JPH0140114B2 - - Google Patents

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JPH0140114B2
JPH0140114B2 JP27516085A JP27516085A JPH0140114B2 JP H0140114 B2 JPH0140114 B2 JP H0140114B2 JP 27516085 A JP27516085 A JP 27516085A JP 27516085 A JP27516085 A JP 27516085A JP H0140114 B2 JPH0140114 B2 JP H0140114B2
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JP
Japan
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plating
plating liquid
anode
pass line
support
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Application number
JP27516085A
Other languages
Japanese (ja)
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JPS62136587A (en
Inventor
Yasuto Murata
Kenji Yamamoto
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NIPPON EREKUTOROPUREITEINGU ENJINYAAZU KK
Original Assignee
NIPPON EREKUTOROPUREITEINGU ENJINYAAZU KK
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Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> この発明は部分メツキ装置、特にメツキ物のフ
オーク状先端部に左右一対対向しているメツキ対
象部に部分メツキを施すに好適な部分メツキ装置
に関する。
[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention relates to a partial plating device, particularly a partial plating device suitable for partially plating a target portion to be plated, which has a pair of left and right opposite fork-like tips of the plating object. Regarding.

<従来の技術> 従来より、第6図に示すようなメツキ物1の
「フオーク状先端部」としてのコネクタ端子2の
メツキ対象部〔後述〕に、部分メツキを施す場
合、種々の技術が採用されてきた。
<Prior art> Conventionally, various techniques have been adopted when partially plating the target part of the connector terminal 2 [described later] as the "fork-shaped tip" of the plating object 1 as shown in FIG. It has been.

このコネクタ端子2は、連続帯状部3に所定間
隔で櫛歯状に複数本形成されているもので、この
コネクタ端子2に於けるメツキ対象部4とは、端
部5に所定の間隙を隔て左右一対相対向して形成
されている凸状部6の側面をいうものである。
This connector terminal 2 is formed in a plurality of comb-like shapes at predetermined intervals on a continuous band-shaped portion 3, and the plating target portion 4 of this connector terminal 2 is separated from the end portion 5 by a predetermined gap. This refers to the side surfaces of the convex portions 6 that are formed to face each other on the left and right sides.

このメツキ対象部4に部分メツキを施す従来の
技術としては、凸状部6を含む端部5全体をメツ
キ槽に浸漬し液面制御によつてメツキ液の施す部
位を特定しメツキする浸漬装置、或いはメツキを
必要としない部分をマスクにて覆い露出された部
分にメツキ液を噴射して施す噴射メツキ装置〔特
開昭59年−126784号、特開昭57年−161084号及び
特開昭55年−83180号公報参照〕が一般的に部分
メツキ装置として知られている。
A conventional technique for partially plating the part 4 to be plated is a dipping device that immerses the entire end part 5 including the convex part 6 in a plating tank, and specifies the part to be coated with the plating solution by controlling the liquid level. , or a spray plating device that covers parts that do not require plating with a mask and sprays plating liquid onto the exposed parts [JP-A-126784-1984, JP-A-161084-1984, and JP-A No. 161084. 1955-83180] is generally known as a partial plating device.

<発明が解決しようとする問題点> しかしながら、このような従来の部分メツキ装
置にあつては、浸漬メツキ装置では、コネクタ端
子2の端部5の周囲が一様にメツキされメツキ対
象部4に比較して、メツキ対象部4の周辺部が厚
くメツキされてしまうため、メツキエリアの明確
な限定が困難で、そのために貴金属メツキを行う
際、貴金属が必要以上に消費されてしまうもので
ある。
<Problems to be Solved by the Invention> However, in the conventional partial plating device, the periphery of the end portion 5 of the connector terminal 2 is uniformly plated, and the area to be plated 4 is not coated. In comparison, since the peripheral part of the plating target part 4 is plated thickly, it is difficult to clearly define the plating area, and therefore, when performing precious metal plating, precious metal is consumed more than necessary.

