JPH0143751B2 - - Google Patents

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JPH0143751B2
JPH0143751B2 JP55159664A JP15966480A JPH0143751B2 JP H0143751 B2 JPH0143751 B2 JP H0143751B2 JP 55159664 A JP55159664 A JP 55159664A JP 15966480 A JP15966480 A JP 15966480A JP H0143751 B2 JPH0143751 B2 JP H0143751B2
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Fuerusuteru Haintsu
Maureru Furitsutsu
Myuusu Fuorukeru
Oie Ruutoitsuhi
Rudorufu Shumitsuto Roberuto
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Bayer AG
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、或る種の新規なアゾリルオキシ‐カ
ルボン酸Ｎ‐オキシ‐アミド、その製造方法およ
び除草剤としてのその使用に関するものである。 たとえば２，４‐ジクロルフエノキシ‐アセタ
ミドのような或る種のフエノキシ‐カルボン酸ア
ミドが除草作用を有することは既に開示されてい
る（フランス特許第1313840号明細書参照）。しか
しながら、除草剤として知られるフエノキシカル
ボン酸アミドは、通常の量で使用した場合いね科
雑草に対し僅かの作用しか示さず、かつその低い
選択性のため各種の双子葉植物栽培物における雑
草を撲滅するには使用することができない。 今回、本発明は、新規化合物として、一般式 〔式中、ＡはＮを示し、 ＤはＣ−R4またはＮを示し、 ＥはＣ−R5またはＮを示し、 ＧはＯまたはＳを示し、 但しＤおよびＥは同時にＮではなく、 R1は水素原子を示し、 R2はそれぞれ10個までの炭素原子を有するア
ルキル、アルコキシアルキルもしくはアルケニル
基を示し、 R3はそれぞれ10個までの炭素原子を有するア
ルキル、アルコキシアルキル、アルケニルもしく
はシクロアルキル基を示し、 R4およびR5は同一もしくは異なるものであつ
て、それぞれハロゲン原子、シアノ基、フエニル
基、C1〜C4‐アルキルチオ基、ベンジルチオ基、
C1〜C4‐アルキルスルホニル基またはC1〜C6‐
アルキル基を示し、または２個の隣接する基R4
とR5は一緒になつて融合ベンゾ基を示し、この
基はハロゲンまたはC1〜C4‐アルキルにより置
換することができる〕 のアゾリルオキシ‐カルボン酸Ｎ‐オキシ‐アミ
ドを提供する。 本発明によれば、さらに本発明の化合物の製造
方法も提供され、この方法は一般式 〔式中、R1、R2およびR3は上記の意味を有する〕
のα‐ヒドロキシカルボン酸Ｎ‐オキシ‐アミド
を、必要に応じ酸受容体の存在下かつ必要に応じ
希釈剤を使用して、一般式 〔式中、Ａ、Ｄ、ＥおよびＧは上記の意味を有
し、 Halは塩素、臭素もしくは沃素原子を示す〕の
ハロゲノアゾールと反応させることを特徴とす
る。 本発明の新規なアゾリルオキシ‐カルボン酸
Ｎ‐オキシ‐アミドは、強力な除草活性を特徴と
する。 驚くことに、この新規なアゾリルオキシ‐カル
ボン酸Ｎ‐オキシ‐アミドは、従来公知のフエノ
キシカルボン酸アミドよりも著しく良好な除草作
用を示す。特に驚くことに、本発明による化合物
は、有用植物による良好な耐性の他、双子葉雑草
に対する強力な作用に加えていね科雑草に対して
も極めて良好な作用を示し、これに対し構造的に
類似のフエノキシアルカンカルボン酸誘導体、た
とえば２，４‐ジクロルフエノキシ‐アセタミド
はいね科植物（Graminaceae）に対し僅かの作
用しか示さない。 本発明の特に好適な化合物は()において、 R1が水素原子を示し、 R2がC1〜C6‐アルキル、C1〜C4‐アルコキシ
エチルまたはアリル基を示し、 R3がC1〜C6‐アルキル、C1〜C4‐アルコキシ
エチル、アリルまたはシクロヘキシル基を示し、 基
【式】が
【式】
【式】および
【式】 から選択されるアゾリル基を示し、これら式中 Ｘは酸素または硫黄を示し、 基R6、R7、R8およびR9は同一でも異なつても
