JPH0140114B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ この発明は部分メツキ装置、特にメツキ物のフ
オーク状先端部に左右一対対向しているメツキ対
象部に部分メツキを施すに好適な部分メツキ装置
に関する。

＜従来の技術＞ 従来より、第６図に示すようなメツキ物１の
「フオーク状先端部」としてのコネクタ端子２の
メツキ対象部〔後述〕に、部分メツキを施す場
合、種々の技術が採用されてきた。

このコネクタ端子２は、連続帯状部３に所定間
隔で櫛歯状に複数本形成されているもので、この
コネクタ端子２に於けるメツキ対象部４とは、端
部５に所定の間隙を隔て左右一対相対向して形成
されている凸状部６の側面をいうものである。

このメツキ対象部４に部分メツキを施す従来の
技術としては、凸状部６を含む端部５全体をメツ
キ槽に浸漬し液面制御によつてメツキ液の施す部
位を特定しメツキする浸漬装置、或いはメツキを
必要としない部分をマスクにて覆い露出された部
分にメツキ液を噴射して施す噴射メツキ装置〔特
開昭59年−126784号、特開昭57年−161084号及び
特開昭55年−83180号公報参照〕が一般的に部分
メツキ装置として知られている。

＜発明が解決しようとする問題点＞ しかしながら、このような従来の部分メツキ装
置にあつては、浸漬メツキ装置では、コネクタ端
子２の端部５の周囲が一様にメツキされメツキ対
象部４に比較して、メツキ対象部４の周辺部が厚
くメツキされてしまうため、メツキエリアの明確
な限定が困難で、そのために貴金属メツキを行う
際、貴金属が必要以上に消費されてしまうもので
ある。

一方、マスクを使用する噴射メツキ装置では、
一般的にメツキ対象部４が微小化するにつれて、
又メツキ対象部４の形状が複雑化するにつれて、
マスク加工と、メツキ時に於けるマスク状態の完
全な維持が困難となり、上記と同様に貴金属が必
要以上に消費されるものであつた。

そのため、より少ない貴金属消費量で所望の部
分メツキが行える部分メツキ装置が望まれている
ものであつた。

そこで、この発明は、部分メツキを高精度で且
つ効率良く行うことにより貴金属消費量を低減し
得る部分メツキ装置を提供することを目的として
いる。

＜問題点を解決するための手段＞ 上記の目的を達成するためのこの発明の構成
を、実施例に対応する第１図乃至第４図を用いて
説明する。

この発明にかかる部分メツキ装置は、メツキ物
１のフオーク状先端部としてのコネクタ端子２に
あるメツキ対象部４間に介在しているメツキ液供
給体１０が、左右に傾斜ガイド面１６を有する略
山形状の頂部１７を備え、この頂部１７の上端１
８又は上端近辺にメツキ液滲出用の開口１９を設
け、且つこの開口１９に連通するメツキ液供給用
の通路２０を形成した支持体１３と、この支持体
１３の頂部１７の上端１８で、パスライン（図中
PL）に沿つて配されている略丸棒状のアノード
１４と、そしてアノード１４及び支持体１３の頂
部１７の表面を被覆しパスラインに対し交差する
方向〔矢印Ａ方向〕で移動して巻き取り自在とさ
れ、且つ上記パスライン対応部位にメツキ液の
「受渡し部」２５を形成する網体１５とからなる
ものである。

＜作用＞ そしてこの発明は前記の手段により、メツキさ
れるべき「メツキ物」１が所定ピツチ移動して左
右一対の両メツキ対象部４間にメツキ液供給体１
０が介在する状態になると、メツキ液１２が支持
体１３の通路２０を介し頂部１７の上端１８或い
は上端近辺に設けられた開口１９より滲出し網体
１５に吸収されて網体１５を浸潤させる。

そして、このメツキ液１２は支持体１３の頂部
１７付近の網体１５のみならず網体１５自身の毛
細管現象により上方のアノード１４の側面に対応
する部分にまでメツキ液１２を吸引して浸潤さ
せ、そして一部は網体１５の表面２８より外部に
滲出させることにより、メツキ対象部４のパスラ
インPL対応部位に新鮮なメツキ液１２を常時、
適量供給し得るメツキ液の「受渡し部」２５を形
成するものである。

メツキ対象部４は、メツキ液１２にて浸潤され
ている「受渡し部」２５に接触し、或いは近接し
て非接触状態を維持することで、メツキエリアが
このメツキ対象部４のみに限定されると共にメツ
キ液１２がこのメツキ対象部４の全体に均等に受
け渡されるものである。

そして、メツキ対象部４に近接して配されたア
ノード１４に通電することにより高電流密度が得
られ、メツキ対象部４に所望のメツキが高精度で
且つ効率良く施されるものである。