一方、マスクを使用する噴射メツキ装置では、
一般的にメツキ対象部4が微小化するにつれて、
又メツキ対象部4の形状が複雑化するにつれて、
マスク加工と、メツキ時に於けるマスク状態の完
全な維持が困難となり、上記と同様に貴金属が必
要以上に消費されるものであつた。
On the other hand, in spray plating equipment that uses a mask,
Generally, as the plating target part 4 becomes smaller,
Also, as the shape of the plating target part 4 becomes more complex,
It became difficult to completely maintain the mask state during mask processing and plating, and as with the above, precious metals were consumed more than necessary.

そのため、より少ない貴金属消費量で所望の部
分メツキが行える部分メツキ装置が望まれている
ものであつた。
Therefore, there has been a desire for a partial plating device that can perform desired partial plating with less precious metal consumption.

そこで、この発明は、部分メツキを高精度で且
つ効率良く行うことにより貴金属消費量を低減し
得る部分メツキ装置を提供することを目的として
いる。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a partial plating device that can reduce precious metal consumption by performing partial plating with high precision and efficiency.

<問題点を解決するための手段> 上記の目的を達成するためのこの発明の構成
を、実施例に対応する第1図乃至第4図を用いて
説明する。
<Means for Solving the Problems> The structure of the present invention for achieving the above object will be explained with reference to FIGS. 1 to 4, which correspond to embodiments.

この発明にかかる部分メツキ装置は、メツキ物
1のフオーク状先端部としてのコネクタ端子2に
あるメツキ対象部4間に介在しているメツキ液供
給体10が、左右に傾斜ガイド面16を有する略
山形状の頂部17を備え、この頂部17の上端1
8又は上端近辺にメツキ液滲出用の開口19を設
け、且つこの開口19に連通するメツキ液供給用
の通路20を形成した支持体13と、この支持体
13の頂部17の上端18で、パスライン(図中
PL)に沿つて配されている略丸棒状のアノード
14と、そしてアノード14及び支持体13の頂
部17の表面を被覆しパスラインに対し交差する
方向〔矢印A方向〕で移動して巻き取り自在とさ
れ、且つ上記パスライン対応部位にメツキ液の
「受渡し部」25を形成する網体15とからなる
ものである。
In the partial plating device according to the present invention, a plating liquid supply body 10 interposed between a plating target portion 4 of a connector terminal 2 as a fork-shaped tip of a plating object 1 has inclined guide surfaces 16 on the left and right sides. A mountain-shaped top 17 is provided, and the upper end 1 of this top 17 is
8 or near the upper end thereof, a support 13 is provided with an opening 19 for the plating liquid to ooze out, and a passage 20 for supplying the plating liquid communicating with the opening 19 is formed. line (in the diagram)
PL), and the surfaces of the anode 14 and the top part 17 of the support 13 are coated and wound by moving in the direction [direction of arrow A] intersecting the pass line. It is made up of a mesh body 15 that is flexible and forms a "delivery section" 25 for the plating solution at a portion corresponding to the above-mentioned pass line.

<作用> そしてこの発明は前記の手段により、メツキさ
れるべき「メツキ物」1が所定ピツチ移動して左
右一対の両メツキ対象部4間にメツキ液供給体1
0が介在する状態になると、メツキ液12が支持
体13の通路20を介し頂部17の上端18或い
は上端近辺に設けられた開口19より滲出し網体
15に吸収されて網体15を浸潤させる。
<Operation> According to the above-mentioned means, the "plating object" 1 to be plated is moved by a predetermined pitch, and the plating liquid supply body 1 is moved between the left and right pair of plating target parts 4.
0, the plating liquid 12 is absorbed into the exuding net 15 through the passage 20 of the support 13 through the opening 19 provided at or near the upper end 18 of the top portion 17, thereby infiltrating the net 15. .