よく、それぞれ臭素もしくは塩素原子またはシア
ノ、フエニル、C1〜C3‐アルキルチオ、C1〜
C3‐アルキルスルホニル、C1〜C4‐アルキルも
しくはベンジルチオ基を示し、 基R10〜R13は同一でも異なつてもよく、それ
ぞれ水素もしくは塩素原子またはC1〜C2‐アル
キル基を示す、 ようなものである。 たとえば、出発物質として２，４，５‐トリク
ロル‐チアゾールとＮ‐エトキシ‐Ｎ‐エチル‐
ヒドロキシアセタミドとを使用すれば、本発明に
よる化合物の製造につき反応過程は次式で示すこ
とができる： 新規なアゾリルオキシカルボン酸アミドの製造
方法は、好ましくは適当な溶媒または希釈剤を使
用して行なわれる。使用しうる溶媒または希釈剤
は実質上任意の不活性有機溶媒である。これら
は、特にアルコール類、たとえばメタノール、エ
タノール、ｎ‐およびiso‐プロパノール、なら
びにｎ‐、iso‐、sec‐およびtert‐ブタノール、
エーテル類たとえばジエチルエーテル、ジブチル
エーテル、テトラヒドロフランおよびジオキサ
ン、ケトン類たとえばアセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソプロピルケトンおよびメチルイ
ソブチルケトン、ニトリル類たとえばアセトニト
リルおよびプロピオニトリルならびに高度極性溶
剤たとえばジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド、スルホランおよびヘキサメチル燐酸ト
リアミドを包含する。 酸受容体としては、通常使用しうる実質上任意
の酸結合剤を使用することができ、これら酸結合
剤は特にアルカリ金属水酸化物もしくは酸化物お
よびアルカリ土類金属水酸化物もしくは酸化物、
たとえば水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウム
ならびに酸化カルシウムもしくは水酸化カルシウ
ム、アルカリ金属炭酸塩およびアルカリ土類金属
炭酸塩、たとえば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
および炭酸カルシウム、アルカリ金属アルコラー
ト、たとえばナトリウムメチラート、エチラート
およびtert。‐ブチラートならびにカリウムメチ
ラート、エチラートおよびtert。‐ブチラート、
さらに脂肪族、芳香族もしくは複素環式アミン、
たとえばトリエチルアミン、ジメチルアニリン、
ジメチルベンジルアミン、ピリジン、ジアザビシ
クロオクタンおよびジアザビシクロウンデセンを
包含する。 反応温度は広範囲に変化させることができる。
一般に、反応は−50〜＋150℃、好ましくは−20
〜＋100℃にて行なわれる。 本発明による方法は一般に常圧下で行なわれ
る。 本発明による方法を実施する際、式()のハロ
ゲノアゾール１モル当り1.0〜1.5モルの式()の
α‐ヒドロキシ‐カルボン酸アミドが使用され
る。反応は一般に希釈剤中で行なわれ、反応混合
物を所要温度にて数時間撹拌する。 生成物は常法により単離される。希釈剤の幾分
かを、必要に応じ減圧下で留去し、そして残余の
反応混合物を水中に注ぎ入れる。これにより生成
物が結晶として得られれば、それらを過によつ
て単離する。或いは、有機生成物をたとえばトル
エンまたは塩化メチレンのような水不混和性溶剤
で抽出し、次いで洗浄および乾燥の後に溶剤を減
圧下に有機相から留去する。残留する生成物は、
それらの融点または屈折率により特性化される。 出発物質として使用すべき式()のα‐ヒドロ
キシカルボン酸Ｎ‐オキシ‐アミドは新規な化合
物である。式()の好適な化合物は、R1、R2およ
びR3が式()の特に好適な化合物についての定義
において既に挙げられたような基を示すものであ
る。 挙げうる式()の出発物質の例は次の通りであ
る：Ｎ‐メトキシ‐Ｎ‐メチル‐、Ｎ‐エトキ
シ‐Ｎ‐メチル、Ｎ‐ｎ‐プロポキシ‐Ｎ‐メチ
ル‐、Ｎ‐イソプロポキシ‐Ｎ‐メチル‐、Ｎ‐
エトキシ‐Ｎ‐エチル、Ｎ‐ｎ‐プロポキシ‐
Ｎ‐エチル‐、Ｎ‐イソプロポキシ‐Ｎ‐エチ
ル、Ｎ‐ｎ‐プロポキシ‐Ｎ‐ｎ‐プロピル、
Ｎ‐イソプロポキシ‐Ｎ‐イソプロピル‐、Ｎ‐
イソ‐プロポキシ‐Ｎ‐ｎ‐プロピル‐、Ｎ‐メ
トキシ‐Ｎ‐エチル、Ｎ‐メトキシ‐Ｎ‐ｎ‐プ
ロピル‐、Ｎ‐メトキシ‐Ｎ‐イソプロピル‐、
Ｎ‐メトキシ‐Ｎ‐ｎ‐ブチル‐、Ｎ‐メトキ
シ‐Ｎ‐イソブチル、Ｎ‐メトキシ‐Ｎ‐
sec。‐ブチル‐、Ｎ‐メトキシ‐Ｎ‐sec。‐ヘ
