JPH0133452B2 - - Google Patents

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JPH0133452B2
JPH0133452B2 JP60040254A JP4025485A JPH0133452B2 JP H0133452 B2 JPH0133452 B2 JP H0133452B2 JP 60040254 A JP60040254 A JP 60040254A JP 4025485 A JP4025485 A JP 4025485A JP H0133452 B2 JPH0133452 B2 JP H0133452B2
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JP
Japan
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zeolite
hydrogen
range
xylene
catalyst
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JP60040254A
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JPS60243032A (ja
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Thomas Vincent Whittam
Barry Youll
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Imperial Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Imperial Chemical Industries Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0133452B2 publication Critical patent/JPH0133452B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B39/00Compounds having molecular sieve and base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites; Their preparation; After-treatment, e.g. ion-exchange or dealumination
    • C01B39/02Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof; Direct preparation thereof; Preparation thereof starting from a reaction mixture containing a crystalline zeolite of another type, or from preformed reactants; After-treatment thereof
    • C01B39/46Other types characterised by their X-ray diffraction pattern and their defined composition
    • C01B39/48Other types characterised by their X-ray diffraction pattern and their defined composition using at least one organic template directing agent
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J29/00Catalysts comprising molecular sieves
    • B01J29/04Catalysts comprising molecular sieves having base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites
    • B01J29/06Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof
    • B01J29/70Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof of types characterised by their specific structure not provided for in groups B01J29/08 - B01J29/65
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C5/00Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing the same number of carbon atoms
    • C07C5/22Preparation of hydrocarbons from hydrocarbons containing the same number of carbon atoms by isomerisation
    • C07C5/27Rearrangement of carbon atoms in the hydrocarbon skeleton
    • C07C5/2729Changing the branching point of an open chain or the point of substitution on a ring
    • C07C5/2732Catalytic processes
    • C07C5/2737Catalytic processes with crystalline alumino-silicates, e.g. molecular sieves
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
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  • Catalysts (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、ゼオライト・ニユウ(ν)(nu)−
1と称するゼオライト物質を触媒として使用する
キシレン類化合物の異性化方法に関する。 本発明で使用するゼオライト・ニユウ−1につ
いては別途特願昭51−117053号(特開昭52−
145399号)として出願している。同明細書に記載
されているとおり、ゼオライト・ニユウ−1は、
シリカ源;アルミナ源;ならびにメチル化第四級
アンモニウム化合物および/またはそのカチオン
性分解生成物および/またはメチル化第四級アン
モニウム化合物を生ずる混合物、例えばトリメチ
ルアミンとメタノールの混合物(これらの代りに
対応するホスホニウム化合物を使用しうる);を
含む合成用混合物から製造しうる。 同ゼオライト・ニユウ−1は下記の範囲の組成
0.9〜1.3R2O・Al2O3・20〜150SiO2・0〜40H2O
(ここにRは水素、アンモニウム、ホスホニウム
またはn価金属のカチオンの1/n個のうちの1
またはそれ以上である)を有し、かつRが水素で
あるときには実質上表1に示す如きX線回折パタ
ーンを有する。 上記定義には調製されたままの状態のゼオライ
ト・ニユウ−1(調製されたままの状態とは合成
反応および洗浄と場合により乾燥処理とを経た生
成物を意味する)ならびに脱水および/または焼
成および/またはイオン交換によつて得られる形
態のニユウ−1を包含する。 調製されたままの状態のニユウ−1においてR
はメチル化第四級アンモニウムおよびメチル化第
四級ホスホニウムおよびそれらのカチオン性分解
生成物から選択されるアンモニウムもしくはホス
ホニウム(以下、Qと称する)であるか、または
そのようなアンモニウムまたはホスホニウムを含
み、そしてアルカリ金属特にナトリウムを含むこ
とがある。調製されたままの状態のニユウ−1は
Q2Oのうち一定の部分は消散し、そのうちの一部
がゼオライト構造中に捕束されることがあるとし
ても、このようなQ2Oは前記定義のための組成の
一部を構成しない。Q2Oのうちかかるその割合は
典型的にはAl2O3モル当り0.5〜2.5モルの範囲で
ある。 シリカ:アルミナ比は少なくとも40であることが
好ましい。
【表】 調製されたままの状態のニユウ−1のH2O含
有量はそれが反応後に乾燥された条件によつて左