そして、このメツキ液12は支持体13の頂部
17付近の網体15のみならず網体15自身の毛
細管現象により上方のアノード14の側面に対応
する部分にまでメツキ液12を吸引して浸潤さ
せ、そして一部は網体15の表面28より外部に
滲出させることにより、メツキ対象部4のパスラ
インPL対応部位に新鮮なメツキ液12を常時、
適量供給し得るメツキ液の「受渡し部」25を形
成するものである。
This plating liquid 12 is sucked and infiltrated not only into the net 15 near the top 17 of the support 13 but also into the portion corresponding to the side surface of the upper anode 14 due to the capillary action of the net 15 itself. A part of the plating liquid 12 is allowed to seep out from the surface 28 of the mesh body 15 to the outside, thereby constantly supplying fresh plating liquid 12 to the area corresponding to the pass line PL of the plating target area 4.
It forms a "delivery section" 25 for plating solution that can be supplied in an appropriate amount.

メツキ対象部4は、メツキ液12にて浸潤され
ている「受渡し部」25に接触し、或いは近接し
て非接触状態を維持することで、メツキエリアが
このメツキ対象部4のみに限定されると共にメツ
キ液12がこのメツキ対象部4の全体に均等に受
け渡されるものである。
The plating target part 4 contacts or approaches the "delivery part" 25 soaked with the plating liquid 12 and maintains a non-contact state, thereby limiting the plating area to only this plating target part 4. The plating liquid 12 is evenly distributed over the entire part 4 to be plated.

そして、メツキ対象部4に近接して配されたア
ノード14に通電することにより高電流密度が得
られ、メツキ対象部4に所望のメツキが高精度で
且つ効率良く施されるものである。
By energizing the anode 14 disposed close to the plating target part 4, a high current density can be obtained, and the desired plating can be applied to the plating target part 4 with high precision and efficiency.

そして、網体15がパスラインPLに対して交
差方向〔矢示A方向〕に移動して適宜長さ巻き取
られて新たな「受渡し部」25を構成するが、こ
の網体15巻き取りタイミングは、メツキ物1の
移動に関係なく設定でき、メツキ物1の連続又は
断続的な移動中或いはメツキ物1の停止時に網体
15は連続的に又は断続的に巻き取られて新たな
「受渡し部」25が形成されるものである。
Then, the net 15 moves in a direction crossing the pass line PL (in the direction of arrow A) and is wound up to an appropriate length to form a new "delivery section" 25, but the timing for winding this net 15 is can be set regardless of the movement of the plating object 1, and when the plating object 1 is moving continuously or intermittently or when the plating object 1 is stopped, the net body 15 is continuously or intermittently wound up and a new "delivery" is performed. 25 is formed.

このようにしてメツキ対象部4が網体15に直
接、接触してメツキが施される場合であつても、
網体15の特定部分のみが「メツキ物」1のメツ
キ対象部4と接触して磨耗することがないように
配慮されている。
Even if the plating target part 4 is directly contacted with the net body 15 and plating is applied in this way,
Care is taken so that only a specific part of the net 15 does not come into contact with the plating target part 4 of the "plating object" 1 and wear out.

<実施例> 以下、この発明の一実施例を第1図乃至第4図
を参照して説明する。
<Example> An example of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 4.

尚、従来と共通する部分は同一符号を用いるこ
ととし、重複説明を省略する。
Incidentally, the same reference numerals are used for parts common to the conventional one, and redundant explanation will be omitted.

まず、この発明にかかる部分メツキ装置9に於
けるメツキ液供給体10は、メツキ処理槽11内
に配され主にメツキ液12を供給すると共にアノ
ード〔後述〕を支持する支持体13と、支持体1
3の上端〔後述〕にパスライン〔図中矢示PL〕
に沿つて配されているアノード14と、アノード
14及び支持体13の頂部〔後述〕の表面を被覆
しパスラインPLに対し交差する方向で移動して
巻き取り自在とされメツキ液12の受渡し部〔後
述〕を形成する網体15とから主に構成される。
First, the plating liquid supply body 10 in the partial plating apparatus 9 according to the present invention is arranged in the plating processing tank 11 and mainly supplies the plating liquid 12, and also includes a support body 13 that supports an anode (described later), and a support body 13 that supports an anode (described later). body 1
Pass line at the upper end of 3 [described later] [PL arrow indicates in the figure]
An anode 14 arranged along the plating liquid 12, and a delivery section for the plating liquid 12, which covers the surfaces of the anode 14 and the top of the support 13 (described later) and can be moved and wound up in a direction crossing the pass line PL. It is mainly composed of a mesh body 15 forming a mesh body 15 [described later].