キシル‐、Ｎ‐メトキシ‐Ｎ‐ｎ‐プロピル‐、
Ｎ‐エトキシ‐Ｎ‐イソプロピル‐、Ｎ‐（２‐
エトキシ‐エトキシ）‐Ｎ‐メチル‐、Ｎ‐
（２‐エトキシ‐エトキシ）‐Ｎ‐エチル‐、
Ｎ‐（２‐エトキシ‐エトキシ）‐Ｎ‐プロピ
ル‐、Ｎ‐（２‐エトキシ‐エトキシ）‐Ｎ‐イ
ソプロピル‐、Ｎ‐（２‐エトキシ‐エトキ
シ）‐Ｎ‐シクロヘキシル‐、Ｎ‐アリルオキ
シ‐Ｎ‐アリル‐、Ｎ‐アリルオキシ‐Ｎ‐メチ
ル‐、Ｎ‐アリルオキシ‐Ｎ‐エチル‐、Ｎ‐ア
リルオキシ‐Ｎ‐ｎ‐プロピル‐、Ｎ‐アリルオ
キシ‐Ｎ‐イソプロピル‐、Ｎ‐アリルオキシ‐
Ｎ‐ｎ‐ブチル‐、Ｎ‐アリルオキシ‐Ｎ‐イソ
ブチル‐、Ｎ‐アリルオキシ‐Ｎ‐sec。‐ブチ
ル‐、Ｎ‐メトキシ‐Ｎ‐シクロペンチル‐、
Ｎ‐メトキシ‐Ｎ‐シクロヘキシル‐、Ｎ‐メト
キシ‐Ｎ‐（２‐エトキシ‐エチル）‐、Ｎ‐エ
トキシ‐Ｎ‐（２‐エトキシ‐エチル）‐、Ｎ‐
（２‐エトキシ‐エトキシ）‐Ｎ‐（２‐エトキ
シ‐エチル）‐およびＮ‐（２‐エトキシ‐エト
キシ）‐N′‐sec。‐ヘキシル‐α‐ヒドロキ
シ‐アセタミド。 式()の新規なα‐ヒドロキシカルボン酸Ｎ‐
オキシ‐アミドは、式()のα‐クロルカルボン
酸クロライドから出発して、下式に示すように製
造することができる： この反応のため、文献から公知の式()のα‐
クロルカルボン酸クロライドを先ず必要に応じた
とえばトリエチルアミンのような酸結合剤の存在
下かつ必要に応じたとえば１，２‐ジクロルエタ
ンのような不活性希釈剤を使用して、−20〜100
℃、好ましくは−10〜50℃の温度にて、対応する
式()のクロルカルボン酸Ｎ‐オキシ‐アミドに
式()のヒドロキシルアミン（これらの式中、
R1、R2およびR3は上記の意味を有する）を用い
て変える。これらの生成物を常法により、水で洗
浄し、有機相を脱水しそして溶媒を留去すること
によつて後処理する。 式()の化合物を、必要に応じたとえば酢酸ま
たはジメチルスルホキシドのような希釈剤を使用
して、20〜150℃、好ましくは50〜120℃の温度で
酢酸ナトリウムまたは酢酸カリウムと反応させて
式()の対応するα‐アセトキシカルボン酸Ｎ‐
オキシ‐アミドを生成させる。これにより生成物
が結晶として得られれば、それらを過によつて
単離する。或いは、常法により、たとえば溶媒を
減圧留去し、残留物を塩化メチレン中に取り、塩
化メチレン混合物を水洗しそして溶媒を留去する
ことにより後処理を行なう。 式()の化合物を、水‐アルコール性水酸化ナ
トリウム溶液もしくは水酸化カリウム溶液との温
度０〜100℃、好ましくは10〜50℃における反応
により脱アシル化させて、式()の化合物を生成
させることができる。生成物を単離するため、溶
媒を減圧留去し、残留物をたとえば塩化メチレン
または酢酸エチルのような有機溶剤で抽出し、溶
液を脱水しそして溶剤を留去させる。 式()のα‐ヒドロキシカルボン酸Ｎ‐オキ
シ‐アミドは、次式に示すように、対応する式
（）のα‐ヒドロキシカルボン酸から製造するこ
ともできる： この反応のため、文献から公知の式()のα‐
ヒドロキシカルボン酸を０〜50℃、好ましくは20
〜30℃の温度にてたとえば塩化アセチルのような
アシル化剤と先ず反応させて、次いで得られる反
応混合物を20〜100℃、好ましくは40〜90℃の温
度にてたとえば塩化チオニルのような塩素化剤で
処理する。 これにより式()の生成物が得られ、これを蒸
留により精製し、必要に応じ不活性希釈剤の存在
下、かつ−10〜＋50℃、好ましくは０〜＋30℃の
温度における式()の対応するヒドロキシルアミ
ンとの反応により常法で、式()にα‐アセトキ
シカルボン酸Ｎ‐オキシ‐アミドに変えることが
できる。これら生成物を上記したように脱アシル
化して、式()の化合物を生成させる。 基R2およびR3の少なくとも一つがアルケニル、
シクロアルキルまたはアルコキシアルキルを示す
式()、()および()の中間生成物は新規化合物
である。これら化合物におけるR1、R2およびR3
の特に好適な意味は、式()の化合物について上
記したものと同じである。 式()の新規なヒドロキシルアミンは、一般式 〔式中、R2およびR3は上記の意味を有し、R′は
C1〜C4‐アルコキシ基を示す〕のＮ‐アルコキ
シカルボニル‐ヒドロキシルアミンを10〜100℃
の温度にて水‐アルコール性アルカリ金属水酸化
物溶液、たとえば水‐エタノール性水酸化ナトリ
ウム溶液と反応させることによつて得られる。 後処理のため、混合物を水で希釈しそしてたと