右される。 焼成形態のニユウ−1において、Rはアルカリ
金属でありうるが、アンモニウム化合物またはホ
スホニウム化合物をほとんどまたは全く含まな
い。 この理由は、これらの化合物が空気の存在下で
焼燃し尽して、水素を平衡化カチオンとして残留
させるからである。 イオン交換形態のニユウ−1の中でも、アンモ
ニウム(NH4 +)形態のものは焼成によつて容易
に水素形態に変えうるので重要である。水素形態
およびイオン交換によつて導入された金属を含む
形態は以下においてさらに述べる。 表1に示したデータは、推定測定誤差を含み、
そしてゼオライト製造において一般的であり、不
純物、関係するRカチオンの変化および主要ニユ
ウ−1構造の範囲内における微細結晶構造の変動
に起因するある範囲の変動を表わしている。 さらに詳しくは表1のd間隔は+4%〜−2%
の範囲になりうる。このゼオライトは種々のd間
隔の範囲の部分からのいくつかのニユウ−1形態
の組合せを含むことがあり、ある種の形態では
6.5−6.6A線が2つに分岐することがある。添付
図には分岐ピークをもつ高d−間隔型を示してい
る。 参考例水素形態に関連して示した表1のデータ
は1975年10月3日および1976年2月9日提出の英
国仮明細書の示したものと異なる。それらの線の
うちd(A)19.4の線は不純物ケニヤイトと固定さ
れ、6.17および3.19の線はソダライトと固定され
た。 ゼオライト・ニユウ−1は下記の染料吸着特性
によりさらに特徴付けられる。 (a) カチオン染料 アクリフラビン なし フエノサフラニン なし カルボシアニン 極めて強い、紫または紫/青 メチルレツド 極めて強い トリレンレツド なし (b) その他の染料 アリザリン 弱 アウリン なし アルミノン TMAなしではなし ゼオライト・ニユウ−1はその種々の寸法の分
子についての吸着容量によつてさらに特徴付けら
れる。下記の%W/W吸着容量(P/PO=0.5に
おける)は参考例の水素形態ニユウ−1について
測定したものであり、典型的なものと考えられ
る。
【表】 P−キシレンの吸着が遅いということは、ニユ
ウ−1がP−キシレンを収容するに足る大きさの
内部空隙を有するけれども、かかる空隙への入口
孔が小さい(約6.0Åと考えられる)ことを示し
ている。 表2から、ゼオライト・ニユウ−1はn−ヘキ
サンよりも1.5〜4.0倍(重量%基準で)多くの水
を吸着することが明らかである。従つてゼオライ
ト・ニユウ−1は、いわゆる「親水性」ゼオライ
トの類に属するものと考えられるが、そのシリ
カ:アルミナ比は30を超えることもあり、従つて
この値は疎水性挙動(すなわち水よりもn−ヘキ
サンを一層吸着する)によつて特徴付けられるも
のとして従来開示されてきた値と同一水準にあ
る。 ニユウ−1はその水素形態においてキシレン異
性化およびエチルベンゼン変換反応に対する高活
性ならびにキシレン不均化反応に抗する選択性の
触媒特性によつて特徴付けられる。 本発明で使用するゼオライト・ニユウ−1を製
造するにあたつては、少なくとも1種のシリカ
源;少なくとも1種のアルミナ源;および少なく
とも1種のメチル化第四級アンモニウム化合物も
しくはメチル化第四級ホスホニウム化合物;から
なり、かつ下記のモル組成を有する水性混合物を
反応させる。 SiO2/Al2O3 少なくとも10、好ましくは20〜
200、殊に40〜100、 Na2O/SiO2 0〜0.4、殊に0.05〜0.25、 (Na2O+Q2O)/SiO2 0.1〜6.0、好ましくは
0.1〜0.5、殊に0.2〜0.3 H2O/(Na2O+Q2O) 5〜500、殊に100〜
300、 Q2O/(Na2O+Q2O) 0.05〜1.0、殊に0.4〜
0.7、 ここにQはメチル化第四級アンモニウムまたは
メチル化第四級ホスホニウムであり、Na2Oおよ
びQ2Oは遊離のNa2OおよびQ2Oだけを示す。「遊
離Na2O」および「遊離Q2O」とは一般に水酸化
物の形;ならびにNa2OおよびQ2Oがゼオライト
合成反応において効果を示すような極弱酸例えば
アルミン酸もしくはケイ酸の塩の形をさすものと
する。シリカ源として水ガラスを用いる場合に
は、遊離のNa2Oおよび/またはQ2Oの含有量を
酸の添加により、あるいはアルミナまたは強酸の
塩の形のQ(例えば硫酸塩、硝酸塩またはハロゲ
ン化物)の添加により、前記特定の範囲にまで減
少できる。 シリカ源はゼオライト合成用として普通ゼオラ
イト業界で考えられるいずれのシリカ源であつて