この支持体13は、絶縁性材料により形成され
ており、左右に傾斜ガイド面16を有する略山形
状の頂部17を備え、この頂部17の上端18に
はメツキ液12滲出用の開口19が設けられてお
り、この開口19と連通しているメツキ液供給用
の通路20が貫通形成されている。そして、この
通路20には、枠形状の流通路21を有する通路
形成体22が嵌合されており、その一端23は支
持体13の開口19より突出してアノード14を
支持すると共に支持体13の上端18より突出し
ている通路形成体22の空隙部分22aをメツキ
液12を滲出用の開口19となして、頂部17の
左右にメツキ液12を滲出可能なようにしてあ
る。
The support body 13 is made of an insulating material and has a substantially mountain-shaped top portion 17 having inclined guide surfaces 16 on the left and right sides, and an opening 19 for the plating liquid 12 to seep out is provided at the upper end 18 of the top portion 17. A plating liquid supply passage 20 communicating with the opening 19 is formed through the opening 19. A passage forming body 22 having a frame-shaped flow passage 21 is fitted into the passage 20, and one end 23 of the passage forming body 22 protrudes from the opening 19 of the support body 13 to support the anode 14 and the support body 13. The gap portion 22a of the passage forming body 22 protruding from the upper end 18 serves as an opening 19 for the plating liquid 12 to seep out, so that the plating liquid 12 can seep out to the left and right sides of the top portion 17.

尚、この実施例では、通路形成体22を支持体
13内部に設けアノード14を支持する例を示し
ているが、これに限定されるものではないことは
勿論で、頂部17の上端18に所定間隔で凹所を
複数、形成するようにしてもよいものである。
Although this embodiment shows an example in which the passage forming body 22 is provided inside the support body 13 to support the anode 14, it is needless to say that the passage forming body 22 is not limited to this. A plurality of recesses may be formed at intervals.

アノード14は、支持体13の頂部17の上端
18にパスラインに沿つて配される丸棒状のもの
であり、図示の例では通路形成体22の一端23
に取付けられて固定されており、網体15を介し
てコネクタ端子2と絶縁され且つメツキ対象部4
にできるだけ近づけて高電流密度を得られるよう
に、又、後述する網体15の巻き取り移動に際し
て障害にならないように丸棒状に形成されている
ものである。
The anode 14 is a round bar-shaped member disposed along the pass line at the upper end 18 of the top 17 of the support body 13, and in the illustrated example, it is in the form of one end 23 of the passage forming body 22.
It is attached and fixed to the connector terminal 2 through the mesh body 15, and is insulated from the connector terminal 2 through the mesh body 15, and the part to be plated 4.
It is formed in the shape of a round bar so that a high current density can be obtained as close as possible to the net body 15, and so that it does not become an obstacle when winding and moving the net body 15, which will be described later.

そして、網体15は、メツキ液12を保液自在
とするもので、パスラインPLに沿う方向の両側
でメツキ液12中に配された巻取り装置24によ
り、パスラインPLに交差する方向〔矢示A方向〕
に移動、巻き取り自在とされているものであり、
この網体15は、傾斜ガイド面16からアノード
14の周囲を、その表面形状に沿つて被覆してい
るものである。尚、開口19とアノード14間
は、最も縊れた部分をなし、コネクタ端子2の一
対の凸状部6に対応した一対の凹形状を呈してお
り、この凹形状が、メツキ対象部4のパスライン
PLとの対応部位であり、上記メツキ液12の受
渡し部25となるものである。
The net body 15 is capable of retaining the plating liquid 12, and is moved in the direction crossing the pass line PL by the winding devices 24 disposed in the plating liquid 12 on both sides in the direction along the pass line PL. Arrow A direction]
It is said that it can be moved and rolled up freely,
This net 15 covers the periphery of the anode 14 from the inclined guide surface 16 along its surface shape. The area between the opening 19 and the anode 14 is the most constricted part, and has a pair of concave shapes corresponding to the pair of convex portions 6 of the connector terminal 2. Path line
This is a part corresponding to the PL, and serves as a delivery part 25 for the plating liquid 12.

