易にする特
徴である、特に好適な温度範囲内の沸点を有する
という利点を有している。 本発明の工程の第一段階においては、式()
の固体中間体生成物の形成は、エステル()と
アミンZNH2を反応させて直接()を形成させ
る先行技術の工程では不可能な精製法を与える。
このため、比較的不純な式()およびZNH2の
出発物質が、この方法においては使用されること
ができ、そして抗炎症剤()に変換する前に、
新規な式()の中間体を単離することによつて
精製を行なうことができる。 本発明の方法のさらに別の利点は、所望の生成
物()が改良された収率で、しかも、最も好ま
しい先行技術方法、すなわち、相当する3−カル
ボン酸エステルとZNH2(Zはこの中で定義した
通りである)のような複素環式アミンを経る、ベ
ンゾチアジン−3−カルボキサミドの生成につい
て上述した米国特許第3591584号の方法について
可能であるよりもさらに大きな処理量で、得られ
ることができることである。先行技術法において
は、溶媒100mlあたり約3gより大きな全反応体
濃度が用いられるとき、反応混合物は比較的高水
準の分解生成物と着色体を生成し、それが式
()の所望生成物の単離を困難にし、それ以上
の費用のかかる精製段階なしには薬学的使用に適
さない不純な生成物を与える。 しかしながら、本発明の工程は、生成物の収量
またはその純度を犠牲にすることなく、処理量が
段階(b)において100mlあたり6−8グラムまたは
それ以上に増大されることのできるような方法で
実施されることができる。これは段階(a)で得られ
る式()の新規な中間体化合物を単離し、それ
を数回に分けて、段階(b)で用いられる加熱された
溶媒混合物に加えて、要素R1OHを除去し生成物
()を高収率および高純度で形成させることに
よつて達成される。 本発明の工程について証明されることのできる
さらにもう一つの利点は、母液が次の反応操作に
くり返し再循環させられることができることであ
る。本工程において母液をくり返し再循環させた
後に、高収率高純度の生成物が観察され、こうし
て母液中に保留された生成物の損失が避けられ
る。これと対照的に、再循環を先行技術工程につ
いて実施するときは不純物の堆積が、二・三回の
母液の再循環後には非常に大きくなつて、所望の
生成物を単離することができないか、あるいは非
常な困難を伴なつてしか単離することができな
い。 以下の実施例は、特許請求された発明を説明す
るものである。NMRのピークの多重度に対して
次の省略が用いられる: s、単一線;d、二重線;t、三重線;tの
d、三重線の二重線;q、四重線;m、多重線。 参考例 1 式()、R=R1=CH3、Z1=2−ピリジル基
の結晶性化合物 窒素雰囲気下で、300mlのキシレン中の120g
(0.446モル)の3.4−ジヒドロ−2−メチル−4
−オキソ−2H−1,2−ベンゾチアジン−3−
カルボン酸メチル−1,1−ジオキシドの溶液
に、48g(0.510モル)の2−アミノ−ピリジン
を加える。この混合物を、はげしくかくはんしな
がら80℃に加熱し、この温度に2時間保ち室温ま
で冷却し、過して乾燥させると、所望の錯化合
物158.6g(98%)が、黄色の結晶、融点132−
133℃、として得られる。 試料を、2:1(体積比)メタノール/水中の
0.50Nの塩酸で滴定すると、中和当量は367.6(理
論値363)であつた。質量スペクトル(m/e)
親ピークは331。赤外スペクトル(KBr)cm-1:
1675および1660cm-1で強いカルボニル基の吸収。 分析:C16H17N3O5Sとしての 計算値:C、52.89;H、4.72;N、11.56 実測値:C、52.88;H、4.77;N、11.66 250MHz 1H−NMR(CDCl3)ppm(デルタ): ppm 多重度 積分 8.05 m 2 7.88 m 1 7.73 m 2 7.44 tのd 1 6.60 tのd 1 6.52 d 1 3.97 s 3 2.96 s 3 13C−NMR(DMSO): 線 ppm 多重度 1 167988 s 2 158917 s 3 158449 s 4 146076 d 5 137673 d 6 134902 s 7 133005 d 8 132743 d 9 128662 s 10 126557 d 11 123381 d 12 111736 d 13 109330 s 14 108609 d 15 52458 q 16 38489 q ピロシクロカム(piroxicam)と3,4−ジヒ
ドロ−2−メチル−4−オキソ−2H−1,2−
ベンゾチアジン−3−カルボン酸メチル1,1−
ジオキシドとの 13C−NMRスペクトルの比較の
ためにウイツプル(Whipple)、オルガニツク・
マグネテイツク・レゾナンス(Organic
Magnetic Resonance)、10、23(1977)を参照さ
れたい。 ジメチルスルホキシド中の上記生成物の試料
に、3,4−ジヒドロ−2−メチル−4−オキソ
−2H−1,2−ベンゾチアジン−3−カルボン
酸メチル1,1−ジオキシド1.0当量を添加する
と、 13C−NMRスペクトルの線のうち11が増大
し、化学シフトはわずかに変化した。このこと
は、溶液中ではNMR時間目盛の間にすばやい交
換があることをはつきり示している。 X線回析のために、上記で得られた生成物を室
温でアセトンから結晶化させて大きな黄色立方体
の結晶を得た。融点132℃(鋭い) X線データから、次のことが結論された。 (イ) エノール性プロトンは2−アミノピリジンの
環上の窒素およびエステルカルボニル酸素原子
に結合した水素であること; (ロ) 2−アミノ基のプロトンのうちの1つはエノ
ール性酸素原子に結合されていること; (ハ) 他の2−アミノプロトンは上記生成物のもう
1つの分子のスルホンの酸素原子に結合された
水素であること; (ニ) 上記生成物の構造は下記式によつて表わされ
る: (式、R=R1=CH3、Z1は2−ピリジル環
を完成する) 参考例 2 13mlのアセトンに、2.69g(0.01モル)の3,
4−ジヒドロ−2−メチル−4−オキソ−2H−
