JPH0136901B2 - - Google Patents

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JPH0136901B2
JPH0136901B2 JP57208075A JP20807582A JPH0136901B2 JP H0136901 B2 JPH0136901 B2 JP H0136901B2 JP 57208075 A JP57208075 A JP 57208075A JP 20807582 A JP20807582 A JP 20807582A JP H0136901 B2 JPH0136901 B2 JP H0136901B2
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JP
Japan
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Application number
JP57208075A
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English (en)
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JPS5997046A (ja
Inventor
Hiroshi Yamauchi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Publication date
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Priority to JP57208075A priority Critical patent/JPS5997046A/ja
Publication of JPS5997046A publication Critical patent/JPS5997046A/ja
Publication of JPH0136901B2 publication Critical patent/JPH0136901B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/227Measuring photoelectric effect, e.g. photoelectron emission microscopy [PEEM]

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はX線を励起源とし、試料から放出され
る光電子により試料の元素分析を行なう光電子分
光分析装置に関する。
従来のこの種の光電子分光分析装置には、第1
図に示すように、フイラメントb1、アノードc1
電極d1等からなるX線発生手段a1を試料室e1内に
むき出しにしたいわゆる解放型のものが広く採用
されている。この様な従来のものにおいて、試料
室e1内を真空ポンプf1で分析可能な、たとえば
10-8Torr程度の真空度に真空引きした後、X線
発生手段a1を稼動させると、フイラメントb1の表
面やその近傍に吸着されたガスがフイラメントb1
で加熱されて多量に放出される。X線発生手段a1
に対しては何ら遮蔽物が設けられていないので、
上記放出されたガスは試料室e1内に拡散されてX
線発生手段a1に近接配置された試料g1の表面を容
易に汚染する。特に数10Åの極表面を分析する場
合には汚染の影響が大きく、分析精度が損なわれ
るという不具合を生じる。この不具合を改善する
ため、第2図に示すように、試料室e2に対して、
X線発生手段a2を収容する差動排気室h2を並設
し、両室e2,h2にそれぞれ真空ポンプf2,f3を連
設するとともに、両室e2,h2をバルブv2によつて
連通するようにしたものも試みられている。この
構造のものでは、X線発生手段a2が差動排気室h2
を構成する隔壁i2で覆われているので上述した不
具合は解消される。しかしながら試料室e2と差動
排気室h2とはそれぞれ別個に真空状態を保持する
必要があるので気密性のある構造とせねばなら
ず、また、真空ポンプf2,f3も各室e2,h2に設け
ねばならないため非常に高価なものとなる。さら
に、真空引きに際しては薄膜のX線窓jを破損し
ないよう両室e2,h2内の真空バランスを保たねば
ならない。このためにバルブv2の操作が新たに必
要となつて分析の操作が煩雑になるという問題が
ある。
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたもので
あつて、X線発生手段の加熱にともなう試料表面
のガスによる汚染を防止するとともに安価で、か
つ排気の操作も容易な光電子分光分析装置を提供
することを目的とする。
本発明は、上記の目的を達成するため、真空室
を構成するハウジング内には、試料配置用の試料
台と、前記試料にX線を照射するX線発生手段と
がそれぞれ設けられる一方、前記ハウジング内を
真空引きする真空ポンプを備えた光電子分光分析
装置において、次の構成を採る。
すなわち、本発明の光電子分光分析装置は、ハ
ウジング内に、前記X線発生手段を覆つて該X線
発生手段と試料台との間を隔離するカバー部材が
設けられ、このカバー部材の前記X線発生手段と
試料台との間に位置する隔離部には、前記X線発
生手段からのX線を試料に向けて透過させるX線
窓が形成され、また、このカバー部材からはパイ
プ部が延設され、このパイプ部の解放端はハウジ
ング内の前記真空ポンプに近接した位置に開口さ
れていることを特徴としている。
以下、本発明の構成を第3図に示す実施例に基
づいて説明する。
第3図は本発明の光電子分光分析装置1の断面
図である。同図において、1は光電子分光分析装
置の全体を示し、2は真空室、3はこの真空室2