もよい。例えば粉末固体シリカ、ケイ酸、コロイ
ド状シリカまたは溶解シリカである。使用しうる
粉末シリカの中では沈降シリカ、特にアルカリ金
属ケイ酸塩溶液からの沈澱により製造したものを
挙げることができる。このようなものとしては、
AKZO社製の「KS300」および類似品、エーロシ
ルシリカ、ヒユームシリカ(fume silica)およ
びシリカゲル(好ましくはゴムまたはシリコンゴ
ム用補強顔料として使用されるグレードのもの
が)ある。種々の粒子寸法のコロイド状シリカを
使用でき、例えば商標「LUDOX」、
「NALCOAG」および「SYTON」で販売されて
いる10〜15ミクロンまたは40〜50ミクロンのもの
がある。使用しうる溶解シリカとしては、アルカ
リ金属酸化物1モル当り0.5〜6.0モル殊に2.0〜
4.0モルのSiO2を含む市販水ガラス;英国特許第
1193254号明細書において定義されている如き
「活性(active)」アルカリ金属ケイ酸塩;および
合成用混合物製造の予備工程としてシリカをアル
カリ金属または第四級水酸化物中に溶解すること
によつて作つたケイ酸塩;がある。 アルミナ源はアルミン酸ナトリウムが最も普通
であるが、アルミニウム塩(例えば塩化物、硝酸
塩もしくは硫酸塩)またはアルミナ自体(このも
のは好ましくはコロイド状アルミナ、プソイドベ
ーマイト、ベーマイト、ガンマアルミナ、三水和
アルフアアルミナまたは三水和ベータアルミナの
如く水和された状態または水和されうる状態にあ
るべきである)であるが、あるいはそのようなも
のを含んでいてもよい。 ニユウ−1合成用の反応混合物においてアルミ
ナの少なくとも一部は一またはそれ以上のアルミ
ノケイ酸塩の形で供給されてよい。かかるアルミ
ノケイ酸塩化合物によつてアルミナ源のうちの少
なくとも20%殊に50〜100%が供給されるのが好
ましい。アルミノケイ酸塩化合物が充分なシリカ
を含む場合には、それはシリカ源の全部を供給し
うることがある。しかし、ゼオライト・ニユウ−
1のシリカ:アルミナ比は、容易に入手しうるア
ルミノケイ酸塩のシリカ:アルミナ比よりもはる
かに高いので、普通、反応混合物はさらに別のシ
リカ源を含ませる。 アルミノケイ酸塩は合成物であつても天然物で
あつてもよい。それが合成物であるときには、そ
れは例えば結晶性化合物(例えばゼオライト)、
無定形化合物(例えばゲルまたはゼオライト前駆
体)あるいはシリカ/アルミナクラツキング触媒
であつてよい。それが天然物であるときには、そ
れは例えばカオリン(殊にカオリンを500〜950℃
特に530〜600℃で焼成したメタカオリンの形のも
の)の如き粘土、あるいはアタパルジヤイト、デ
イクカイト、ハロサイト、イライトもしくはモン
モリロナイトの1またはそれ以上であつてもよ
い。所望により天然ゼオライトを使用することが
できる。ネフエリンおよびカルシライトの如き物
質(天然または合成物)を使用することもでき
る。反応混合物を構成するに当つて、アルミノケ
イ酸塩材料の一部として導入される水およびアル
カリ金属化合物の如き反応剤も計算に入れるべき
であり、そして好ましくは第族元素化合物の如
き反応妨害成分は実質上不存在にすべきである。
使用するアルミノケイ酸塩化合物は、妨害カチオ
ンを含む対応化合物を酸または非妨害カチオンで
処理することによつて作つたものであつてよい。
所望により、アルミノケイ酸塩は、酸またはクロ
ム浸出によつてアルミニウムを除去したものであ
つてよい。 アルミノケイ酸塩出発物質の使用により、その
ような出発物質を、成形された粒状体として(殊
に径1〜10mmの円筒圧縮ペレツトのほぼ球形の粒
子の形で、または径2〜10mmおよび長さ5〜20mm
の押出物の形で)導入する改変方法が可能にな
る。そしてシリカ含有量、温度および時間は、そ
れらの粒子の外側部のみでゼオライト・ニユウ−
1への変換が行なわれるように選択できる。この
方法によつてゼオライト・ニユウ−1は既成形粒
子上に直接得ることができ、粉体からそのような
粒子を製造するのに必要な凝集処理が不必要にな
る。かかる改変法のための代表的な条件は下記の
通りである。 SiO2/Al2O3 12〜25 温 度 150〜200℃ 時 間 1.5〜3.0日間 反応混合物の水含有量は、Al2O31モル当り500
モル以上殊に1000〜4000モルの範囲であるのが好
ましい。 Q2OとNa2Oとの相対比率は生成ゼオライトの