尚、26はポンプ、27はパイプ、29はメツ
キ液管理槽を各々示すもので、メツキ液12を圧
送し、且つ回収して循環させるものである。
26 is a pump, 27 is a pipe, and 29 is a plating liquid management tank, which pumps the plating liquid 12, collects it, and circulates it.

次に、使用状態を説明する。 Next, the usage status will be explained.

メツキされるべきコネクタ端子2が所定ピツチ
移動し左右一対のメツキ対象部4間にメツキ液供
給体10を介在させた状態に於いて、ポンプ26
により圧送されたメツキ液12は、通路20及び
開口19を介して頂部17の左右両側に滲出す
る。そして、このメツキ液12は、頂部17付近
の網体15、そして更に網体15自身の毛細管現
象により上方のアノード14の側面に対応する部
分にまで浸潤させ、そして一部は、網体15の表
面28より外部に滲出する。そして開口19とア
ノード14間の最も縊れた形状の部分は、メツキ
対象部4のパスラインPLに対応して形成されて
いる「受渡し部」25であり、新鮮なメツキ液1
2が常時、適量供給されているものである。
In a state where the connector terminal 2 to be plated has moved a predetermined pitch and the plating liquid supply body 10 is interposed between the pair of left and right parts 4 to be plated, the pump 26
The plating liquid 12 pumped by the plating liquid 12 oozes out to both left and right sides of the top portion 17 through the passage 20 and the opening 19. This plating liquid 12 is infiltrated into the mesh 15 near the top 17 and further into the part corresponding to the side surface of the upper anode 14 due to the capillary action of the mesh 15 itself, and a part of the mesh 15 is infiltrated into the mesh 15 near the top 17. It oozes out from the surface 28. The part with the most constricted shape between the opening 19 and the anode 14 is a "delivery part" 25 formed corresponding to the pass line PL of the plating target part 4, and is a "delivery part" 25 where fresh plating liquid 1 is
2 is always supplied in an appropriate amount.

コネクタ端子2のメツキ対象部4は、この「受
渡し部」25に接触し或いは近接して網体15の
表面28より滲出するメツキ液12を受取り、こ
のメツキ液12には、限定されたメツキ対象部4
全体に均等に施されるものとなる。
The plating target part 4 of the connector terminal 2 receives the plating liquid 12 exuding from the surface 28 of the net body 15 in contact with or in the vicinity of this "delivery part" 25, and this plating liquid 12 contains a limited plating target. Part 4
It will be applied evenly throughout.

この時、アノード14が通電されることにより
高電流密度が得られメツキ対象部4に所望のメツ
キが高精度で且つ効率良く施されるものである。
At this time, by energizing the anode 14, a high current density is obtained, and the desired plating can be applied to the plating target portion 4 with high precision and efficiency.

そして、メツキが終了しコネクタ端子2が所定
ピツチ移動して、メツキ液供給体10とコネクタ
端子2の接触或いは非接触の近接状態が解除され
ると、巻き取り装置24により網体15がパスラ
インPLに対して交差方向〔矢示A方向〕に移動
させられ適宜長さ巻き取られ、その後には新たな
「受渡し部」25が形成されるものであり、メツ
キ対象部4が網体15に直接、接触してメツキが
施される場合であつても、網体15の特定部分の
みがメツキ対象部4と接触して磨耗することがな
い。
Then, when the plating is completed and the connector terminal 2 moves a predetermined pitch, and the contact or non-contact proximity state between the plating liquid supply body 10 and the connector terminal 2 is released, the mesh body 15 is moved to the pass line by the winding device 24. It is moved in a direction transverse to the PL (in the direction of arrow A) and wound up to an appropriate length, after which a new "delivery section" 25 is formed, and the plating target section 4 is attached to the net body 15. Even when plating is performed by direct contact, only a specific portion of the mesh body 15 does not come into contact with the part to be plated 4 and wear out.

