JPH0135099Y2 - - Google Patents

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JPH0135099Y2
JPH0135099Y2 JP4138985U JP4138985U JPH0135099Y2 JP H0135099 Y2 JPH0135099 Y2 JP H0135099Y2 JP 4138985 U JP4138985 U JP 4138985U JP 4138985 U JP4138985 U JP 4138985U JP H0135099 Y2 JPH0135099 Y2 JP H0135099Y2
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valve
gas
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ring
space
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Description

【考案の詳細な説明】 考案の技術分野 本考案は、例えば半導体製造工程において使用
される塩素ガス等が流れる配管を開閉する開閉弁
に関し、さらに詳しくはこの開閉弁の弁軸と弁座
との間を通つてリークするガスを吸引し、捕集す
るリークガス吸引装置の改良に関する。
考案の技術的背景ならびにその問題点 半導体、記録材料、電子部品などを製造するに
際しては、人体に有害な腐蝕性のあるガスが取扱
われる場合がある。
特に、半導体などの精密部品を製造する工程で
用いられる塩素ガス等は、微量のリークも許され
ず、このようなガスが流通する配管に設けられる
開閉弁もシールが完全なものが要求されている。
そこで、従来から開閉弁の弁体の外周にOリン
グを設け、シールの完全化を図つている。このO
リングは円盤状弁体の外周に形成した凹部内に嵌
着されているが、この弁体は比較的に薄肉の円盤
状をしており、この円盤状弁体の中心を通るよう
に取付けられた弁軸を中心に回動して流路を開閉
するため、この弁体を開閉作動させるときに、こ
の弁体の外周面に設けたOリングは全周にわたり
均一な力で弁座と当接せず、偏つた力がかかるこ
とがある。
したがつて、このOリングは一部において歪み
が生じ、弁座との間に〓間が生じ、この〓間を通
つてガスがリークする恐れがある。
このため最近では、このリーク現象を防止する
次善の策として、リークするガスを真空ポンプ等
を用いて積極的に吸引し、捕集するようにしてい
る。
第4,5図は、従来から行なわれている半導体
製造工程で使用される開閉弁にリークガス吸引装
置を取付けた状態を示す断面図と、その要部拡大
断面図である。
この開閉弁1は、流路2が形成されたガス配管
3,3間に弁座4を介装し、この弁座4に弁体5
を設け、この弁体5にはビス6により弁軸7を取
付けたもので、この弁軸7の一端は弁座4の凹部
4a内に嵌挿され、この弁軸7の他端は段部7a
により弁座4に係合保持されるように構成してい
る。そしてこの弁軸7はさらに弁座4の外部まで
伸延され、駆動部8に連結され、その駆動部8と
前記弁体5との中間位置にはシール部材9が設け
られている。
このシール部材9は第5図に詳述するように一
対のOリング10,10と、グランドパツキン1
1とからなり、前記弁座4に穿設した空間部12
内に設けられている。この空間部12には前記弁
軸7の軸線に直交するように開設された通孔13
が連通され、この通孔13にユニオン継手14を
介して真空配管15の一端が気密に連結されてい
る。
したがつて、この真空配管15の他端に取付け
られた真空源(図示せず)を作動させると、前記
空間部12内の気体を吸引することになり前記弁
体5のOリング16においてリークし、弁座4と
弁軸7との間を通つて空間部12内に流入して来
たガスは、通孔13、ユニオン継手14及び真空
配管15を通つて吸引され、捕集されることにな
る。
しかしこのように弁座4の側部に、真空引きす
るための真空配管15等が存在すると、弁開閉作
業あるいは保守点検作業等を行う場合の邪魔にな
り、また弁座4を薄形化し、開閉弁を小形化する
場合の一つの障害にもなつている。
考案の目的 本考案は、上述した従来技術に伴う問題点を解
決しようとするものであつて、弁体からリークす
るガスを吸引し、捕集するためのリークガス吸引
装置のコンパクト化、簡素化を目的とするもので
ある。
考案の概要 本考案は、上記目的を達成するために、弁軸の
軸線に沿うように連通路を形成し、この連通路の
一端はシール部材を設置するために形成した空間
部に連通し、他端は真空源側とロータリジヨイン
トを介して連通したことを特徴とするものであ
る。
このように構成すれば弁座の側方に真空配管が
突出せず弁軸の軸線を延長した方向に真空配管は
伸延されることになるので、開閉弁の周辺の配管
構造等が簡素化されることになる。
考案の具体的説明 以下、本考案の一実施例を図面を参照しつつ説
明する。
第1図は、本考案に係る開閉弁のリースガス吸
引装置の一例を示す断面図、第2図は第1図の要
部拡大断面図、第3図はロータリジヨイントの断
面図であり、第4、5図に示す部材と同一部材に
は同一符号を付している。
まず開閉弁1は、従来の第4図に示すものと同
様に、流路2が形成されたガス配管3,3間に弁
座4を介装してあり、この弁座4内には弁体5が
設けられている。この弁体5にはビス6によつて
弁軸7が取付けられているが、この弁軸7の一端
は弁座4の凹部4a内に嵌挿され、この弁軸7の
他端は段部7aにより弁座4に係合保持されるよ
うに構成した後に、弁座の外部にまで伸延され、
駆動部8に連結されている。この駆動部8は、前
記弁軸7にキー20を介して連結されたピニオン
21と、このピニオン21と噛合するラツク22
と、このラツク22を摺動可能に支持するシリン
ダ23とを有し、このラツク22をサーボモータ