1,2−ベンゾチアジン−3−カルボン酸メチル
1,1−ジオキシドおよび0.94g(0.01モル)の
2−アミノピリジンを加え、混合物を温めて溶液
とする。この黄色の溶液を、沈澱が完了するまで
冷蔵して、過し、黄色の結晶を乾燥させて、化
合物()、R=R1=CH3、Z=2−ピリジル
基、融点132−133℃を84%の収率で得る。 上記の工程を、同じ規模で、アセトンの代りに
種々の反応に不活性な有機溶媒を用いて、くり返
す。その結果を下の表に要約する。 【表】 めに温
める
【表】 いて沈澱さ
せた
上の反応を、溶媒としてのアセトン中であるが
1モル過剰のメチルエステルまたは2−アミノピ
リジン反応体を用いてくり返すときは、同じ生成
物が黄色結晶、融点132−134℃として得られる。
エステル反応体()を過剰に用いるとき、それ
は時にはフラスコの側面に付着する白色固体とし
てあらわれ、このものは式()の黄色結晶から
容易に分離される。 この工程を0℃のテトラヒドロフラン中または
110℃のトルエン中でくり返すとき、結果は実質
上同一である。 参考例 3 3,4−ジヒドロ−2−メチル−4−オキソ−
2H−1,2−ベンゾチアジン−3−カルボン酸
メチル1,1−ジオキシドを適当な式()の化
合物で置き換えて、参考例1または2の工程をく
り返すとき、相当する、Zが2−ピリジル基であ
る式()の化合物が得られる。 R R1 CH3 C2H5 CH3 n−C3H7 C2H5 i−C3H7 C6H5CH2 n−C4H9 CH3 i−C4H9 i−C3H7 n−C4H9 n−C3H7 sec−C4H9 C6H5CH2 CH3 H n−C4H9 H C2H5 参考例 4 式()、R=R1=CH3、Z=2−チアゾリル
基、の結晶性化合物 窒素下でかくはんした、3,4−ジヒドロ−2
−メチル−4−オキソ−2H−1,2−ベンゾチ
アジン−3−カルボン酸メチル1,1−ジオキシ
ド2.69g(10ミリモル)とキシレン50mlとの混合
物に、1.05g(10.5ミリモル)の2−アミノチア
ゾールを加える。この混合物を3時間85−90℃に
加熱し、室温まで冷却して過しそして褐色の結
晶性生成物を真空乾燥させて表題化合物2.3g
(62.3%)、融点131−141℃を得る。 この結晶生成物を20mlの塩化メチレンに溶解さ
せ、活性炭を加えて脱色した後過する。この
液を十分にかくはんしながらヘキサンに添加し1
時間粗砕し、その後過すると白色結晶生成物;
融点140〜145℃、が1.35g得られた。 溶媒としてアセトン、塩化メチレン、エチルエ
ーテル、二臭化エチレン、1,2−ジメトキシエ
タン、ベンゼン、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、エチルベンゼン、トルエンまた
はデカリンを用いて温度0−110℃で2−24時間、
上記工程をくり返すとき、式()の所望の生成
物が同様に得られる。 参考例 5 適当な、式()およびZNH2の出発物質を用
いることによつて、参考例1−4の工程によつて
次の式()の化合物が得られる。 【表】 【表】 ジル
【表】 【表】 チアゾリル
参考例 6 ピロクシカムの標準的製造法 温度計、充填蒸留塔、冷却機およびかくはん機
をとりつけた5リツトルフラスコに、窒素粉囲気
下で、混合キシレン3300ml、3,4−ジヒドロ−
2−メチル−4−オキソ−2H−1,2−ベンゾ
チアジン−3−カルボン酸メチル1,1−ジオキ
シド80g(0.297モル)、2−アミノピリジン32g
(0.340モル)および活性炭(Darco G−60※ま
たはDarco KBB※)8gを加える。この混合物
を28時間加熱還流(約140℃)させるが、その間、
最初の8時間は毎時約25mlの速度でその後残りの
還流期間は毎時5−10mlの速度で、メタノールと
キシレンとを蒸留して除き、一方で新しいキシレ
ンを加えて反応物の容積を約3500mlに保つ。28時
間後に、この反応混合物を少し冷却し(〜100
℃)、過して炭素を除去する。この炭素ケーキ
を温キシレン(100ml)で洗浄し、液と洗浄液
を迅速にかくかんしながら窒素雰囲気下で25−50
℃までゆつくり冷却した。完全に結晶化させるた
めに、1時間かくはんを続けた。結晶を過によ
つて集め、母液を約1500mlまで濃縮し、窒素下で
0−5℃に冷却し、過して、このケーキを100
mlの冷キシレンで洗浄し、そして結晶を真空下60
℃以下で数時間乾燥させた。収量は、76.7−84.6
g(理論量の78−86%)である。平均処理量24.4
g/溶媒。 ※アイ・シー・アイ・アメリカ社 (ICIAmerica、Inc.)の登録商標 実施例 1 中間体(I、R=R1=CH3、Z=2−ピリジ
ル基)を用いる改良されたピロクシカム法 A 窒素でパージした1リツトルフラスコに、混
合キシレン300ml、3,4−ジヒドロ−2−メ
チル−4−オキソ−2H−1,2−ベンゾチア
ジン−3−カルボン酸メチル1,1−ジオキシ
ド120g(0.446モル)および2−アミノピリジ
ン48g(0.510モル)を加える。この混合物を
90℃に加熱し、この温度で1時間迅速にかくは
んしてから、窒素雰囲気下で冷却させる。 3300mlのキシレンを含有する5リツトルフラ
スコに、12gの活性炭(Darco G−60)を加
え、この混合物を加熱還流させ、その間に分離
器/デカンター中にキシレン/水を集める。こ
のものに、上で得た上記の式()の中間体化
合物のキシレンスラリーの半分を加える。この
混合物を還流させて、メタノール/キシレンを
毎時25mlの速度で蒸留して除くが、一方で新し
いキシレンを加えて反応体積を約3500mlに保持
する。4時間後に、残留する中間体化合物のス
ラリーの3分の1を加え、同じ速度でメタノー
ル/キシレンの蒸留を続行する。中間体の残留
部(3分の1または残部)を8時間および12時
間で各々加え、そして蒸留を25ml/時で、全体
で16時間続ける。16時間後に、蒸留添加を毎時
12.5mlに下げて全体で34時間続ける。 反応混合物を約100℃まで冷却して、過し