えば塩化メチレンのような水不混和性有機溶剤で
抽出し、抽出物を脱水し、過しそして蒸留によ
り後処理する。 中間生成物()は文献から公知の方法により製
造することができる（たとえばジヤーナル・オ
ブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテイ、第66
巻（1944）、第1931頁参照、さらに製造例参照）。 式()、()、()および()の新規な出発化合
物の挙げうる例は次の通りである：Ｎ‐（２‐エ
トキシ‐エトキシ）‐Ｎ‐イソプロピルアミ
ン、‐エトキシカルボニルアミン、‐クロル酢酸
アミドおよびアセトキシ酢酸アミド；Ｎ‐アリル
オキシ‐Ｎ‐sec。‐ブチルアミン、‐エトキシ
カルボニルアミン、‐クロル酢酸アミドおよび‐
アセトキシ酢酸アミド；Ｎ‐（２‐エトキシ‐エ
トキシ）‐Ｎ‐シクロヘキシルアミン、‐エトキ
シカルボニルアミン、‐クロル酢酸アミドおよ
び‐アセトキシ酢酸アミド；Ｎ‐メトキシ‐Ｎ‐
シクロヘキシルアミン、‐エトキシカルボニルア
ミン、‐クロル酢酸アミドおよび‐アセトキシ酢
酸アミド；Ｎ‐（２‐エトキシ‐エトキシ）‐
Ｎ‐メチルアミン、‐エトキシカルボニルアミ
ン、‐クロル酢酸アミドおよび‐アセトキシ酢酸
アミド；Ｎ‐エトキシ‐Ｎ‐（２‐エトキシ‐エ
チル）‐アミン、‐エトキシカルボニルアミ
ン、‐クロル酢酸アミドおよび‐アセトキシ酢酸
アミド；Ｎ‐（２‐エトキシ‐エトキシ）‐Ｎ‐
（２‐エトキシ‐エチル）‐アミン、‐エトキ
シ‐カルボニルアミン、‐クロル酢酸アミドおよ
び‐アセトキシ酢酸アミド；Ｎ‐メトキシ‐Ｎ‐
アリルアミン、‐エトキシカルボニルアミン、‐
クロル酢酸アミドおよび‐アセトキシ酢酸アミ
ド；Ｎ‐（２‐エトキシ‐エトキシ）‐Ｎ‐
sec。‐ヘキシルアミン、‐エトキシカルボニル
アミン、‐クロル酢酸アミドおよび‐アセトキシ
酢酸アミド；ならびにＮ‐（２‐エトキシ‐エト
キシ）‐Ｎ‐イソプロピルアミン、‐エトキシカ
ルボニルアミン、‐クロル酢酸アミドおよび‐ア
セトキシ酢酸アミド。 式()の特に好適なハロゲノアゾールは、
【式】が式()の特に好適な化合物の定義 において示した意味を有しかつHalが塩素またや
臭素原子を示すものである。 挙げうる式()の出発物質の例は次の通りであ
る：２，４，５‐トリクロル‐オキサゾールおよ
び‐チアゾール；４，５‐ジメチル‐、４‐メチ
ル‐５‐クロル‐、５‐メチル‐４‐クロル‐、
４‐メチル‐５‐シアノ‐、４，５‐ジフエニ
ル‐および４‐クロル‐５‐フエニル‐２‐クロ
ル‐オキサゾール、‐２‐ブロム‐オキサゾー
ル、‐２‐クロル‐チアゾールおよび‐２‐ブロ
ム‐チアゾール；３，５‐ジクロル‐１，２，
４‐オキサジアゾール；３‐メチル‐、３‐エチ
ル‐、３‐ｎ‐プロピル‐、３‐イソプロピ
ル‐、３‐tert.‐ブチル‐、３‐メチルチオ‐お
よび３‐メチルスルホニル‐５‐クロル‐１，
２，４‐チアジアゾールおよび‐５‐ブロム‐
１，２，４‐チアジアゾール；５‐メチル‐、
５‐エチル‐、５‐ｎ‐プロピル‐、５‐イソプ
ロピル‐、５‐tert.‐ブチル‐、５‐ブロム‐、
５‐メチルスルホニル‐、５‐エチルスルホニ
ル‐、５‐プロピルスルホニル‐および５‐プロ
ピルチオ‐２‐クロル‐１，３，４‐オキサジア
ゾール、‐２‐ブロム‐１，３，４‐オキサジア
ゾール、‐２‐クロル‐１，３，４‐チアジアゾ
ールおよび‐２‐ブロム‐１，３，４‐チアジア
ゾール；２‐クロル‐および２‐ブロム‐ベンゾ
オキサゾール；２‐クロル‐および２‐ブロム‐
ベンゾチアゾール；５‐メチル‐２‐クロル‐ベ
ンゾオキサゾール；２，５‐ジクロル‐ベンゾオ
キサゾール；２，４，６，７‐テトラクロルベン
ゾチアゾール；および２‐クロル‐４，６‐ジフ
ルオル‐ベンゾチアゾール。 式()のハロゲノアゾールは公知である〔エル
ダーフイールド、複素環式化合物、第５巻
（1957）、第298頁および第452頁）、第７巻
（1961）、第463頁および第541頁；ワイスベルガ
ー、複素環式化合物の化学、(a)「窒素と硫黄また
は窒素と硫黄と酸素とを有する５員の複素環式化
合物」（1952）、第35頁および第81頁、(b)「窒素と
酸素とを有する５員および６員の化合物」
（1962）、第５頁、第245頁および第263頁；複素環
化学の進歩、第５巻（1965）、第119頁、第７巻
（1966）、第183頁、第17巻（1974）第99頁および
第20巻（1976）、第65頁；シンセシス1978、第803