目的とするナトリウム含有量に関連して選択する
ことができ、ナトリウム含有量すなわちイオン交
換の必要が低ければNa2Oの比率も低くなる。好
ましい範囲である0.4〜0.7は中程度のイオン交換
処理を必要とするゼオライトの製造に一般的に有
用であり、しかも高比率のQ2Oによるコストがか
からない。 反応はゼオライト生成物が少なくとも50%W/
Wのニユウ−1を含む時点まで(しかしその時点
を超えずに)続けるべきである。このような時間
は、温度および反応剤の相対濃度により、そして
反応混合物が静置されるが撹拌されるかによつて
左右される。反応時間が超過すると、そのときに
ゼオライト・ニユウ−1は他の物質に変化するこ
とがある。好ましくは、間隔を置いて混合物をサ
ンプリングし、そしてそれを試験することによつ
て反応の進行を追跡する。代表的な反応時間は、
12〜300時間の範囲内である。反応温度は、適切
には80〜300℃、好ましくは135〜280℃そして殊
に150〜250℃である。 既に述べた成分以外に、反応混合物は、結晶種
子用ゼオライトおよび/または鉱化剤(例えばア
ルカリ金属の硫酸塩、硝酸塩またはハロゲン化
物)を含んでいてよい。かかる鉱化剤は、そのも
のとして添加されてよく、あるいはアルカリ金属
の水酸化物、アルミン酸塩またはケイ酸塩と適切
な酸または第四級もしくはアルミニウム塩との反
応によりその場で形成されるものであつてもよ
い。 反応の停止時に、固相をフイルター上に捕集
し、洗浄すると、その固相生成物は次いで乾燥、
脱水およびイオン交換の如き後続処理に付されう
る状態になる。 反応生成物中にアルカリ金属イオンが含まれる
場合、水素形態のニユウ−1を製造するには、そ
のイオンを少なくとも部分的に除去しなければな
らないが、かかる除去は酸、特に塩酸の如き強酸
を用いてイオン交換することにより、あるいは塩
化アンモニウムの如きアンモニウム塩の溶液を用
いてイオン交換して作つたアンモニウム化合物を
経ることによつて行なうことができる。このよう
なイオン交換は、1回または数回イオン交換用容
液でスラリー化することによつて実施しうる(こ
のような処理を以下でスラリー交換と称すること
がある)。ゼオライトは普通、イオン交換後に焼
成されるが、諸工程の前または工程の間に焼成さ
れてよい。 一般にゼオライト・ニユウ−1のカチオンは任
意の金属カチオン、殊に第A、B、A、
B、(含稀土類)、A(含マンガン)(含貴
金属)族の金属ならびに鉛およびビスマスによつ
て置換されうる。(ここで周期律表は、英国特許
庁発行の「アブリジメンツ・オブ・スペシフイケ
ーシヨンス」に記載のものに準拠する)。 触媒を製造するために、ゼオライト・ニユウ−
1は、不活性または触媒活性の他の物質とともに
無機マトリツクス中に導入されうる。その無機マ
トリツクスは小さなゼオライト粒子(0.05〜10ミ
クロン)を1緒に保持する結合剤として単に存在
してもよく、あるいは稀釈剤を添加しないと余り
に反応速度が高くて過度の炭素沈積により触媒汚
染を引き起こすような反応法における反応量を抑
制するための稀釈剤として添加されうる。代表的
な無機マトリツクスとしては、アルミナ、シリ
カ、カオリン粘土、ベントナイト、モンモリロナ
イト、セピオライト、アタパルジヤイト、フーラ
ー土、合成多孔性物質(例:SiO2−Al2O3、SiO2
−ZrO2、SiO2−ThO2、SiO2−BeO、SiO2
TiO2またはこれら酸化物の任意の組合せがある。
ゼオライト・ニユウ−1とそのような稀釈剤とを
混合する効率的な方法は、適当な水性スラリー同
士をミキシングノズル中で混合し、次いでその混
合スラリーを噴霧乾燥することである。その他の
混合法も使用しうる。 ゼオライト・ニユウ−1をいずれかのカチオン
形態または触媒複合体の形で、水素化/脱水素化
成分(例えば、Ni、CO、Pt、Pd、Re、Rh)で
交換または含浸するとハイドロクラツキングおよ
びリホーミング触媒を製造しうる。(特にNa2O
含量が0.03%W/Wであるときは好ましい)。 本発明による好ましい炭化水素変換方法は、ア
ルキルベンゼンまたはアルキルベンゼン類混合物
を、ゼオライト・ニユウ−1(殊に良好な水素形
態において酸化ナトリウム含量が0.15%W/W以
下のゼオライト・ニユウ−1)からなる触媒と、
異性化条件下において気相または液相で接触させ
ることからなる。 気相における適当な異性化条件としては、100