て炭素を除去し、この炭素ケーキを100mlの温
キシレンで洗浄する。液を窒素でパージし
て、迅速にかくはぼしながら25−50℃に冷却す
る。完全に結晶するように1時間かくはんを続
ける。この結晶を過によつて集め、母液を濃
縮して約1500mlとし、窒素下で0−5℃に冷却
して過し、ケーキを100mlの冷キシレンで洗
浄し、そして結晶性生成物を60℃以下で真空乾
燥させる。ピロクシカムの収量は、121−132.8
g(理論の82−90%)である。平均処理量38.5
g/溶媒。 B 次のように変形して上記工程をくり返す:窒
素雰囲気下で、混合キシレン600mlに、160g
(0.594モル)の3,4−ジヒドロ−2−メチル
−4−オキソ−2H−1,2−ベンゾチアジン
−3−カルボン酸メチル1,1−ジオキシドと
60g(0.637モル)の工業銘柄の2−アミノピ
リジンを加える。混合物を2時間、85−90℃に
加熱し、20−25℃に冷却し、この温度で2時間
かくはんする。こうして得られる結晶性中間体
を過によつて集めて、100mlの冷キシレンで
洗浄する。秤量した溶媒で湿つた結晶の試料を
真空乾燥させた。乾燥試料の差動走査熱量測定
は132.9℃で単一の鋭いピークを示した。乾燥
した試量の重量から、式()、R=R1=
CH3、Z=2−ピリジル基、の中間体の収量が
215.9g(98%)であることが決定される。 3300mlの混合キシレンに、3gの2−アミノ
ピリジン、8gの活性炭(Darco KBB)を加
え、系に水分がなくなるまで混合物を加熱して
静かに還流させその間にキシレン/水を集め
る。その後50mlのキシレンと混合した上記結晶
性中間体81g(乾燥重量基準)(0.223モル)を
加える。反応混合物を加熱還流させて、25ml/
時の速度でメタノール/キシレンを分離する。
上で得た215.9gが全て消費されるまで2時間
毎に追加の17gの中間体を加える。これには約
16時間を要する。20時間に達するまで25ml/時
での還流を続け、そのときに還流速度を12−13
ml/時に下げる。必要に応じてキシレンを添加
することによつて、全反応容積を3.3リツトル
と3.7リツトルとの間に保つ。全反応時間34時
間後に、混合物を冷却し、生成物を上のA部の
ように単離すると、165.3g(84%)のピロク
シカムが得られる。処理量50g/溶媒リツト
ル。 比較例 母液の再循環を用いる、標準ピロクシカム法と
改良ピロクシカム法との比較 標準法(参考例6)および改良法(実施例1)
を、第2、第3および第4操作の各々において、
前の操作からの母液を再循環させて、各々4回く
り返した。結果を下に要約する。 【表】 作の平均
この再循環実験の各段階で、標準法を用いるバ
ツチはより高い色水準を有し、これは漸進的にさ
らにはつきりとしてきた。標準法による第4操作
では、結晶化をひきおこされることのできないシ
ロツプのみが得られた。それい比べて、改良法で
は第4操作で93%の収率を得た。標準法では生成
物が得られなかつたので、この実験はこの時点で
停止した。改良法によれば第4操作後に、母液は
まだ透明であり、そして仮に行なわれたとすれ
ば、かなり有利に、それ以上の操作に使用される
ことができたであろう。 実施例 2 中間体として、参考例3で製造された適当な式
()の化合物を用いて、実施例1および比較例
の工程をくり返すとき、次の式()の生成物も
また改良された収率および処理量で得られる。 式中RおよびR1は参考例3で定義した通りで
ある。 実施例 3 実施例1の工程および比較例の再循環工程で、
出発物質として参考例4および5で製造された式
()の化合物を用いると、以下の式()の生
成物もまた改良された収率および処理量で得られ
る。 式中、RおよびZは、参考例4および5で定義
した通りである。 実施例 4 中間体(、R=R1=CH3、Z=2−チアゾ
リル基)を用いる改良スドキシカム
(Sudoxicam)法 キシレン30mlと、先に得た式()の結晶性2
−チアゾリル中間体0.5gとを含有するフラスコ
を、2.5時間あたり5mlの速度でゆつくり蒸留す
る。それから、キシレン(5ml)と中間体0.25g
を加え、上のように蒸留をくり返す。さらにもう
一度それをくり返した後、混合物を全体で7時間
環流させた。その後混合物を週末中(〜60時間)、
周囲温度でかくはんし、過して、ピロクシカム
の2−チアゾリル同族体である、生成物スドキシ
カム(Sudoxicam)、65%収率(590mg)、融点
245−247℃(分解)、を除去する。
症剤の改良された製造法に関する。 N−置換されたベンゾチアジンカルボキサミド
抗炎症剤合成のための二つの方法が、米国特許第
3591584号に示されている。これらのうちの第一
のものは、N−置換基が複素環成分でないカルボ
キサミドを製造するために用いられる。それは、
有機イソシアネート、R3NCO(式中R3は例えば
一定のアルキル基、フエニル基またはナフチル基
である)を、4−オキソ(または3−オキソ)
1,2−ベンゾチアジンと接触させて、例えば式 の化合物または相当する3−オキソ−4−カルボ
キサミドを生成させることにより成る。 第二の方法は、N−置換基が複素環成分であ
る、それらのアミドの製造に好適であり;その方
法は、所望のベンゾチアジンカルボキサミドを生
成するための、相当するカルボン酸エステルと適
当なアミン、R2NH2(R2は複素環基である)との
反応、 例えば、 を包含する。 米国特許第3891637号には、アミノ基転移工程
によつて、式()のN−複素環アミドを相当す
るN−フエニルアミドから得る方法が示されてい
る。 米国特許第3853862号には、金属水素化物の存
在におけるベンゼンスルホニルグリシンアミド
()の環化による、式()の4−オキソ−1,
2−ベンゾチアジン−3−カルボキサミドの製造
方法、例えば が示されている。 1981年9月15日発行の米国特許第4289879号に
は、相当する3−(2−メトキシエチル)エステ
ルを経由する、ピロクシカム(piroxicam)〔4
−ヒドロキシ−2−メチル−N−(2−ピリジル)