そして、網体１５がパスラインPLに対して交
差方向〔矢示Ａ方向〕に移動して適宜長さ巻き取
られて新たな「受渡し部」２５を構成するが、こ
の網体１５巻き取りタイミングは、メツキ物１の
移動に関係なく設定でき、メツキ物１の連続又は
断続的な移動中或いはメツキ物１の停止時に網体
１５は連続的に又は断続的に巻き取られて新たな
「受渡し部」２５が形成されるものである。

このようにしてメツキ対象部４が網体１５に直
接、接触してメツキが施される場合であつても、
網体１５の特定部分のみが「メツキ物」１のメツ
キ対象部４と接触して磨耗することがないように
配慮されている。

＜実施例＞ 以下、この発明の一実施例を第１図乃至第４図
を参照して説明する。

尚、従来と共通する部分は同一符号を用いるこ
ととし、重複説明を省略する。

まず、この発明にかかる部分メツキ装置９に於
けるメツキ液供給体１０は、メツキ処理槽１１内
に配され主にメツキ液１２を供給すると共にアノ
ード〔後述〕を支持する支持体１３と、支持体１
３の上端〔後述〕にパスライン〔図中矢示PL〕
に沿つて配されているアノード１４と、アノード
１４及び支持体１３の頂部〔後述〕の表面を被覆
しパスラインPLに対し交差する方向で移動して
巻き取り自在とされメツキ液１２の受渡し部〔後
述〕を形成する網体１５とから主に構成される。

この支持体１３は、絶縁性材料により形成され
ており、左右に傾斜ガイド面１６を有する略山形
状の頂部１７を備え、この頂部１７の上端１８に
はメツキ液１２滲出用の開口１９が設けられてお
り、この開口１９と連通しているメツキ液供給用
の通路２０が貫通形成されている。そして、この
通路２０には、枠形状の流通路２１を有する通路
形成体２２が嵌合されており、その一端２３は支
持体１３の開口１９より突出してアノード１４を
支持すると共に支持体１３の上端１８より突出し
ている通路形成体２２の空隙部分２２ａをメツキ
液１２を滲出用の開口１９となして、頂部１７の
左右にメツキ液１２を滲出可能なようにしてあ
る。

尚、この実施例では、通路形成体２２を支持体
１３内部に設けアノード１４を支持する例を示し
ているが、これに限定されるものではないことは
勿論で、頂部１７の上端１８に所定間隔で凹所を
複数、形成するようにしてもよいものである。

アノード１４は、支持体１３の頂部１７の上端
１８にパスラインに沿つて配される丸棒状のもの
であり、図示の例では通路形成体２２の一端２３
に取付けられて固定されており、網体１５を介し
てコネクタ端子２と絶縁され且つメツキ対象部４
にできるだけ近づけて高電流密度を得られるよう
に、又、後述する網体１５の巻き取り移動に際し
て障害にならないように丸棒状に形成されている
ものである。

そして、網体１５は、メツキ液１２を保液自在
とするもので、パスラインPLに沿う方向の両側
でメツキ液１２中に配された巻取り装置２４によ
り、パスラインPLに交差する方向〔矢示Ａ方向〕
に移動、巻き取り自在とされているものであり、
この網体１５は、傾斜ガイド面１６からアノード
１４の周囲を、その表面形状に沿つて被覆してい
るものである。尚、開口１９とアノード１４間
は、最も縊れた部分をなし、コネクタ端子２の一
対の凸状部６に対応した一対の凹形状を呈してお
り、この凹形状が、メツキ対象部４のパスライン
PLとの対応部位であり、上記メツキ液１２の受
渡し部２５となるものである。

尚、２６はポンプ、２７はパイプ、２９はメツ
キ液管理槽を各々示すもので、メツキ液１２を圧
送し、且つ回収して循環させるものである。

次に、使用状態を説明する。

メツキされるべきコネクタ端子２が所定ピツチ
移動し左右一対のメツキ対象部４間にメツキ液供
給体１０を介在させた状態に於いて、ポンプ２６
により圧送されたメツキ液１２は、通路２０及び
開口１９を介して頂部１７の左右両側に滲出す
る。そして、このメツキ液１２は、頂部１７付近
の網体１５、そして更に網体１５自身の毛細管現
象により上方のアノード１４の側面に対応する部
分にまで浸潤させ、そして一部は、網体１５の表
面２８より外部に滲出する。そして開口１９とア
ノード１４間の最も縊れた形状の部分は、メツキ
対象部４のパスラインPLに対応して形成されて
いる「受渡し部」２５であり、新鮮なメツキ液１
２が常時、適量供給されているものである。

コネクタ端子２のメツキ対象部４は、この「受
渡し部」２５に接触し或いは近接して網体１５の
表面２８より滲出するメツキ液１２を受取り、こ
のメツキ液１２には、限定されたメツキ対象部４
全体に均等に施されるものとなる。