頁；テトラヘドロンレタース1968、第829頁；ケ
ミカルベリヒテ、第89巻（1956）、第1543頁、第
90巻（1957）、第182頁、第92巻（1959）、第1928
頁；ジヤーナル・オブ・オーガニツク・ケミスト
リー、第27巻（1962）、第2589頁；ドイツ公開公
報第1670706号、第1164413号および第2213865号
参照〕。 本発明による活性化合物は植物生長に影響を与
え、したがつて脱葉剤、乾燥剤、広葉植物撲滅
剤、発芽抑制剤および特に雑草死滅剤として使用
することができる。「雑草」とは、広義において、
所望されない場所に生長している植物を意味す
る。 本発明の化合物が全体的除草剤として作用する
かまたは選択的除草剤として作用するかは、実質
上、使用量に依存する。 本発明による活性化合物は、たとえば次の植物
を撲滅するのに使用することができる： 次の属の双子葉雑草；芥子属（Sinapis）、椒草
属（Lepidium）、ガリウム属（Galium）、ハコベ
属（Stellaria）、マトリカリア属（Matricaria）、
アンテミス属（Anthemis）、ガリンソガ属
（Galinsoga）、アカザ属（Chenopodium）、イラ
クサ属（Urtica）、ハンゴンソウ属（Senecio）、
アマラントス属（Amaranthus）、スベリビユ属
（Portulaca）、オナモミ属（Xanthium）、ヒルガ
オ属（Convolvulus）、甘藷属（Ipomoea）、タデ
属（Polygonum）、セスバニア属（Sesbania）、
ブタグサ属（Ambrosia）、アザミ属（Cirsium）、
カルヅアス属（Carduus）、ノゲシ属
（Sonchus）、ロリツパ属（Rorippa）、ロタラ属
（Rotala）、リンデルニア属（Lindernia）、ホト
ケノザ属（Lamium）、イヌフグリ属
（Veronica）、アブチロン属（Abutilon）、エメク
ス属（Emex）、チヨウセンアサガオ属
（Datura）、スミレ属（Viola）、ガレオプシス属
（Galleopsis）、ケシ属（Papaver）、センタウリ
ア属（Centaurea）、および茄属（Solanum）。次
の属の単子葉雑草；エチノクロア属
（Echinochloa）、セタリア属（Setaria）、パニク
ム属（Panicum）、ジギタリス属（Digitaria）、
アワガエリ属（Phleum）、ポア属（Poa）、フエ
スツカ属（Festuca）、エレウシン属（Eleusine）、
ブラチアリア属（Brachiaria）、ロリウム属
（Lolium）、ブロムス属（Bromus）、カラスムギ
属（Avena）、カヤツリグサ属（Cyperus）、ソル
ガム属（Sorghum）、カモジグサ属
（Agropyrum）、シノドン属（Cynodon）、モノコ
リア属（Monochoria）、フインブリスチリス属
（Fimbristylis）、サギタリア属（Sagittaria）、エ
レオチヤリス属（Eleocharis）、シルプス属
（Scirpus）、キビ属（Paspalum）、イスチヤエム
ム（Ischaemum）、スフエノクレア属
（Sphenoclea）、ダクチロクテニウム属
（Dactyloctenium）、アグロスチス属
（Agrostis）、アロペクルス属（Alopecurus）、お
よびアペラ属（Apera）。 本発明による活性化合物は、たとえば次の栽培
物における選択的除草剤として使用することがで
きる。 次の属の双子葉植物栽培物；綿属
（Gossypium）、ダイズ属（Glycine）、トウチサ
属（Beta）、ニンジン属（Daucus）、隠元豆属
（Phaseolus）、豌豆属（Pisum）、茄属
（Solanum）、リヌム属（Linum）、甘藷属
（Ipomoea）、ヤハズエンドウ属（Vicia）、煙草
属（Nicotiana）、サンゴジユナスビ属
（Lycopersicon）、落花生属（Arachis）、アブラ
ナ属（Brassica）、チシヤ属（Lactuca）、ウリ属
（Cucumis）、およびカボチヤ属（Cucurbita）；な
らびに 次の属の単子葉植物栽培物；稲属（Oryza）、
トウモロコシ属（Zea）、小麦属（Triticum）、大
麦属（Hordeum）、カラス麦属（Avena）、ライ
麦属（Secale）、モロコシ属（Sorghum）、パニ
クム属（Panicum）、サトウキビ属
（Saccharum）、アナナス属（Ananas）、アスパ