−2H−1,2−ベンゾチアジン−3−カルボキ
サミド1,1−ジオキシド〕の製法が記載されて
いる。 本発明は次式の3,4−ジヒドロ−2H−1,
2−ベンゾチアジン−3−カルボキサミド−1,
1−ジオキシド: (式中、Rは水素、ベンジルまたは炭素数1〜3
のアルキル;Zは2−ピリジル、アルキル置換−
2−ピリジル、2−チアゾリル、1個または2個
のアルキル基で置換された2−チアゾリル、ある
いは5−アルキル−3−イソキサゾリルであり、
ここで各アルキルは炭素数1〜4である) の製法であつて、下記工程 (a) 式 (式中、R1はベンジルまたは炭素数1〜4の
アルキル) のエステルと式ZNH2のアミンとを反応不活性
有機溶媒の存在下約0〜110℃の温度で接触さ
せて式 の中間体を生成し、 (b) 該中間体を単離し、この中間体を反応不活性
溶媒中約120〜200℃の温度で加熱することから
なる方法に関する。 本発明の式()の化合物および本発明の工程
中、置換基R、R1およびZとして特に好適なの
は、次のものである: Rは1から3個の炭素原子を有するアルキル基
であり、 R1は、1から4個の炭素原子を有するアルキ
ル基であり、 そしてZは、2−ピリジル基、2−チアゾリル
基、5−メチル−3−イソキサゾリル基、6−メ
チル−2−ピリジル基、または4,5−ジメチル
−2−チアゾリル基である。 上述の置換基としてさらに特に好適なのは次の
ものである: Rはメチル基であり、 R1はメチル基またはエチル基であり、そして Zは、2−ピリジル基、2−チアゾリル基また
は5−メチル−3−イソキサゾリル基である。本
発明の最も好適な化合物は、式中のRおよびR1
が各々メチル基であつてZが2−ピリジル基であ
る、式()の化合物である。本発明の工程によ
つて得られる相当する式()の抗炎症剤は、総
称的に「ピロクシカム(piroxicam)」として知
られている。例えば、ワイズマン(Wiseman)、
Roy.Soc.Med.Int.Cong.Symp.Ser.1、11−23
(1978)を参照されたい。 本発明の方法は、改良された収率と増大された
生産性という利点を有し、溶媒の体積あたりかな
り多重量の式()の生成物を与える。本発明の
工程によつて得られた式()の生成物は、また
改良された純度をも有している。本発明の工程の
その上の利点は、母液を次のバツチへ繰り返し再
循環させることができ、それによつて好結果が得
られることである。 本発明の工程における式()の中間体の単離
によつて、先行技術の工程においては不可能であ
つた付加的な精製を行なうことができる。こうし
て、この方法では、中間体化合物()の単離に
よつて精製されるため、より純度の低い出発物質
を用いることができる。このことは、抗炎症剤
()の純度を低下させることなく不純なアミン
ZNH2を使用することができるため、明らかな利
点である。さらに、上に定義したような式ZNH2
のアミンは、先行技術の方法によつては精製が困
難であることは、当分野で公知である。 本発明方法におけるの式()の化合物は、ほ
ぼ等モル量の、式()の4−オキソ−1,2−
ベンゾチアジン−3−カルボン酸エステルと適当
なアミン、ZNH2(式中Zは先に定義した通りで
ある)とを接触させることによつて得られる。こ
の反応は、反応に不活性な有機溶媒の存在におい
て、温度約0から110℃、および反応時間24時間
まで、で実施される。この反応に対する特に好適
な温度範囲は約20から90℃であり、この温度で
は、この反応は通常数分から数時間、例えば15分
から約4時間で完了する。その後、所望ならば式
()の生成物は、例えば、この反応混合物を室
温またはそれ以下に冷却し、沈澱した固体を過
して集め、そして乾燥させることによつて、単離
される。 この中で限定された反応に不活性な有機溶媒
は、用いられる反応条件で出発物質または反応生
成物のどちらとも目に見えるほど反応せず、しか
も反応温度またはそれ以下の温度で、少なくとも
実質分の出発物質を溶解させることができるもの
である。さらに、上記の溶媒は、当技術分野に習
熟した人には公知の標準的な技術によつて所望の
生成物がその溶媒から容易に回収できるものであ
る。式()の所望の化合物の製造に使用され得
る、反応に不活性な有機溶媒の例は、ベンゼン、
トルエン、キシレン類、エチルベンゼン、テトラ
リンおよびデカリンのような炭化水素類;クロロ
ホルム、二塩化メチレン、二塩化エチレン、臭化
エチルおよび二臭化エチレンのようなハロゲン化
炭化水素類;アセトンおよびメチルエチルケトン
のようなケトン類;エチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、1,2−ジメトキシエタンおよびジエ
チレングリコールジメチルエーテルのようなエー
テル類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミドおよびN−メチル−2−ピロリジノンのよ
うなジアルキルアミド類;ジメチルスルホキシド
およびアセトニトリル;である。特に好適なの
は、少くとも、用いられる最高反応温度と同じ位
高い大気沸点を有する、上述の溶媒である。特に
好適なのは、経済性および効率のため、商用混合
キシレンである。 式()の生成物に関する最初の研究では、そ
のような反応のための古典的な(不安定な)中間
体に類似する構造を形成するための、アミンとエ
ステルとの間の共有結合が示唆された。しかしな
がら、さらに研究した結果は、1:1モル付加物
が、実験式()の化合物の構造をより正確に表
すことを強く示唆している。 13C−NMRおよび
1H−NMRスペクトル証拠および赤外スペクト
ルにおける二つのカルボニル帯の存在は、特に、
そのような付加物と一致している。 上述したように、式()の化合物は、R1OH
の除去による式()の抗炎症剤の生成における
中間体として有用である。 上の反応もまた、上に限定した、特に好適な反
応に不活性な有機溶媒の一つの存在において実施
されるが、但し、温度は、反応中に発生するアル
コールを追い出すために、高められた温度で実施
