JPH0137760Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0137760Y2 JPH0137760Y2 JP1985152613U JP15261385U JPH0137760Y2 JP H0137760 Y2 JPH0137760 Y2 JP H0137760Y2 JP 1985152613 U JP1985152613 U JP 1985152613U JP 15261385 U JP15261385 U JP 15261385U JP H0137760 Y2 JPH0137760 Y2 JP H0137760Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotating disk
- tank
- denitrification
- nitrification
- disk tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W10/00—Technologies for wastewater treatment
- Y02W10/10—Biological treatment of water, waste water, or sewage
Landscapes
- Biological Treatment Of Waste Water (AREA)
- Purification Treatments By Anaerobic Or Anaerobic And Aerobic Bacteria Or Animals (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案は回転円板型脱窒装置に関する。
従来の技術
生物学的脱窒装置の一種として回転円板型脱窒
装置がある。これは、処理槽内に、複数の回転円
板にて構成されるロータを設け、このロータを回
転させることにより回転円板の表面に生物膜を形
成し、この生物膜により水処理を行なうものであ
る。従来の回転円板型脱窒装置は曝気用回転円板
槽と、硝化用回転円板槽と、脱窒用回転円板槽と
をこの順に配置したものが用いられている。
装置がある。これは、処理槽内に、複数の回転円
板にて構成されるロータを設け、このロータを回
転させることにより回転円板の表面に生物膜を形
成し、この生物膜により水処理を行なうものであ
る。従来の回転円板型脱窒装置は曝気用回転円板
槽と、硝化用回転円板槽と、脱窒用回転円板槽と
をこの順に配置したものが用いられている。
考案が解決しようとする問題点
ところが、上記のような従来のものでは、脱窒
処理は脱窒用回転円板槽のみでしか行なわれない
ため、高負荷の場合等において十分な処理能力が
得られないという問題がある。
処理は脱窒用回転円板槽のみでしか行なわれない
ため、高負荷の場合等において十分な処理能力が
得られないという問題がある。
そこで本考案は、十分な脱窒処理能力を得るこ
とができるようにすることを目的とする。
とができるようにすることを目的とする。
問題点を解決するための手段
上記目的を達成するため本考案は、
前脱窒用回転円板槽と、硝化用回転円板槽と、
脱窒用回転円板槽とをこの順に配置し、 前脱窒用回転円板槽における回転円板の浸水率
を60〜80%の範囲に設定し、 硝化用回転円板槽からの硝化液を前脱窒用回転
円板槽の底部に注入し、 たものである。
脱窒用回転円板槽とをこの順に配置し、 前脱窒用回転円板槽における回転円板の浸水率
を60〜80%の範囲に設定し、 硝化用回転円板槽からの硝化液を前脱窒用回転
円板槽の底部に注入し、 たものである。
作 用
このようなものであると、硝化液を前脱窒用回
転円板槽に注入したため、この前脱窒用回転円板
槽内で脱窒処理を行なうことができ、この結果脱
窒用回転円板槽の負荷を軽減できて十分な処理能
力を達成できる。また、前脱窒用回転円板槽にお
ける回転円板の浸水率を60〜80%の範囲に設定し
たため、この前脱窒用回転円板槽において一部好
気的な嫌気処理を行なうことができ、このため
BOD除去効果を得ることができる。さらに、硝
化液を前脱窒用回転円板槽の底部に注入するもの
であるため前記嫌気処理により回転円板に付着し
た汚泥を剥離させることが可能となる。
転円板槽に注入したため、この前脱窒用回転円板
槽内で脱窒処理を行なうことができ、この結果脱
窒用回転円板槽の負荷を軽減できて十分な処理能
力を達成できる。また、前脱窒用回転円板槽にお
ける回転円板の浸水率を60〜80%の範囲に設定し
たため、この前脱窒用回転円板槽において一部好