を構成するハウジングで、このハウジング内3に
は、試料4の配置用の試料台5、試料4にX線を
照射するX線発生手段9および試料4からX線に
より励起されて放出される光電子を検出、分析す
る分析手段10がそれぞれ収容されている。そし
て、上記のX線発生手段9は、フイラメント6、
電極7、ターゲツト8からなる。また、11は真
空室2内を真空引きするため、ハウジング3内に
バルブ12を介して連設された真空ポンプであ
る。
さらに、上記のハウジング3内には、X線発生
手段9を覆つて該X線発生手段9と試料台5との
間を隔離するカバー部材16が設けられている。
そして、このカバー部材16のX線発生手段9と
試料台5との間を位置する隔離部18には貫通穴
22が形成されるとともに、この貫通穴22を閉
鎖してX線発生手段9からのX線を試料4に向け
て透過させるアルミ箔等でできたX線窓24が固
着されている。さらに、このカバー部材16の下
部からはその下方に向かつてパイプ部20が延設
されており、このパイプ部20の解放端26はハ
ウジング3内の真空ポンプ11に近接した位置に
開口されている。
したがつて、上記構成において、試料4の分析
に際しては、バルブ12を開いて真空ポンプ11
で真空室2内を真空引きすると、カバー部材16
内も同時に真空引きされる。そして、所定の真空
度たとえば108Torr程度になつた時点でX線発生
手段9のフイラメント6を点灯する。これによ
り、フイラメント6およびその周辺に吸着してい
たガスは、フイラメント6に加熱されて放出され
る。その場合、放出ガスは、カバー部材16によ
つて真空室2内への拡散が制限され、真空ポンプ
11に吸引されて直ちにハウジング3外に排気さ
れる。すなわち、フイラメント6の点灯時点で
は、その真空度が既に有る程度高くなつているの
で大気中に比べると放出ガスの平均自由行程は大
きく、したがつて、ガスの真空室2内への拡散よ
りも真空ポンプ11により吸引される方が優先さ
れることになる。
以上のように本発明によれば、試料室内にX線
発生手段を覆うカバー部材を設け、しかもその開
放端を真空ポンプに近接し、かつ、試料室内に開
口するようにしたのでX線発生手段のフイラメン
トの加熱による放出ガスによつて試料表面が汚染
されることが防止される。しかも、真空ポンプを
余分に設置する必要もなく、かつ、カバー部材も
気密性を必要としないので、機械的強度も要求さ
れず、薄肉のものが適用できる。従つて、安価な
費用で試料汚染が防止できる。さらに、排気に際
してのバルブ操作の煩雑さもないという実用上優
れた効果が発揮される。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は従来の光電子分光分析装
置を示す断面図、第3図は本発明の光電子分光分
析装置の実施例を示す断面図である。 1…光電子分光分析装置、2…真空室、3…ハ
ウジング、4…試料、9…X線発生手段、11…
真空ポンプ、16…カバー部材、16…隔離部、
20…パイプ部、24…X線窓、26…解放端。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 真空室を構成するハウジング内には、試料配
    置用の試料台と、前記試料にX線を照射するX線
    発生手段とがそれぞれ設けられる一方、前記ハウ
    ジング内を真空引きする真空ポンプを備えた光電
    子分光分析装置において、 前記ハウジング内には、前記X線発生手段を覆
    つて該X線発生手段と試料台との間を隔離するカ
    バー部材が設けられ、このカバー部材の前記X線
    発生手段と試料台との間に位置する隔離部には、
    前記X線発生手段からのX線を試料に向けて透過
    させるX線窓が形成され、また、このカバー部材
    からはパイプ部が延設され、このパイプ部の解放
    端はハウジング内の前記真空ポンプに近接した位
    置に開口されていることを特徴とする光電子分光
    分析装置。
JP57208075A 1982-11-26 1982-11-26 光電子分光分析装置 Granted JPS5997046A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57208075A JPS5997046A (ja) 1982-11-26 1982-11-26 光電子分光分析装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP57208075A JPS5997046A (ja) 1982-11-26 1982-11-26 光電子分光分析装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5997046A JPS5997046A (ja) 1984-06-04
JPH0136901B2 true JPH0136901B2 (ja) 1989-08-03

Family

ID=16550222

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57208075A Granted JPS5997046A (ja) 1982-11-26 1982-11-26 光電子分光分析装置

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JPH0668474B2 (ja) * 1985-06-07 1994-08-31 日電アネルバ株式会社 光電子分析装置

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JPS5997046A (ja) 1984-06-04

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