される。この反応に好適な温度は、約120から200
℃であり、特に好適なのは約135から145℃であ
る。 上記反応による式()の化合物の生成に使用
され得る、反応に不活性な有機溶媒は、好適な温
度範囲より実質的に低い温度で沸とうしそのため
高圧装置の使用を必要とするであろう溶媒を除い
て、本発明の式()の化合物の生成のために上
に示したものと同じである。この反応に特に適す
る溶媒は、トリエン、キシレン類、エチルベンゼ
ン、テトラリンおよびデカリンであり;そして最
も好適なのは、経済性と効率の点から、混合キシ
レンである。もちろん、当分野に習熟した人に認
められる通り混合キシレンは、温度制御と副生成
物のアルコール、R1OHの除去とを容易にする特
徴である、特に好適な温度範囲内の沸点を有する
という利点を有している。 本発明の工程の第一段階においては、式()
の固体中間体生成物の形成は、エステル()と
アミンZNH2を反応させて直接()を形成させ
る先行技術の工程では不可能な精製法を与える。
このため、比較的不純な式()およびZNH2の
出発物質が、この方法においては使用されること
ができ、そして抗炎症剤()に変換する前に、
新規な式()の中間体を単離することによつて
精製を行なうことができる。 本発明の方法のさらに別の利点は、所望の生成
物()が改良された収率で、しかも、最も好ま
しい先行技術方法、すなわち、相当する3−カル
ボン酸エステルとZNH2(Zはこの中で定義した
通りである)のような複素環式アミンを経る、ベ
ンゾチアジン−3−カルボキサミドの生成につい
て上述した米国特許第3591584号の方法について
可能であるよりもさらに大きな処理量で、得られ
ることができることである。先行技術法において
は、溶媒100mlあたり約3gより大きな全反応体
濃度が用いられるとき、反応混合物は比較的高水
準の分解生成物と着色体を生成し、それが式
()の所望生成物の単離を困難にし、それ以上
の費用のかかる精製段階なしには薬学的使用に適
さない不純な生成物を与える。 しかしながら、本発明の工程は、生成物の収量
またはその純度を犠牲にすることなく、処理量が
段階(b)において100mlあたり6−8グラムまたは
それ以上に増大されることのできるような方法で
実施されることができる。これは段階(a)で得られ
る式()の新規な中間体化合物を単離し、それ
を数回に分けて、段階(b)で用いられる加熱された
溶媒混合物に加えて、要素R1OHを除去し生成物
()を高収率および高純度で形成させることに
よつて達成される。 本発明の工程について証明されることのできる
さらにもう一つの利点は、母液が次の反応操作に
くり返し再循環させられることができることであ
る。本工程において母液をくり返し再循環させた
後に、高収率高純度の生成物が観察され、こうし
て母液中に保留された生成物の損失が避けられ
る。これと対照的に、再循環を先行技術工程につ
いて実施するときは不純物の堆積が、二・三回の
母液の再循環後には非常に大きくなつて、所望の
生成物を単離することができないか、あるいは非
常な困難を伴なつてしか単離することができな
い。 以下の実施例は、特許請求された発明を説明す
るものである。NMRのピークの多重度に対して
次の省略が用いられる: s、単一線;d、二重線;t、三重線;tの
d、三重線の二重線;q、四重線;m、多重線。 参考例 1 式()、R=R1=CH3、Z1=2−ピリジル基
の結晶性化合物 窒素雰囲気下で、300mlのキシレン中の120g
(0.446モル)の3.4−ジヒドロ−2−メチル−4
−オキソ−2H−1,2−ベンゾチアジン−3−
カルボン酸メチル−1,1−ジオキシドの溶液
に、48g(0.510モル)の2−アミノ−ピリジン
を加える。この混合物を、はげしくかくはんしな
がら80℃に加熱し、この温度に2時間保ち室温ま
で冷却し、過して乾燥させると、所望の錯化合
物158.6g(98%)が、黄色の結晶、融点132−
133℃、として得られる。 試料を、2:1(体積比)メタノール/水中の
0.50Nの塩酸で滴定すると、中和当量は367.6(理
論値363)であつた。質量スペクトル(m/e)
親ピークは331。赤外スペクトル(KBr)cm-1:
1675および1660cm-1で強いカルボニル基の吸収。 分析:C16H17N3O5Sとしての 計算値:C、52.89;H、4.72;N、11.56 実測値:C、52.88;H、4.77;N、11.66 250MHz 1H−NMR(CDCl3)ppm(デルタ): ppm 多重度 積分 8.05 m 2 7.88 m 1 7.73 m 2 7.44 tのd 1 6.60 tのd 1 6.52 d 1 3.97 s 3 2.96 s 3 13C−NMR(DMSO): 線 ppm 多重度 1 167988 s 2 158917 s 3 158449 s 4 146076 d 5 137673 d 6 134902 s 7 133005 d 8 132743 d 9 128662 s 10 126557 d 11 123381 d 12 111736 d 13 109330 s 14 108609 d 15 52458 q 16 38489 q ピロシクロカム(piroxicam)と3,4−ジヒ
ドロ−2−メチル−4−オキソ−2H−1,2−
ベンゾチアジン−3−カルボン酸メチル1,1−
ジオキシドとの 13C−NMRスペクトルの比較の
ためにウイツプル(Whipple)、オルガニツク・
マグネテイツク・レゾナンス(Organic
Magnetic Resonance)、10、23(1977)を参照さ
れたい。 ジメチルスルホキシド中の上記生成物の試料
に、3,4−ジヒドロ−2−メチル−4−オキソ
−2H−1,2−ベンゾチアジン−3−カルボン
酸メチル1,1−ジオキシド1.0当量を添加する
と、 13C−NMRスペクトルの線のうち11が増大
し、化学シフトはわずかに変化した。このこと
は、溶液中ではNMR時間目盛の間にすばやい交
換があることをはつきり示している。 X線回析のために、上記で得られた生成物を室