ラガス属（Asparagus）およびネギ属
（Allium）。 しかしながら、本発明による活性化合物の使用
は、決してこれら種類の植物のみに限定されるも
のでなく、同様に他の植物をも包含する。 濃度に応じて、本化合物は雑草の全撲滅用とし
て、たとえば工業地域および鉄道線路、ならびに
樹木のあるまたは存在しない道路および広場など
に使用することができる。同様に、本化合物は、
多年性栽培物、たとえば植林地、観賞樹木園、果
樹園、ぶどう園、れもん園、栗園、バナナ園、コ
ーヒー園、茶畑、ゴム園、椰子園、カカオ園、果
実園およびホツプ畑における雑草を撲滅するた
め、ならびに一年生栽培物における雑草を選択的
に撲滅するため使用することができる。 いね科雑草に対する極めて良好な作用の他、本
発明による活性化合物は、特に広葉雑草に対して
良好な除草作用を示す。本発明の活性化合物は、
各種の作物、たとえば甜菜、大豆、綿、とうもろ
こしなど各種の穀類において選択的に使用するこ
とができる。 本活性化合物は、たとえば溶液、乳剤、水和性
粉末、懸濁剤、粉剤、散布剤、ペースト、可溶性
粉末、顆粒剤、懸濁剤‐乳剤濃厚物、活性化合物
を含浸させた天然および合成物質ならびに高分子
物質において極めて微細なカプセルのような通常
の組成物に変えることができる。 これら組成物は、公知方法により、たとえば活
性化合物が増量剤、すなわち液体もしくは固体の
希釈剤もしくは担体と混合し、必要に応じて表面
活性剤、すなわち乳化剤および／または分散剤お
よび／または泡沫形成剤を使用して製造すること
ができる。増量剤として水を使用する場合は、た
とえば有機溶剤を補助溶剤として使用することも
できる。 液体の希釈剤もしくは担体、特に溶媒として
は、主として芳香族炭化水素類、たとえばキシレ
ン、トルエンもしくはアルキルナフタレン、塩素
化芳香族もしくは塩素化脂肪族炭化水素類、たと
えばクロルベンゼン、クロルエチレンもしくは塩
化メチレン、脂肪族もしくは脂環式炭化水素類、
たとえばシクロヘキサンもしくはパラフイン（た
とえば鉱油留分）、アルコール類たとえばブタノ
ールもしくはグリコールならびにそれらのエーテ
ル類およびエステル類、ケトン類、たとえばアセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トンもしくはシクロヘキサノン、または強極性溶
媒、たえばジメチルホルムアミドおよびジメチル
スルホキシドならびに水が適している。 固体担体としては、磨砕天然鉱物、たとえばカ
オリン、粘土、タルク、白亜、石英、アタパルギ
ツト、モンモリロナイトもしくは珪藻土、および
磨砕合成鉱物、たとえば高分散珪酸、アルミナお
よびシリケートを使用することができる。粒剤用
の固体担体としては、破砕および分別された天然
岩石、たとえば方解石、大理石、軽石、海泡石お
よび苦灰石ならびに無機および有機粉の合成顆粒
および有機物質、たとえば大鋸屑、椰子殻、とう
もろこし穂軸およびタバコ茎の顆粒を使用するこ
とができる。 乳化剤および／または泡沫形成剤としては、非
イオン性および陰イオン性の乳化剤、たとえばポ
リオキシエチレン‐脂肪酸エステル、ポリオキシ
エチレン‐脂肪アルコールエーテル、たとえばア
ルキルアリールポリグリコールエーテル、アルキ
ルスルホネート、アルキルサルフエート、アリー
ルスルホネートならびにアルブミン加水分解生成
物を使用することができる。分散剤は、たとえば
リグニン亜硫酸廃液およびメチルセルロースを包
含する。 たとえばカルボキシメチルセルロースのような
接着剤ならびに粉末、顆粒もしくはラテツクスの
形の天然および合成重合体、たとえばアラビアゴ
ム、ポリビニルアルコールおよびポリ酢酸ビニル
を組成物中に使用することができる。 たとえば無機顔料（たとえば酸化鉄、酸化チタ
ンおよび紺青）および有機染料（たとえばアリザ
リン染料、アゾ染料もしくは金属フタロシアニン
染料）のような着色料、ならびに微量栄養素、た
とえば鉄、マンガン、硼素、銅、コバルト、モリ
ブデンおよび亜鉛の塩を使用することもできる。 本組成物は、通常0.1〜95重量％、好ましくは
0.5〜90重量％の活性化合物を含有する。 本発明による活性化合物は、そのままでまたは
組成物として、雑草撲滅用に使用することがで
き、同様に公知の除草剤との混合物、仕上げ組成
物またはタンク混合も可能である。たとえば殺菌
剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、鳥類駆逐剤、