尚、網体15の巻き取りのタイミングは、この
実施例にあるようにメツキ液供給体10とコネク
タ端子2の接触或いは近接状態が解除された場合
だけに限定されるものではなく、コネクタ端子2
とメツキ液供給体10の接触或いは近接状態を維
持した状態で、連続的に網体15を巻き取るよう
にして「受渡し部」25を連続的に形成してもよ
いものである。
Incidentally, the timing of winding up the mesh body 15 is not limited to only when the contact or proximity state between the plating liquid supply body 10 and the connector terminal 2 is released as in this embodiment;
The "delivery section" 25 may be continuously formed by continuously winding up the net 15 while maintaining contact or proximity between the plating liquid supply body 10 and the plating liquid supply body 10.

第5図は、通路形成体29の他の実施例で、複
数の縦スリツト状の流通路30が形成されてお
り、各々の流通路30の上端部分がメツキ液12
滲出用の開口19となるようにしてある。
FIG. 5 shows another embodiment of the passage forming body 29, in which a plurality of vertical slit-shaped passages 30 are formed, and the upper end portion of each passage 30 is connected to the plating liquid 12.
It is designed to provide an opening 19 for seepage.

その他の内容は、先の実施例と略同様につき重
複説明を省略する。
The other contents are substantially the same as those in the previous embodiment, so redundant explanation will be omitted.

<効果> この発明に係る部分メツキ装置は、以上説明し
てきた如き内容のものなので、多くの効果が期待
でき、その内の主なものを列挙すれば以下の通り
である。
<Effects> Since the partial plating device according to the present invention has the contents as described above, many effects can be expected, and the main ones are listed below.