温でアセトンから結晶化させて大きな黄色立方体
の結晶を得た。融点132℃(鋭い) X線データから、次のことが結論された。 (イ) エノール性プロトンは2−アミノピリジンの
環上の窒素およびエステルカルボニル酸素原子
に結合した水素であること; (ロ) 2−アミノ基のプロトンのうちの1つはエノ
ール性酸素原子に結合されていること; (ハ) 他の2−アミノプロトンは上記生成物のもう
1つの分子のスルホンの酸素原子に結合された
水素であること; (ニ) 上記生成物の構造は下記式によつて表わされ
る: (式、R=R1=CH3、Z1は2−ピリジル環
を完成する) 参考例 2 13mlのアセトンに、2.69g(0.01モル)の3,
4−ジヒドロ−2−メチル−4−オキソ−2H−
1,2−ベンゾチアジン−3−カルボン酸メチル
1,1−ジオキシドおよび0.94g(0.01モル)の
2−アミノピリジンを加え、混合物を温めて溶液
とする。この黄色の溶液を、沈澱が完了するまで
冷蔵して、過し、黄色の結晶を乾燥させて、化
合物()、R=R1=CH3、Z=2−ピリジル
基、融点132−133℃を84%の収率で得る。 上記の工程を、同じ規模で、アセトンの代りに
種々の反応に不活性な有機溶媒を用いて、くり返
す。その結果を下の表に要約する。 【表】 めに温
める
【表】 いて沈澱さ
せた
上の反応を、溶媒としてのアセトン中であるが
1モル過剰のメチルエステルまたは2−アミノピ
リジン反応体を用いてくり返すときは、同じ生成
物が黄色結晶、融点132−134℃として得られる。
エステル反応体()を過剰に用いるとき、それ
は時にはフラスコの側面に付着する白色固体とし
てあらわれ、このものは式()の黄色結晶から
容易に分離される。 この工程を0℃のテトラヒドロフラン中または
110℃のトルエン中でくり返すとき、結果は実質
上同一である。 参考例 3 3,4−ジヒドロ−2−メチル−4−オキソ−
2H−1,2−ベンゾチアジン−3−カルボン酸
メチル1,1−ジオキシドを適当な式()の化
合物で置き換えて、参考例1または2の工程をく
り返すとき、相当する、Zが2−ピリジル基であ
る式()の化合物が得られる。 R R1 CH3 C2H5 CH3 n−C3H7 C2H5 i−C3H7 C6H5CH2 n−C4H9 CH3 i−C4H9 i−C3H7 n−C4H9 n−C3H7 sec−C4H9 C6H5CH2 CH3 H n−C4H9 H C2H5 参考例 4 式()、R=R1=CH3、Z=2−チアゾリル
基、の結晶性化合物 窒素下でかくはんした、3,4−ジヒドロ−2
−メチル−4−オキソ−2H−1,2−ベンゾチ
アジン−3−カルボン酸メチル1,1−ジオキシ
ド2.69g(10ミリモル)とキシレン50mlとの混合
物に、1.05g(10.5ミリモル)の2−アミノチア
ゾールを加える。この混合物を3時間85−90℃に
加熱し、室温まで冷却して過しそして褐色の結
晶性生成物を真空乾燥させて表題化合物2.3g
(62.3%)、融点131−141℃を得る。 この結晶生成物を20mlの塩化メチレンに溶解さ
せ、活性炭を加えて脱色した後過する。この
液を十分にかくはんしながらヘキサンに添加し1
時間粗砕し、その後過すると白色結晶生成物;
融点140〜145℃、が1.35g得られた。 溶媒としてアセトン、塩化メチレン、エチルエ
ーテル、二臭化エチレン、1,2−ジメトキシエ
タン、ベンゼン、ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミド、エチルベンゼン、トルエンまた
はデカリンを用いて温度0−110℃で2−24時間、
上記工程をくり返すとき、式()の所望の生成
物が同様に得られる。 参考例 5 適当な、式()およびZNH2の出発物質を用
いることによつて、参考例1−4の工程によつて
次の式()の化合物が得られる。 【表】 【表】 ジル
【表】 【表】 チアゾリル
参考例 6 ピロクシカムの標準的製造法 温度計、充填蒸留塔、冷却機およびかくはん機
をとりつけた5リツトルフラスコに、窒素粉囲気
下で、混合キシレン3300ml、3,4−ジヒドロ−
2−メチル−4−オキソ−2H−1,2−ベンゾ
チアジン−3−カルボン酸メチル1,1−ジオキ
シド80g(0.297モル)、2−アミノピリジン32g
(0.340モル)および活性炭(Darco G−60※ま
たはDarco KBB※)8gを加える。この混合物
を28時間加熱還流(約140℃)させるが、その間、
最初の8時間は毎時約25mlの速度でその後残りの
還流期間は毎時5−10mlの速度で、メタノールと
キシレンとを蒸留して除き、一方で新しいキシレ
ンを加えて反応物の容積を約3500mlに保つ。28時
間後に、この反応混合物を少し冷却し(〜100
℃)、過して炭素を除去する。この炭素ケーキ
を温キシレン(100ml)で洗浄し、液と洗浄液
を迅速にかくかんしながら窒素雰囲気下で25−50
℃までゆつくり冷却した。完全に結晶化させるた
めに、1時間かくはんを続けた。結晶を過によ
つて集め、母液を約1500mlまで濃縮し、窒素下で
0−5℃に冷却し、過して、このケーキを100
mlの冷キシレンで洗浄し、そして結晶を真空下60
℃以下で数時間乾燥させた。収量は、76.7−84.6
g(理論量の78−86%)である。平均処理量24.4
g/溶媒。 ※アイ・シー・アイ・アメリカ社 (ICIAmerica、Inc.)の登録商標 実施例 1 中間体(I、R=R1=CH3、Z=2−ピリジ
ル基)を用いる改良されたピロクシカム法 A 窒素でパージした1リツトルフラスコに、混
合キシレン300ml、3,4−ジヒドロ−2−メ
チル−4−オキソ−2H−1,2−ベンゾチア
ジン−3−カルボン酸メチル1,1−ジオキシ
ド120g(0.446モル)および2−アミノピリジ
ン48g(0.510モル)を加える。この混合物を
90℃に加熱し、この温度で1時間迅速にかくは
んしてから、窒素雰囲気下で冷却させる。 3300mlのキシレンを含有する5リツトルフラ
スコに、12gの活性炭(Darco G−60)を加
え、この混合物を加熱還流させ、その間に分離
