JPH0136899B2 - - Google Patents

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Publication number
JPH0136899B2
JPH0136899B2 JP16452782A JP16452782A JPH0136899B2 JP H0136899 B2 JPH0136899 B2 JP H0136899B2 JP 16452782 A JP16452782 A JP 16452782A JP 16452782 A JP16452782 A JP 16452782A JP H0136899 B2 JPH0136899 B2 JP H0136899B2
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JP
Japan
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sample
rays
crystal
ray
axis
Prior art date
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Expired
Application number
JP16452782A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5952737A (ja
Inventor
Haruo Sekiguchi
Ryoichi Shimizu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP16452782A priority Critical patent/JPS5952737A/ja
Publication of JPS5952737A publication Critical patent/JPS5952737A/ja
Publication of JPH0136899B2 publication Critical patent/JPH0136899B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/20Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
    • G01N23/207Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、ラウエカメラ法とゴニオメータ法を
両用できるX線結晶方位測定装置に関する。
(従来技術) 結晶方位の割出しには、アルミニウム等の軽元
素をターゲツトに用いたX線発生装置からの連続
X線と、タングステン等の重元素をターゲツトに
用いたX線発生装置からの特性X線を試料結晶に
照射して、前者によりラウエカメラ法による粗い
方位の測定を、また後者によりゴニオメータ法に
よる精密な測定とを併用することが行なわれる。
このため、連続X線発生装置を備えたラウエ法
カメラ装置と、特性X線発生装置を備えたゴニオ
メータ装置を必要とする。
(発明が解決しようとする課題) 従つて、連続X線照射用の線源装置と特性X線
照射用の線源装置の2つの装置を必要として、装
置がコスト高となるばかりでなく、粗い測定から
精密な測定への切換の際に試料結晶を別々の試料
台を移し変えねばならないという問題があつた。
(課題を解決するための手段) このような問題を解決するために本発明装置
は、試料結晶の回折特性をゴニオメータ法で測定
するに充分な強度の特性X線とラウエカメラ法で
測定するに充分な強度の連続X線を発生する共通
のターゲツトを有するX線発生装置と、該X線発
生装置の照射側に配設されたコリメータと、コリ
メータ軸上にフイルムカセツテの中心が位置する
カセツテ保持手段と、試料結晶をコリメータ軸上
に保持して前記コリメータ軸に対して非平行な少
なくとも1つの軸の回りを回動する試料保持手段
と、試料結晶によつて回折されたX線を捕捉する
ように試料軸に対して回動するX線検出手段とを
備えている。
(作用) 同一試料台に固定された試料結晶に対して、同
一のX線発生装置から発生するX線の内、連続X
線を照射してウエラカメラ法を、また特性X線を
照射してゴニオメータ法を適用する。
(実施例) そこで、以下に本発明の詳細を図示した実施例
に基づいて説明する。
第1図は、本発明の一実施例を示したものであ
つて、図中符号1は、モリブデンや銅をターゲツ
ト材に使用したX線発生装置で、第2図に示した
ように試料結晶Sからの回折X線を測定するに充
分な強度の特性X線と、ラウエ斑点を撮影する
のに充分な強度の連続X線を同一のターゲツト
から放出するように構成され、基台2の一端に設
けた支柱3に固定されている。4は、コリメータ
軸に沿つて前後に摺動可能に基台2上のレール5
に跨設されたカセツテホルダで、後端がX線発生
装置1の照射側に取付けられて試料結晶の中心部
に向いたコリメータ6の先端が貫通しており、こ
のホルダ4には試料結晶Sからの回折X線を受け
てラウエ斑点を撮影するようにフイルムカセツテ
7が取付可能に構成されている。8は、試料結晶
Sを垂直軸Y及び水平軸X方向に回転することの
できる2軸回転試料台で、その基板9は、基台2
上にあつて垂直軸Yを中心に回転するθ軸回転テ
ーブル10上に取付けられ、また基板9に立設し
た面内面回転ガイド11には、この内周面を案内
として回転するリング12が取付けられていて、
このリング12には、コリメータ軸上に試料結晶
Sを保持する試料ホルダ13が取付けられてい
る。14は、試料結晶からの特性X線の回折線を
検出するゴニオメータで、基台2に設けられたθ