(イ) メツキ対象部のパスラインに対応してメツキ
液の受け渡し部が形成され、そこには新鮮なメ
ツキ液が常に適量供給されているため、メツキ
対象部にのみメツキ液を受渡して、その他の部
分にメツキを施すことがなく、またメツキ対象
部にあつても網体を介して滲出している適量の
メツキ液を受取るだけなので、必要以上厚さに
メツキが施されることがなく、その分必要以上
に貴金属を使用することがなく、フオーク状先
端部の左右一対のメツキ対象部それも側面部位
のみ意図するメツキ対象部を含め、その近辺ま
でもメツキ液が付着してメツキ処理が行われて
しまう従来技術に比べて貴金属の使用量を低減
できてコストの低減が達成でき、 (ロ) 網体がパスラインに対して交差方向に移動し
て適宜長さ巻き取られて再び新たなメツキ液の
受け渡し部が形成されるため、メツキ対象部が
網体に接触しても、網体の特定部分のみが磨耗
することがない、という効果があり、そして更
に (ハ) 支持体の頂部の傾斜角度、アノード及び通路
形成体等のサイズ、形状を各種、変えることに
より多様な形状、サイズを有するメツキ物に対
して適用でき、 (ニ) 通路形成体の厚さサイズ、形成された流通路
の条数を適宜に設定することにより、供給する
メツキ液量と圧力を調節し易くできるという付
随的な効果もある。
(b) A plating liquid delivery section is formed corresponding to the pass line of the plating target area, and an appropriate amount of fresh plating liquid is always supplied there, so that the plating liquid is delivered only to the plating target area and other parts Since there is no need to apply plating to the part to be plated, and even if the area is to be plated, it only receives an appropriate amount of plating liquid seeping out through the mesh, so the plating is not applied to a thickness greater than necessary. This eliminates the need to use more precious metal than is necessary, and the plating solution adheres to the plating target area on the left and right sides of the fork-shaped tip, including the plating target area where only the side surfaces are intended, and prevents the plating process. The amount of precious metal used can be reduced and costs can be reduced compared to the conventional technology, in which the net body moves in a direction crossing the pass line, is wound up to an appropriate length, and is reused as a new one. Since a transfer part for the plating liquid is formed, there is an effect that even if the part to be plated comes into contact with the net, only a specific part of the net will not be worn out. By changing the inclination angle of the top, the size and shape of the anode and the passage forming body, etc., it can be applied to plated objects having various shapes and sizes; (d) The thickness size of the passage forming body, the formed By appropriately setting the number of flow passages, there is an additional effect that the amount and pressure of the plating liquid to be supplied can be easily adjusted.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、本発明に係る部分メツキ装置の作動
状況を示す全体斜視断面図、第2図は、第1図
中、矢示方向よりみた断面図、第3図は、第2
図における支持体の頂部付近の概略の構成を示す
拡大断面説明図、第4図は、通路形成体を示す斜
視説明図、第5図は、他の実施例を示す通路形成
体、そして第6図は、従来例に於けるメツキ物の
概略斜視拡大説明図である。 1……メツキ物、2……フオーク状先端部(コ
ネクタ端子)、3……連続帯状部、4……メツキ
対象部、9……部分メツキ装置、10……メツキ
液供給体、12……メツキ液、13……支持体、
14……アノード、15……網体、16……傾斜
ガイド面、17……頂部、18……上端、19…
…開口、20……通路、25……受渡し部、PL
……パスライン、A……パスライン交差方向。
FIG. 1 is an overall perspective sectional view showing the operating state of the partial plating device according to the present invention, FIG. 2 is a sectional view seen from the direction of the arrow in FIG. 1, and FIG.
FIG. 4 is a perspective explanatory view showing a passage forming body; FIG. 5 is a passage forming body showing another embodiment; and FIG. The figure is a schematic perspective enlarged explanatory view of a plated object in a conventional example. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Plating object, 2... Fork-shaped tip (connector terminal), 3... Continuous band-shaped part, 4... Plating target part, 9... Partial plating device, 10... Plating liquid supply body, 12... Plating liquid, 13...Support,
14... Anode, 15... Net body, 16... Inclined guide surface, 17... Top, 18... Upper end, 19...
...Opening, 20...Aisle, 25...Delivery department, PL
...Pass line, A...Pass line crossing direction.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 連続帯状部から複数本形成されたフオーク状
先端部に左右一対の対向するメツキ対象部を有す
るメツキ物に対し、そのメツキ対象部のパスライ
ンに沿い且つ左右一対の両メツキ対象部間に介在
させた状態でメツキ液供給体を配し、そしてこの
メツキ液供給体と接触又は近接状態で移動してゆ
くメツキ物の各メツキ対象部に電気メツキを施す
部分メツキ装置に於いて、 上記メツキ液供給体は、 左右に傾斜ガイド面を有する略山形状の頂部を
備え、この頂部の上端又は上端近辺にメツキ液滲
出用の開口を設け、且つこの開口に連通のメツキ
液供給用の通路を形成した支持体と、 支持体の頂部上端で、パスラインに沿つて配さ
れている略丸棒状のアノードと、そして アノード及び支持体の頂部の表面を被覆しパス
ラインに対し交差する方向で移動して巻き取り自
在とされ、且つ上記パスライン対応部位にメツキ
液の受渡し部を形成する網体と、からなることを
特徴とする部分メツキ装置。
[Scope of Claims] 1. For a plating object having a pair of left and right opposite plating target parts on a plurality of fork-like tip parts formed from a continuous band-shaped part, a plating target part along the path line of the plating target part and both the left and right pair of plating target parts. A partial plating device in which a plating liquid supply body is disposed interposed between parts to be plated, and electroplating is applied to each part of the plating object that moves in contact with or in close proximity to the plating liquid supply body. The plating liquid supply body has a substantially mountain-shaped top having inclined guide surfaces on the left and right sides, an opening for plating liquid to ooze out at or near the upper end of the top, and a plating liquid communicating with the opening. A support having a supply passage formed therein, a substantially round rod-shaped anode disposed along the pass line at the upper end of the top of the support, and an anode covering the anode and the top surface of the support and extending along the pass line. 1. A partial plating device comprising: a net that can be moved and wound up in intersecting directions and that forms a plating liquid delivery section at a portion corresponding to the pass line.
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