器/デカンター中にキシレン/水を集める。こ
のものに、上で得た上記の式()の中間体化
合物のキシレンスラリーの半分を加える。この
混合物を還流させて、メタノール/キシレンを
毎時25mlの速度で蒸留して除くが、一方で新し
いキシレンを加えて反応体積を約3500mlに保持
する。4時間後に、残留する中間体化合物のス
ラリーの3分の1を加え、同じ速度でメタノー
ル/キシレンの蒸留を続行する。中間体の残留
部(3分の1または残部)を8時間および12時
間で各々加え、そして蒸留を25ml/時で、全体
で16時間続ける。16時間後に、蒸留添加を毎時
12.5mlに下げて全体で34時間続ける。 反応混合物を約100℃まで冷却して、過し
て炭素を除去し、この炭素ケーキを100mlの温
キシレンで洗浄する。液を窒素でパージし
て、迅速にかくはぼしながら25−50℃に冷却す
る。完全に結晶するように1時間かくはんを続
ける。この結晶を過によつて集め、母液を濃
縮して約1500mlとし、窒素下で0−5℃に冷却
して過し、ケーキを100mlの冷キシレンで洗
浄し、そして結晶性生成物を60℃以下で真空乾
燥させる。ピロクシカムの収量は、121−132.8
g(理論の82−90%)である。平均処理量38.5
g/溶媒。 B 次のように変形して上記工程をくり返す:窒
素雰囲気下で、混合キシレン600mlに、160g
(0.594モル)の3,4−ジヒドロ−2−メチル
−4−オキソ−2H−1,2−ベンゾチアジン
−3−カルボン酸メチル1,1−ジオキシドと
60g(0.637モル)の工業銘柄の2−アミノピ
リジンを加える。混合物を2時間、85−90℃に
加熱し、20−25℃に冷却し、この温度で2時間
かくはんする。こうして得られる結晶性中間体
を過によつて集めて、100mlの冷キシレンで
洗浄する。秤量した溶媒で湿つた結晶の試料を
真空乾燥させた。乾燥試料の差動走査熱量測定
は132.9℃で単一の鋭いピークを示した。乾燥
した試量の重量から、式()、R=R1=
CH3、Z=2−ピリジル基、の中間体の収量が
215.9g(98%)であることが決定される。 3300mlの混合キシレンに、3gの2−アミノ
ピリジン、8gの活性炭(Darco KBB)を加
え、系に水分がなくなるまで混合物を加熱して
静かに還流させその間にキシレン/水を集め
る。その後50mlのキシレンと混合した上記結晶
性中間体81g(乾燥重量基準)(0.223モル)を
加える。反応混合物を加熱還流させて、25ml/
時の速度でメタノール/キシレンを分離する。
上で得た215.9gが全て消費されるまで2時間
毎に追加の17gの中間体を加える。これには約
16時間を要する。20時間に達するまで25ml/時
での還流を続け、そのときに還流速度を12−13
ml/時に下げる。必要に応じてキシレンを添加
することによつて、全反応容積を3.3リツトル
と3.7リツトルとの間に保つ。全反応時間34時
間後に、混合物を冷却し、生成物を上のA部の
ように単離すると、165.3g(84%)のピロク
シカムが得られる。処理量50g/溶媒リツト
ル。 比較例 母液の再循環を用いる、標準ピロクシカム法と
改良ピロクシカム法との比較 標準法(参考例6)および改良法(実施例1)
を、第2、第3および第4操作の各々において、
前の操作からの母液を再循環させて、各々4回く
り返した。結果を下に要約する。 【表】 作の平均
この再循環実験の各段階で、標準法を用いるバ
ツチはより高い色水準を有し、これは漸進的にさ
らにはつきりとしてきた。標準法による第4操作
では、結晶化をひきおこされることのできないシ
ロツプのみが得られた。それい比べて、改良法で
は第4操作で93%の収率を得た。標準法では生成
物が得られなかつたので、この実験はこの時点で
停止した。改良法によれば第4操作後に、母液は
まだ透明であり、そして仮に行なわれたとすれ
ば、かなり有利に、それ以上の操作に使用される
ことができたであろう。 実施例 2 中間体として、参考例3で製造された適当な式
()の化合物を用いて、実施例1および比較例
の工程をくり返すとき、次の式()の生成物も
また改良された収率および処理量で得られる。 式中RおよびR1は参考例3で定義した通りで
ある。 実施例 3 実施例1の工程および比較例の再循環工程で、
出発物質として参考例4および5で製造された式
()の化合物を用いると、以下の式()の生
成物もまた改良された収率および処理量で得られ
る。 式中、RおよびZは、参考例4および5で定義
した通りである。 実施例 4 中間体(、R=R1=CH3、Z=2−チアゾ
リル基)を用いる改良スドキシカム
(Sudoxicam)法 キシレン30mlと、先に得た式()の結晶性2
−チアゾリル中間体0.5gとを含有するフラスコ
を、2.5時間あたり5mlの速度でゆつくり蒸留す
る。それから、キシレン(5ml)と中間体0.25g
を加え、上のように蒸留をくり返す。さらにもう
一度それをくり返した後、混合物を全体で7時間
環流させた。その後混合物を週末中(〜60時間)、
周囲温度でかくはんし、過して、ピロクシカム
の2−チアゾリル同族体である、生成物スドキシ
カム(Sudoxicam)、65%収率(590mg)、融点
245−247℃(分解)、を除去する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次式の3,4−ジヒドロ−2H−1,2−ベ
ンゾチアジン−3−カルボキサミド−1,1−ジ
オキシド: (式中、Rは水素、ベンジルまたは炭素数1〜3
のアルキル;Zは2−ピリジル、アルキル置換−
2−ピリジル、2−チアゾリル、1個または2個
のアルキル基で置換された2−チアゾリル、ある
いは5−アルキル−3−イソキサゾリルであり、
ここで各アルキルは炭素数1〜4である) の製法であつて、下記工程 (a) 式 (式中、R1はベンジルまたは炭素数1〜4の
アルキル) のエステルと式ZNH2のアミンとを反応不活性
有機溶媒の存在下約0〜110℃の温度で接触さ
せて式 (Z1は−C=N−といつしよになつてZを形成