軸回転テーブル10と、試料結晶SのX線照射点
を中心に回転するアーム15に取付けられた計数
管16とから構成されている。
上述の実施例において、試料結晶を試料台8に
固定し、X線フイルムカセツテ7をカセツテホル
ダ4に取付けた後、試料台8を操作して測定すべ
き試料結晶の面をカセツテ7に対向させ、またカ
セツテホルダ4を前後に摺動して両者間の距離を
調節する。このような準備を終えた段階でX線発
生装置1を作動させると、X線発生装置1からの
X線は、コリメータ6でポイントホーカスされて
細い平行なビームとなつて試料結晶Sを照射し、
試料結晶Sの結晶構造に基づく回折を受けてフイ
ルムカセツテ7を照射する。この回折を受けたX
線の内、連続X線は、フイルムカセツテ7上にラ
ウエ斑点を形成する。所定の露出時間経過後、X
線発生装置1の動作を停止させて、フイルムカセ
ツテ7をホルダ4から取外す。
このようにして撮影されてラウエ斑点から試料
結晶Sについての大まかな方位が把握できる。
次に、ラウエ斑点を検出したときの試料結晶S
と試料台8との相対位置関係を変えることなく、
試料台8を操作して結晶試料の試料面をコリメー
タ軸に対して適当な角度、つまり計数管16によ
り特性X線の回折線が観測できる面となる角度に
設定し、さらに上述のラウエカメラ法で得た大ま
かな方位を参考にして、X線発生装置1からの特
性X線が回折するであろう位置に計数管16をセ
ツトする。
この段階で再びX線発生装置1を作動させてX
線を試料結晶Sに照射すると、照射X線中に含ま
れている特性X線は、試料結晶Sで回折される。
そこで、ゴニオメータ14の回転軸をさらに微調
整して最強の回折X線が観測される位置を検出
し、この位置を回転軸の目盛りから読取ると、試
料結晶の精密な結晶方位が測定できることにな
る。
なお、上述の実施例においては、ラウエカメラ
を背面反射カメラとして構成しているが、試料台
の後方にフイルムカセツテを配設して透過カメラ
に構成することもできる。
(効果) 以上説明したように本発明によれば、試料結晶
の回折特性を測定するに充分な特性X線とラウエ
斑点を撮影するに充分な連続X線を同時に発生す
るターゲツトに有するX線発生装置を線源とし、
これとフイルムカセツテ、試料台及びゴニオメー
タとを関係的に一体化したので、X線源を共用す
ることができて装置の低価格化と、小型化が図れ
るばかりでなく、二種類の測定を通じて試料台か
ら試料を外す必要がなく、試料の移し変えや再セ
ツトの手間を省くことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例を示す実施例の正
面図、第2図は、モリブデンをターゲツトとする
X線発生装置の出力スペクトルを示す特性図であ
る。 1…X線発生装置、4…カセツテホルダ、7…
フイルムカセツテ、8…試料台、10…θ軸回転
テーブル、11…面内回転ガイド、14…ゴニオ
メータ、16…計数管、S…試料結晶。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 試料結晶の回折特性をゴニオメータ法で測定
    するに充分な強度の特性X線とラウエカメラ法で
    測定するに充分な強度の連続X線を発生する共通
    のターゲツトを有するX線発生装置と、該X線発
    生装置の照射側に配設されたコリメータと、コリ
    メータ軸上にフイルムカセツテの中心が位置する
    カセツテ保持手段と、試料結晶をコリメータ軸上
    に保持して前記コリメータ軸に対して非平行な少
    なくとも1つの軸の回りを回動する試料保持手段
    と、試料結晶によつて回折されたX線を捕捉する
    ようにX線照射点を中心にして回動するX線検出
    手段とからなるX線結晶方位測定装置。
JP16452782A 1982-09-20 1982-09-20 X線結晶方位測定装置 Granted JPS5952737A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16452782A JPS5952737A (ja) 1982-09-20 1982-09-20 X線結晶方位測定装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16452782A JPS5952737A (ja) 1982-09-20 1982-09-20 X線結晶方位測定装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5952737A JPS5952737A (ja) 1984-03-27
JPH0136899B2 true JPH0136899B2 (ja) 1989-08-03

Family

ID=15794856

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16452782A Granted JPS5952737A (ja) 1982-09-20 1982-09-20 X線結晶方位測定装置

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CN102642254B (zh) * 2012-05-14 2014-04-23 云南蓝晶科技股份有限公司 晶面定向检测粘接台

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Publication number Publication date
JPS5952737A (ja) 1984-03-27

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