〜600℃好ましくは200〜450℃の範囲の温度、お
よび0.5〜50絶対気圧(ata)好ましくは1〜5ata
の範囲の圧力である。 液相における適当な異性化条件としては、0〜
350℃の範囲の温度、1〜200ata、好ましくは5
〜70ataの範囲の圧力、および(流動系において
は)、1〜100W/W/時好ましくは1〜30W/
W/時の範囲の空間速度がある(高空間速度は温
度が高くなるにつれて使用される)。場合によつ
ては、稀釈剤が存在してよく、適切には異性化温
度よりも高い臨界温度を有する稀釈剤の1種また
はそれ以上を使用するが、例えばトルエン、エチ
ルベンゼン、トリメチルベンゼン、ナフテン類お
よびパラフイン類がある。好ましくは稀釈剤は、
もしそれが存在するならば、異性化反応原料の1
〜90Wt%に当る量である。上記の反応方法にお
いて、触媒は水素化/脱水素化成分を含まないの
が好ましい。場合によつては異性化反応は水素の
存在下に実施されうる。水素:アルキルベンゼン
の適切なモル比は3:1ないし30:1の範囲であ
る。水素を使用する場合には、触媒は周期律表第
族の金属とゼオライトとからなるのが好まし
い。第族金属は好ましくは白金である。使用す
る金属の量は触媒の全重量に基いて金属0.1〜
2Wt%の範囲である。 好ましくはアルキルベンゼンは、キシレン化合
物(例えばp−キシレンへ変換するためのm−キ
シレン)またはキシレン異性体混合物(このもの
はエチルベンゼンを伴なうことが多い)である。
存在するエチルベンゼンの量は、キシレン混合物
の供給源によつてある程度左右されるが、通常は
供給原料の0〜25Wt%であろう。ある種の先行
キシレン異性化法では、供給原料中に存在するエ
チルベンゼンの量を比較的少量(例えば6%以
下)にまで制限する必要がある。この理由は、こ
の濃度以上であると使用触媒がエチルベンゼンを
分解することができず従つてエチルベンゼンが再
循環流中に蓄積してくるからである。本発明方法
では比較的多量のエチルベンゼンが(例えば6〜
25%)存在する供給原料であつても、比較的少量
のエチルベンゼンを含む供給原料と同様に処理す
ることができる。 この異性化反応は、供給原料の重量基準で例え
ば500〜10000ppm好ましくは1000〜5000ppmの濃
度の水蒸気の存在下で実施しうる。 下記の各実施例において成分は下記の特性のも
のであつた。 シリカ AKZO社製「KS300」98.9%SiO2
1.1%Na2O アルミン酸ナトリウム(式)1.25Na2O・Al2O3 「TMAOH」とはテトラメチルアルミニウム
ハイドロオキサイドを示す。使用した溶液は25%
W/WのTMAOHを含んでいた。 メタカオリン(式)Al2O3・2SiO2 (カオリンを空気中で550℃で17時間焼成して
作つたもの)。 実施例 1 Na−Q形態のゼオライト・ニユウ−1の調製 このものの調製のための合成用混合物は下記の
組成であつた。 Al2O3・59.3SiO2・12.65Na2O・10.76Q+・36.06OH-
・3580.3H2O 固体シリカ(36gのKS300:AKZO製)を、
39.2gのTMAOH溶液と500gの水との混合物中
に懸濁させた。次いで1.8gの固体アルミン酸ナ
トリウムと8.6gの水酸化ナトリウムを115gの水
に溶解して、上記のシリカ懸濁液中へ10分間で撹
拌混入した。得られたスラリーを5のオートク
レーブ内の1のパイレツクス製ライナー中で撹
拌することなく、170℃で8日間加熱した。約60
℃に冷却後、スラリーを濾過し、500mlの熱水で
洗浄し、120℃で乾燥した。生成物のゼオライ
ト・ニユウ−1は表1に示したX線回折データを
示し、その組成は0.7Na2O・0.3Q2O・Al2O3
52SiO2・6H2O(Q=テトラメチルアンモニウム)
であり、結晶寸法は約5ミクロンであつた。この
生成物を空気中で一晩550℃で焼成した。この焼
成物は水和したテトラメチルアンモニウム含有ゼ
オライト・ニユウ−1と実質的に同じX線回折パ
ターンを有した。
【表】 水素形態のゼオライト・ニユウ−1の調製 前記焼成物をその重量と同じ量の10%塩化アン
モニウム溶液で25℃において3回スラリー交換し
た。各回の交換処理はそれぞれ1時間であつた。
生成物を空気中で一晩550℃で焼成したところ、
最初に作つたゼオライト・ニユウ1と実質的に同
じX線回折パターンを有することが判つた。結晶
寸法は約5ミクロンであり、そして下記の組成を