気的な嫌気処理を行なうことができ、このため
BOD除去効果を得ることができる。さらに、硝
化液を前脱窒用回転円板槽の底部に注入するもの
であるため前記嫌気処理により回転円板に付着し
た汚泥を剥離させることが可能となる。
実施例
以下、本考案の一実施例を図面にもとづいて説
明する。第1図において、1は前脱窒用回転円板
槽で、被処理原液の供給路2が接続されている。
3は回転円板で、浸水率が60〜80%の範囲となる
ように設置されている。前脱窒用回転円板槽1の
下流側には、硝化用回転円板槽4が設けられてい
る。5は回転円板で、その浸水率は40%に設定さ
れている。硝化用回転円板槽4からの硝化液は、
脱窒用回転円板槽6に供給されている。また、硝
化液の一部は、ポンプ7を有した循環路8を通
り、前脱窒用回転円板槽1の底部に注入されてい
る。
明する。第1図において、1は前脱窒用回転円板
槽で、被処理原液の供給路2が接続されている。
3は回転円板で、浸水率が60〜80%の範囲となる
ように設置されている。前脱窒用回転円板槽1の
下流側には、硝化用回転円板槽4が設けられてい
る。5は回転円板で、その浸水率は40%に設定さ
れている。硝化用回転円板槽4からの硝化液は、
脱窒用回転円板槽6に供給されている。また、硝
化液の一部は、ポンプ7を有した循環路8を通
り、前脱窒用回転円板槽1の底部に注入されてい
る。
脱窒用回転円板槽6の回転円板9は、浸水率が
100%すなわち完全に水没された構成となつてい
る。10はメタノールタンクで、ポンプ11を有
したメタノール供給路12が脱窒用回転円板槽6
に導かれている。槽6内においては、脱窒により
生じた窒素ガスが汚泥に付着し、これがスカム1
3となつて浮遊するが、14はこのスカム13を
除去するためのスカムスキマー、15はスカム1
3を排出するためのスカムピツトである。
100%すなわち完全に水没された構成となつてい
る。10はメタノールタンクで、ポンプ11を有
したメタノール供給路12が脱窒用回転円板槽6
に導かれている。槽6内においては、脱窒により
生じた窒素ガスが汚泥に付着し、これがスカム1
3となつて浮遊するが、14はこのスカム13を
除去するためのスカムスキマー、15はスカム1
3を排出するためのスカムピツトである。
脱窒用回転円板槽6の下流側には、再曝気用回
転円板槽16が設けられている。17は回転円板
で、その浸水率は40%に設定されている。また、
再曝気用回転円板槽16の下流側には凝集沈殿池
18が設けられている。19は排泥ポンプ20を
有した排泥路で、図外の汚泥濃縮槽へ導かれてい
る。
転円板槽16が設けられている。17は回転円板
で、その浸水率は40%に設定されている。また、
再曝気用回転円板槽16の下流側には凝集沈殿池
18が設けられている。19は排泥ポンプ20を
有した排泥路で、図外の汚泥濃縮槽へ導かれてい
る。
上記構成において、被処理原液はまず前脱窒用
回転円板槽1へ供給される。ここで、回転円板3
の浸水率が60〜80%の範囲となるように設定され
ているため、一部好気的な嫌気処理が行なわれ、
BOD除去処理がなされる。また、硝化用回転円
板槽4からの硝化液が循環路8を経て供給される
ため、槽1内において前脱窒処理が行なわれる。
また、嫌気性処理により回転円板3に汚泥が付着
成長するが、硝化液を槽1内底部に供給している
ことから、上記汚泥の剥離に寄与することが可能
となる。なお、回転円板3の浸水率を60〜80%の
範囲に設定したのは、この範囲以下になると嫌気
性処理が不可能となり、またこの範囲以上になる
と一部好気的な処理が不可能となるためである。
回転円板槽1へ供給される。ここで、回転円板3
の浸水率が60〜80%の範囲となるように設定され
ているため、一部好気的な嫌気処理が行なわれ、
BOD除去処理がなされる。また、硝化用回転円
板槽4からの硝化液が循環路8を経て供給される
ため、槽1内において前脱窒処理が行なわれる。
また、嫌気性処理により回転円板3に汚泥が付着
成長するが、硝化液を槽1内底部に供給している
ことから、上記汚泥の剥離に寄与することが可能
となる。なお、回転円板3の浸水率を60〜80%の
範囲に設定したのは、この範囲以下になると嫌気
性処理が不可能となり、またこの範囲以上になる
と一部好気的な処理が不可能となるためである。
前脱窒用回転円板槽1内で前脱窒処理および
BOD除去処理がなされた被処理原液は、次に硝
化用回転円板槽4内で好気性条件のもとで硝化処
理される。この結果生じた硝化液は、その大部分
が脱窒用回転円板槽6に送られ、かつその一部が
循環路8を経て前脱窒用回転円板槽1へ送られ
る。