この時、アノード１４が通電されることにより
高電流密度が得られメツキ対象部４に所望のメツ
キが高精度で且つ効率良く施されるものである。

そして、メツキが終了しコネクタ端子２が所定
ピツチ移動して、メツキ液供給体１０とコネクタ
端子２の接触或いは非接触の近接状態が解除され
ると、巻き取り装置２４により網体１５がパスラ
インPLに対して交差方向〔矢示Ａ方向〕に移動
させられ適宜長さ巻き取られ、その後には新たな
「受渡し部」２５が形成されるものであり、メツ
キ対象部４が網体１５に直接、接触してメツキが
施される場合であつても、網体１５の特定部分の
みがメツキ対象部４と接触して磨耗することがな
い。

尚、網体１５の巻き取りのタイミングは、この
実施例にあるようにメツキ液供給体１０とコネク
タ端子２の接触或いは近接状態が解除された場合
だけに限定されるものではなく、コネクタ端子２
とメツキ液供給体１０の接触或いは近接状態を維
持した状態で、連続的に網体１５を巻き取るよう
にして「受渡し部」２５を連続的に形成してもよ
いものである。

第５図は、通路形成体２９の他の実施例で、複
数の縦スリツト状の流通路３０が形成されてお
り、各々の流通路３０の上端部分がメツキ液１２
滲出用の開口１９となるようにしてある。

その他の内容は、先の実施例と略同様につき重
複説明を省略する。

＜効果＞ この発明に係る部分メツキ装置は、以上説明し
てきた如き内容のものなので、多くの効果が期待
でき、その内の主なものを列挙すれば以下の通り
である。

(イ) メツキ対象部のパスラインに対応してメツキ
液の受け渡し部が形成され、そこには新鮮なメ
ツキ液が常に適量供給されているため、メツキ
対象部にのみメツキ液を受渡して、その他の部
分にメツキを施すことがなく、またメツキ対象
部にあつても網体を介して滲出している適量の
メツキ液を受取るだけなので、必要以上厚さに
メツキが施されることがなく、その分必要以上
に貴金属を使用することがなく、フオーク状先
端部の左右一対のメツキ対象部それも側面部位
のみ意図するメツキ対象部を含め、その近辺ま
でもメツキ液が付着してメツキ処理が行われて
しまう従来技術に比べて貴金属の使用量を低減
できてコストの低減が達成でき、 (ロ) 網体がパスラインに対して交差方向に移動し
て適宜長さ巻き取られて再び新たなメツキ液の
受け渡し部が形成されるため、メツキ対象部が
網体に接触しても、網体の特定部分のみが磨耗
することがない、という効果があり、そして更
に (ハ) 支持体の頂部の傾斜角度、アノード及び通路
形成体等のサイズ、形状を各種、変えることに
より多様な形状、サイズを有するメツキ物に対
して適用でき、 (ニ) 通路形成体の厚さサイズ、形成された流通路
の条数を適宜に設定することにより、供給する
メツキ液量と圧力を調節し易くできるという付
随的な効果もある。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に係る部分メツキ装置の作動
状況を示す全体斜視断面図、第２図は、第１図
中、矢示方向よりみた断面図、第３図は、第２
図における支持体の頂部付近の概略の構成を示す
拡大断面説明図、第４図は、通路形成体を示す斜
視説明図、第５図は、他の実施例を示す通路形成
体、そして第６図は、従来例に於けるメツキ物の
概略斜視拡大説明図である。 １……メツキ物、２……フオーク状先端部（コ
ネクタ端子）、３……連続帯状部、４……メツキ
対象部、９……部分メツキ装置、１０……メツキ
液供給体、１２……メツキ液、１３……支持体、
１４……アノード、１５……網体、１６……傾斜
ガイド面、１７……頂部、１８……上端、１９…
…開口、２０……通路、２５……受渡し部、PL
……パスライン、Ａ……パスライン交差方向。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 連続帯状部から複数本形成されたフオーク状
   先端部に左右一対の対向するメツキ対象部を有す
   るメツキ物に対し、そのメツキ対象部のパスライ
   ンに沿い且つ左右一対の両メツキ対象部間に介在
   させた状態でメツキ液供給体を配し、そしてこの
   メツキ液供給体と接触又は近接状態で移動してゆ
   くメツキ物の各メツキ対象部に電気メツキを施す
   部分メツキ装置に於いて、 上記メツキ液供給体は、 左右に傾斜ガイド面を有する略山形状の頂部を
   備え、この頂部の上端又は上端近辺にメツキ液滲
   出用の開口を設け、且つこの開口に連通のメツキ
   液供給用の通路を形成した支持体と、 支持体の頂部上端で、パスラインに沿つて配さ
   れている略丸棒状のアノードと、そして アノード及び支持体の頂部の表面を被覆しパス
   ラインに対し交差する方向で移動して巻き取り自
   在とされ、且つ上記パスライン対応部位にメツキ
   液の受渡し部を形成する網体と、からなることを
   特徴とする部分メツキ装置。