有することが判つた。 0.01Na2O・Al2O3・55SiO2 この水素形態ニユウ−1ゼオライトは3.5%
W/Wの水吸収容量(P/Po=0.7、25℃)を有
し、また3%W/Wのn−ヘキサン(P/Po=
0.6、25℃)を吸収した。しかしP−キシレンを
著しくは吸収しなかつた。これらの結果によれ
ば、入口孔の寸法が少なくとも5Åであるが、6
Åよりも小さいことが示唆される。 キシレン化合物の異性化 わずかに7%のパラキシレンと11%のエチルベ
ンゼンを含むキシレン混合物の異性化に、前記水
素形態ゼオライト・ニユウ−1を触媒として用い
た。触媒が非常に低い劣化速度を示すこと、エチ
ルベンゼンをジエチルベンゼンに実質上完全にか
つ極めて有利に変換することが判つた。そしてま
たキシレン損失が非常に少ないことも判つた。ゼ
オライト・ニユウ−1上での平衡濃度へのパラキ
シレンの上昇は200℃の温度で得られたが、この
温度は、SiO2/Al2O3のキシレン異性化触媒上で
のそれと比較して低い。 実施例 2 低ナトリウム含量の反応混合物からの調製 0.9gのアルミン酸ナトリウム粉末と2.2gの水
酸化ナトリウムペレツトを300mlの水に溶解した。
29.4gのTMAOH溶液をその溶液に加え、18g
の微細シリカをそれに撹拌混入した。得られる懸
濁液を60℃で1時間撹拌し、次いで6.5日間オー
トクレーブ中で170℃に維持した。かくして反応
混合物は次のようなモル比の組成を有した。 SiO2/Al2O3=60;Na2O/SiO2=0.11; (Na2O+Q2O)/SiO2=0.25;H2O/(Na2O
+Q2O)=250;Q2O/(Na2O+Q2O)=0.57;こ
こにQはトリメチルアンモニウムである。この混
合物を室温に冷却後、濾過し、水洗し、空気中で
120℃において乾燥した。得られる微細固体を、
300mlの水に20gの塩化アンモニウムを溶解した
溶液中に懸濁させ50℃で0.5時間スラリー交換し
た。生成したゼオライトを濾別し、水洗した。こ
の段階でゼオライトのナトリウム含有量は0.14%
Na(重量)であつた。これを次いで500℃で16時
間焼成した。塩化アンモニウム溶液でさらに3回
処理することにより、ナトリウム含量が0.08%
Naに減少した。 キシレン異性化 前記水素形態のゼオライト67%とプソイドベー
マイトアルミナ(25%水分)33%とからなるペレ
ツトを作つた。7gのペレツトをキシレン異性化
用の実験室規模の反応器に装入した。混合キシレ
ン原料(組成は表4に示した)を、流量を10c.c.〜
15c.c./時で変えて、触媒ペレツトに通した。三実
験(各実験において合計24時間)を450℃で実施
した。各実験中に触媒は活性損失を示さなかつ
た。各実験の終りに触媒を検査したところ、触媒
上に極めてわずかな炭素沈積が認められたにすぎ
なかつた。原料の組成および三実験の生成ガスの
組成を表4に示す。
【表】 イン ず ず
各実験における不均化反応によるキシレン類の
損失は、生成トルエン基準で約0.7%であつた。
シリカ/アルミナ触媒を使用する慣用の異性化反
応法においては、通常約2%の損失が生じ、そし
て同じような実験においてそのような触媒の活性
は衰退する。 実施例 3 同一の触媒を用い同一の条件の下に実施例2の
キシレン異性化操作を繰返えしたが、本例では供
給原料が比較的多量のエチルベンゼンを含んでい
た。 原料の組成および二実験における生成物組成を
表5に示す。
【表】
【表】 本実施例は、ニユウ−1ゼオライトからなる触
媒を用いると比較的多量のエチルベンゼンを含有
する原料を処理しうることを示している。この場
合、エチルベンゼンは分解してベンゼンとなる。 実施例2の水素形態のゼオライト・ニユウ−1
の活性および選択性は、実施例1で作つたニユウ
−1よりもすぐれていた。この理由は完全には明
らかではないが、諸要因の中で重要な役割を果し
ているものは下記の事項と考えられる。 (a) 実施例2のゼオライトの方が小さい結晶寸法
であること(ほとんどの結晶の寸法が1ミクロ
ン以下)、 (b) 実施例2のゼオライトの比較的低いナトリウ
ム含有量、 (c) 改変した製法;(i)実施例1ではゼオライトを
洗浄し、120℃で乾燥し、550℃で焼成し、塩化
アンモニウム溶液でスラリー交換し、次いで再
び焼成したが、実施例2では塩化アンモニウム
溶液でのスラリー交換後にのみ焼成を行なつ
た;そして(ii)実施例2では実施例1で用いたよ