生長因子、植物栄養素および土壌構造改良剤のよ
うな他の公知の活性化合物との混合物も可能であ
る。 本活性化合物は、そのままで、または組成物と
して、またはそれからさらに希釈して調製した使
用形態、たとえば既製の溶液、懸濁液、乳剤、粉
末、ペーストおよび顆粒剤として使用することが
できる。それらは、常法により、たとえば潅水、
噴霧、散霧、散布または散粉などによつて使用さ
れる。 本発明による活性化合物は、植物の発現前また
は後のいずれに使用することもできるが、好まし
くは植物の発現前に、すなわちプレエマージヨン
ス法により使用される。それらは、また、蒔種前
に土壌中に混入させることもできる。 活性化合物の使用量は広範囲に変化させること
ができる。その量は、主として所望する作用の性
質に依存する。通常、使用量は１ヘクタール当り
活性化合物0.01〜10Kg、好ましくは0.05〜８Kg／
haである。 さらに本発明は、活性成分として、本発明の化
合物を固体の希釈剤もしくは担体と混合して或い
は表面活性剤を含む液体の希釈剤もしくは担体と
混合して含有する除草剤組成物をも提供する。 本発明は、また、雑草またはその生育地に、本
発明の化合物を単独でまたは活性成分として本発
明の化合物を希釈剤もしくは担体と混合して含有
する組成物として施こすことを特徴とする、雑草
の撲滅方法をも提供する。 さらに、本発明は、生育の直前および／または
生育期間中に本発明の化合物を単独でまたは希釈
剤もしくは担体と混合して施こした地域に生育さ
せることにより、雑草による被害から保護された
作物をも提供する。 本発明の化合物の除草活性を以下の生物試験例
によつて示し、この例において本活性化合物はそ
れぞれ、本明細書に後記する対応の製造例の番号
（括弧内に示す）により同定される。 実施例 Ａ 発現前試験 溶剤：アセトン５重量部 乳化剤：アルキルアリールポリグリコールエー
テル１重量部 活性化合物の適当な調製物を作るため、１重量
部の活性化合物を上記量の溶剤と混合し、上記量
の乳化剤を加えそして濃厚物を水で希釈して所望
濃度にした。 試験植物の種子を通常の土壌中に蒔き、24時間
後に活性化合物の調製物を潅水させた。単位面積
当りの水の量を一定に保つのが得策であつた。調
製物中の活性化合物の濃度は重要でなく、単位面
積当りに施こした活性化合物の量だけが決定的で
あつた。３週間後、植物に対する被害の程度を、
未処理対照の発育に比較した被害％として測定し
た。数値は、 ０％＝作用なし（未処理対照と同じ）、 100％＝全撲滅 を示す。この試験において、たとえば次の化合物
は優れた作用を示した：化合物(1)、(2)、(3)、(5)、
(8)、(10)、(12)、(13)、(14)、(15)および(16)。
【表】
【表】 実施例 Ｂ 水田雑草に対する湛水条件下での発現前の給水
処理（鉢試験） 活性化合物の調製 溶剤：アセトン５重量部 乳化剤：ベンジルオキシポリグリコールエーテ
ル１重量部 活性化合物の適当な調製物を作るため、１重量
部の活性化合物を上記量の溶剤と混合し、上記量
の乳化剤を加えそして濃厚物を水で希釈して所望
濃度にした。 試験方法 鉢（1/5000アール）を水田土壌で満たした。２
〜３葉段階のイネの苗（キンマゼ変種）（約10cm
の丈）を１鉢当り２苗移植した。エキノクロア・
クルス‐ガリ、シルプス・ユンコイデス、モノコ
リア・バギナリスおよび広葉雑草の種子、サイペ
ルス・セロチヌスの球根並びにエレオカリス・ア
シクラリス・エルの断片を植えそして湿つた状態
に維持した。移植後５日してから、各鉢を３cmの
深さまで湛水状態にした。活性化合物の調製物を
潅水することにより、下記の表に示した施用量の
活性化合物を施用した。処理後、１日当り２〜３
cmの割合で２日間、鉢中の水を過し続けた。こ
の過後、各鉢を３cmの深さの湛水状態を維持し
た。化学薬剤での処理後４週間してから、除草効
力およびイネ植物に対する薬害を、未処理の植物
と比較して下記に示す０〜５の等級のスケールで
測定した。 効 力： 薬 害： ５＝90％以上撲滅 ５＝90％以上損傷 ４＝80％以上撲滅 ４＝50％以上損傷 ３＝50％以上撲滅 ３＝30％以上損傷 ２＝30％以上撲滅 ２＝30％未満損傷 １＝10％以上撲滅 １＝10％未満損傷 ０＝10％未満撲滅 ０＝０％損傷
【表】
【表】 以下、実施例により本発明を説明する。本発明
による式()の活性化合物ならびに式()、()お
よび()の中間生成物はそれぞれの場合、ヒドロ