BOD除去処理がなされた被処理原液は、次に硝
化用回転円板槽4内で好気性条件のもとで硝化処
理される。この結果生じた硝化液は、その大部分
が脱窒用回転円板槽6に送られ、かつその一部が
循環路8を経て前脱窒用回転円板槽1へ送られ
る。
脱窒用回転円板槽6内ではメタノールタンク1
0から供給されるメタノールが混合されて脱窒処
理が行なわれる。脱窒処理により生じたスカム1
3はスカムスキマー14にてスカムピツト15に
排出される。処理された液は再曝気用回転円板槽
16に送られ、好気性条件のもとで曝気される。
曝気後の液は凝集沈殿池18へ送られ、液中に含
まれる汚泥が凝集沈殿され、この汚泥は排泥路1
9を経て図外の汚泥濃縮槽へ排出される。
0から供給されるメタノールが混合されて脱窒処
理が行なわれる。脱窒処理により生じたスカム1
3はスカムスキマー14にてスカムピツト15に
排出される。処理された液は再曝気用回転円板槽
16に送られ、好気性条件のもとで曝気される。
曝気後の液は凝集沈殿池18へ送られ、液中に含
まれる汚泥が凝集沈殿され、この汚泥は排泥路1
9を経て図外の汚泥濃縮槽へ排出される。
考案の効果
以上述べたように本考案によると、前脱窒用回
転円板槽内で脱窒処理を行なうことができるた
め、脱窒用回転円板槽の負荷を軽減できて十分な
処理能力を達成でき、また前脱窒用回転円板槽内
でBOD除去処理を行なうこともでき、さらに前
脱窒用回転円板槽の底部に硝化液を注入すること
から、槽内の回転円板に付着した汚泥を剥離する
こともできる。
転円板槽内で脱窒処理を行なうことができるた
め、脱窒用回転円板槽の負荷を軽減できて十分な
処理能力を達成でき、また前脱窒用回転円板槽内
でBOD除去処理を行なうこともでき、さらに前
脱窒用回転円板槽の底部に硝化液を注入すること
から、槽内の回転円板に付着した汚泥を剥離する
こともできる。
第1図は本考案の一実施例の概略構成図であ
る。 1……前脱窒用回転円板槽、3……回転円板、
4……硝化用回転円板槽、6……脱窒用回転円板
槽、8……循環路。
る。 1……前脱窒用回転円板槽、3……回転円板、
4……硝化用回転円板槽、6……脱窒用回転円板
槽、8……循環路。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 前脱窒用回転円板槽と、硝化用回転円板槽と、
脱窒用回転円板槽とをこの順に配置し、 前脱窒用回転円板槽における回転円板の浸水率
を60〜80%の範囲に設定し、 硝化用回転円板槽からの硝化液を前脱窒用回転
円板槽の底部に注入し、 たことを特徴とする回転円板型脱窒装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985152613U JPH0137760Y2 (ja) | 1985-10-04 | 1985-10-04 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985152613U JPH0137760Y2 (ja) | 1985-10-04 | 1985-10-04 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6262897U JPS6262897U (ja) | 1987-04-18 |
| JPH0137760Y2 true JPH0137760Y2 (ja) | 1989-11-14 |
Family
ID=31070748
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985152613U Expired JPH0137760Y2 (ja) | 1985-10-04 | 1985-10-04 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0137760Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100483305B1 (ko) * | 2002-05-17 | 2005-04-15 | 한라산업개발 주식회사 | 회전원판을 이용한 오·폐수 패키지 처리장치 |
-
1985
- 1985-10-04 JP JP1985152613U patent/JPH0137760Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6262897U (ja) | 1987-04-18 |
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