する。) の中間体を生成し、 (b) 該中間体を単離し、この中間体を反応不活性
溶媒中約120〜200℃の温度で加熱することから
なる方法。 2 RがメチルでR1がメチルまたはエチルであ
る特許請求の範囲第1項の方法。 3 Zが2−ピリジル、2−チアゾリル、5−メ
チル−3−イソキサゾリル、6−メチル−2−ピ
リジルまたは4,5−ジメチル−2−チアゾリル
である特許請求の範囲第2項の方法。 4 Zが2−ピリジルでR1がメチルである特許
請求の範囲第3項の方法。 5 工程(a)において該反応が20−90℃で行なわれ
る特許請求の範囲第1項の方法。 6 工程(b)において温度が約135−145℃である特
許請求の範囲第1項記載の方法。 7 工程(b)の生成物が単離され、母液は再循環さ
れる特許請求の範囲第1項の方法。 8 反応不活性有機溶媒がキシレンである特許請
求の範囲第1項の方法。 9 工業銘柄のアミンZNH2が使用される特許請
求の範囲第1項の方法。 10 Zが2−ピリジルである特許請求の範囲第
9項の方法。 11 結晶性中間体が単離される特許請求の範囲
第10項の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US28939081A | 1981-08-03 | 1981-08-03 | |
| US289390 | 1981-08-03 | ||
| US389119 | 1982-06-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5843969A JPS5843969A (ja) | 1983-03-14 |
| JPH0133104B2 true JPH0133104B2 (ja) | 1989-07-11 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57132922A Granted JPS5843969A (ja) | 1981-08-03 | 1982-07-29 | ベンゾチアジンカルボキサミド類の製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
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| JP (1) | JPS5843969A (ja) |
| CS (1) | CS235955B2 (ja) |
| GT (1) | GT198276334A (ja) |
| PL (2) | PL134997B1 (ja) |
| ZA (1) | ZA825559B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1707352A1 (en) | 2005-03-31 | 2006-10-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of producing a planographic printing plate |
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|---|---|---|---|---|
| IT1194522B (it) * | 1983-12-16 | 1988-09-22 | Prodotti Antibiotici Spa | Metodo di sintesi di derivanti benzotiazinici |
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|---|---|---|---|---|
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| US3853862A (en) * | 1973-04-23 | 1974-12-10 | Pfizer | Production of 4-hydroxy-1,2-benzothiazine-3-carboxamides |
| US3891637A (en) * | 1974-10-01 | 1975-06-24 | Pfizer | Process for the production of carboxamides of oxo-1,2-benzothiazine-1,1-dioxides |
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-
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- 1982-07-29 CS CS825724A patent/CS235955B2/cs unknown
- 1982-08-02 ZA ZA825559A patent/ZA825559B/xx unknown
-
1984
- 1984-05-11 US US06/609,126 patent/US4536573A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1707352A1 (en) | 2005-03-31 | 2006-10-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of producing a planographic printing plate |
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|---|---|
| GT198276334A (es) | 1984-01-10 |
| PL134997B1 (en) | 1985-09-30 |
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| US4536573A (en) | 1985-08-20 |
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