(図示せず)等により作動するように構成したも
のである。なお図中23aは軸受、24はカラ
ー、25はボルト挿通孔である。
次にリークガス吸引装置26は、流路2を通る
ガスがOリング16に生じた〓間から漏れ、弁座
4と弁軸9の間を通り空間部12に至つたものを
吸引するもので、前記弁体5と駆動部8との間の
弁軸7を囲むように設けられたシール部材9を接
する空間部12に一端が連結されている。すなわ
ち弁体5に取付けたOリング16と、弁軸7に設
けたOリング10,10との二重シール構造とな
つているにも拘ずリークしたガスが外部に逃げる
のを防止するために設けられたものである。
このシール部材9は第2図に詳示されているよ
うに一対のOリング10,10と、グランドパツ
キン11とを有し、このグランドパツキン11に
は中央部分に通孔27が開設され、リークして来
たガスを、弁軸7の軸直角方向に開設した通孔2
8内に導き易いように構成してある。
特に、本実施例では、この弁軸7に開設された
通孔28に、この弁軸7の軸線に沿うように開設
した連通路29の一端を連通せしめ、この連通路
29の他端は、第3図に示すロータリジヨイント
30及び真空配管15を介して真空源Sと連通し
ている。
ここにロータリジヨイント30は前記弁軸7に
螺着された第1ジヨイント31と、この第1ジヨ
イント31と真空配管15とを連通する第2ジヨ
イト32と、この第2ジヨイント32と第1ジヨ
イント31とを連結するための袋ナツト33、ロ
ツクナツト34及び止め輪35と、この第2ジヨ
イント32に螺合し、前記真空配管15のフラン
ジ部15aを第2ジヨイント32側に押圧する第
3ジヨイント36とからなつており、Oリング3
7,37によりシールしている。
次に作用を説明する。
図示しないサーボモータ等を作動し、ラツク2
2、ピニオン21、キー20及び弁軸7を介して
弁体5を閉動させ、弁体5が第1図に示すような
状態になり、弁座4との間をシールしたとする。
しかし、Oリング16の一部が歪み、流路2内
を流通しているガスがリークし、第2図に示す弁
座4と弁軸7との間の〓間G1(第2図は誇張して
示しており、この〓間G1は実際より広い)を通
つて、シール部材9にまで流れ、さらにその一部
がこのシール部材9を構成するOリング10及び
グランドパツキン11のシール力に逆らつて、空
間部12の中央まで至つたとする。
ところが、前記弁体5の閉動とともに真空源S
を作動させれば、前記空間部12内のガスはグラ
ンドパツキン11の通孔12、弁軸7に開設した
通孔28を通つて連通路29内に吸引され、さら
にロータリジヨイント30の第1、第2、第3ジ
ヨイント31,32,36内に形成された通路3
8及び真空配管15を通つて所定のガス貯溜タン
ク(例えばアキユムレータ等)内に捕集されるこ
とになる。
このように、本実施例では弁体においてリーク
したガスを弁軸7中を通つて吸引し、捕集するよ
うにしたので、従来のように弁座4の側方へ真空
配管15等が突出することはなく、開閉弁集辺の
構成がきわめて簡素化され、例えば弁体5に取付
けたOリング16等を交換する作業を行う場合
も、この真空配管15等に邪魔されることなく容
易に行うことができることになる。
考案の効果 以上の説明により明らかなように、本考案によ
れば、弁軸の軸線に沿うように連通路を形成し、
この連通路の一端はシール部材を設置するために
形成した空間部に連通し、他端は真空源側とロー
タリジヨイントを介して連通したため、開閉弁周
辺の構成が簡素化され、しかも弁座の薄形化も可
能となり装置全体のコンパクト化が達成でき、装
置製作時のコストを低減することもできる。また
この開閉弁周辺の簡素化に伴い、弁の開閉作業並
びに保守点検作業も容易にできることになる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本考案の一実施例を示す断面図、第
2図は、第1図の要部拡大断面図、第3図は、ロ
ータリジヨイントの断面図、第4図は、従来装置
の一例を示す断面図、第5図は、第4図の要部拡
大断面図である。 1……開閉弁、2……流路、4……弁座、5…
…弁体、7……弁軸、8……駆動部、9……シー
ル部材、12……空間部、15……真空配管、1
6……Oリング、26……リークガス吸引装置、
27,28……通孔、29……連通路、30……
ロータリジヨイント、S……真空源。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. ガスが流通する流路2を開閉する弁体5の外周
    にOリング16を嵌着し、このOリング16によ
    り弁体5と弁座4との間をシールする開閉弁1で
    あつて、前記弁座4と、この弁座4を挿通する弁
    軸7との間をシールするシール部材9を有し、こ
    のシール部材9を設置するために形成した空間部
    12内のガスを真空源Sにより吸引するようにし
    たリークガス吸引装置において、前記弁軸7の軸
    線に沿うようにこの弁軸7内に連通路29を形成
    し、この連通路29の一端を前記空間部12に、
    他端をロータリジヨイント30を介して真空源S
    に連通するように構成した間閉弁のリークガス吸
    引装置。
JP4138985U 1985-03-22 1985-03-22 Expired JPH0135099Y2 (ja)

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JPS61157776U JPS61157776U (ja) 1986-09-30
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JP5221398B2 (ja) * 2009-01-08 2013-06-26 株式会社東芝 蒸気弁装置およびそれを備えた発電設備

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