りも高いQ2O/Na2O比を用いた。 本発明では、前記実施例で使用したゼオライト
ニユウ−1に限らず、前記に定義した範囲のゼオ
ライト・ニユウ−1はすべて触媒として使用でき
る。他の組成のゼオライト・ニユウ−1の例を参
考例として次に示す。 参考例 Na−Q形態のゼオライト・ニユウ−1の調製 実施例1を繰返えしたが、本例では合成反応を
窒素の20ataの下に静置状態を保つように撹拌し
ないで実施した。生成物は下記の組成であつた。
0.7Na2O・2.3Q2O・Al2O3・52SiO2・10.5H2Oこ
のうちで約2.0モルのQ2Oは非構造性であつて最
終構成には含まれない。結晶寸法は3〜5ミクロ
ンであつた。そのX線回折パターンはゼオライ
ト・ニユウ−1の典型的なものであつた。 水素形態のニユウ−1の調製 前記の生成物(1.3%W/WNa2O)を、その生
成物1g当り2mlの5%W/W塩酸と混合した。
混合物を還流条件下で5時間沸騰させた。次いで
過し、脱イオン水で洗浄した。洗浄生成物
(0.3%W/WNa2O)を固形分1g当り60mlの
0.365%W/W塩酸で再スラリー化し、50℃に1
時間維持し、次いで過し、脱イオン水で洗浄
し、乾燥した。乾燥生成物は0.019%W/Wの
Na2Oを含んでいた。次いでそれを450℃で一晩
焼成して、過度に温度上昇させることなくその含
有テトラメチルアンモニウムを制御しつつ燃焼除
去した。焼成生成物の組成は下記の通りであつ
た。 0.01Na2O・Al2O3・50SiO2 この生成物の水およびn−ヘキサン等について
の吸着容量(%W/W)を25℃およびP/Po=
0.5において測定し、下記の結果を得た。 水 6.8 イソブタン 0.9 n−ヘキサン 2.7 p−キシレン 2時間後0、24時間後1.9 これらの吸着データによればゼオライト構造へ
の孔は、6.0Aを超えないことが示唆される。 この水素形態ニユウ−1のX線回折データを表
6に示す。 実施例2および3のようにして試験したとき
に、本例のゼオライト試料は実施例2のものより
も一層活性および選択性であつた。
【表】
【表】
【表】
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記の一般式 0.9〜1.3R2O・Al2O3・20〜150SiO2・0〜40H2O (ここにRは水素、アンモニウム、ホスホニウム
    またはn価のカチオンの1/n価の1またはそれ
    以上である)で表わされる組成を有し、かつRが
    水素形態であるときには、実質的に 【表】 【表】 の如きX線回折パターンを有するゼオライト・ニ
    ユウ−1からなる触媒の存在下でキシレン類化合
    物を異性化する方法。 2 キシレン類化合物を異性化することからな
    り、かつRの実質的な部分が水素であるゼオライ
    トを用いる特許請求の範囲第1項に記載の方法。 3 反応剤が気相で存在し、添加遊離水素が実質
    上存在せず、温度が200〜450℃の範囲にあり、圧
    力が1〜5絶対気圧の範囲にあり、かつ触媒が水
    素化/脱水素化成分を含まない特許請求の範囲第
    2項に記載の方法。 4 キシレン類化合物が液相で存在し、添加遊離
    水素が実質上存在せず、温度が0〜350℃の範囲
    にあり、圧力が5〜70絶対気圧の範囲にあり、か
    つ触媒が水素化/脱水素化成分を含まない特許請
    求の範囲第2項に記載の方法。 5 キシレン類化合物を異性化することからな
    り、Rが周期律表第族の金属を含み、かつ水素
    が存在する特許請求の範囲第1項に記載の方法。 6 出発物質がキシレン類およびエチルベンゼン
    を含みかつ反応条件がエチルベンゼンの変換を生
    じさせるように選定される特許請求の範囲第2〜
    5項のいずれかに記載の方法。
JP60040254A 1975-10-03 1985-02-28 ゼオライトニュウー1を触媒とするキシレン類化合物の異性化方法 Granted JPS60243032A (ja)

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GB4957/76 1976-02-09
GB31641/76 1976-07-29
GB40631/76 1976-09-17

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