キサム酸誘導体と呼ぶこともできる。 製造例 実施例 １ 先ず20.5g（0.1モル）のヒドロキシ酢酸Ｎ‐イ
ソプロピル‐Ｎ‐（２‐エトキシエトキシ）‐ア
ミドおよび次いで15.4g（0.1モル）の２‐クロル
ベンゾオキサゾールを、イソプロパノール200ml
中の水酸化カリウム6.2g（0.11モル）の溶液に０
〜５℃にて滴下し、次いで混合物を冷却なしに６
時間撹拌した。次いで溶媒を減圧留去し、残留物
をトルエン200ml中に溶解させそして溶液を水100
mlと１回振とうすることにより抽出した。有機相
を硫酸ナトリウムで脱水しそして減圧蒸発させ
た。残留物を60℃にて高真空下に初期蒸留にかけ
た。このようにして、屈折率n22 D＝1.4986の淡褐
色油状物としてベンゾオキサゾール‐２‐イル‐
オキシ酢酸Ｎ‐イソプロピル‐Ｎ‐（２‐エトキ
シエトキシ）‐アミド30.3g（理論値の94％）が得
られた。 式 の次の化合物を同様にして製造することができ
た：
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】
【表】 先駆物質として使用すべきヒドロキシカルボン
酸Ｎ‐オキシ‐アミドはたとえば次のようにして
製造することができた。 例 56 24.1g（0.15モル）のアセトキシ酢酸Ｎ‐メチ
ル‐Ｎ‐メトキシ‐アミドと、100mlのメタノー
ルと0.2gの水酸化カリウム粉末との混合物を還流
下に２時間沸とうさせた。次いで溶媒を減圧留去
し、残留物を減圧蒸留した。このようにして、沸
点47℃（0.1mmHg）の無色液体としてヒドロキシ
酢酸Ｎ‐メチル‐Ｎ‐メトキシ‐アミド16.1g（理
論値の90％）が得られた。 式 の次の化合物を同様にして製造することができ
た。
【表】 アセトキシカルボン酸Ｎ‐オキシ‐アミドもた
とえば次のようにして製造することができた。 例 71 23g（0.28モル）の酢酸ナトリウムと200mlのジ
メチルスルホキシドと34.4g（0.25モル）のクロル
酢酸Ｎ‐メチル‐Ｎ‐メトキシ‐アミド（この製
造については、ドイツ公開公報第2753182号参照）
との混合物を70℃にて７時間撹拌した。次いで混
合物を室温まで冷却し、塩化メチレン500mlを加
えそして無機塩を去した。液を減圧蒸発させ
そして残留物を蒸留した。沸点70℃／0.3mmHgの
無色液体としてアセトキシ酢酸Ｎ‐メチル‐Ｎ‐
メトキシ‐アミド30.3g（理論値の75％）が得られ
た。 例 72 27.3g（0.2モル）の２‐アセトキシアセチルク
ロライドを、33.1g（0.24モル）の炭酸カリウムと
200mlのアセトニトリルと29.4g（0.2モル）のＮ‐
イソプロピル‐Ｏ‐（２‐エトキシエチル）‐ヒ
ドロキシルアミンとの混合物に加えた。この添加
の際、温度は約30℃まで上昇した。次いで、反応
混合物を冷却なしにさらに２時間撹拌し、過し
そして溶媒を減圧留去した。かくして、沸点106
〜107℃／0.1mmHgの無色油状物としてアセトキ
シ酢酸Ｎ‐（２‐エトキシエトキシ）‐Ｎ‐イソ
プロピル‐アミド38g（理論値の77％）が得られ
た。 例 73 54.6g（0.4モル）の２‐アセトキシアセチルク
ロライドを、46.8g（0.4モル）のＯ，Ｎ‐ジプロ
ピルヒドロキシルアミンと250mlのエチレングリ
コールジメチルエーテルと43.7g（0.52モル）の重
炭酸ナトリウムとの混合物に10〜15℃にて滴加
し、次いで混合物を室温にて２時間撹拌した。分
離した塩を次いで去しそしてエチレングリコー
ルジメチルエーテルで洗浄し、次いで液を減圧
蒸発させた。屈折率n21 D＝14438の無色液体として
アセトキシ酢酸Ｎ‐ｎ‐プロポキシ‐Ｎ‐ｎ‐プ
ロピル‐アミド80g（理論値の92％）が残留した。 式 の次の化合物を例71〜73の一つと同様にして製造
することができた。
【表】 幾つかのものが新規であるＯ，Ｎ‐ジアルキル
ヒドロキシルアミンは、たとえば次のようにして
製造することができた。 例 86 92.5g（0.5モル）のＯ，Ｎ‐ジアリル‐Ｎ‐カ
ルブエトキシヒドロキシルアミン（その製造につ
いては、クラインシユミツトおよびコープ、ジヤ
ーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエ
テイ、第66巻（1944）、第1931頁参照）を250mlの
水と250mlのエタノールと150mlの45％濃度水酸化
ナトリウム溶液との混合物に加えた。溶液を還流
下に３時間沸とうさせ、300mlの水を加えそして
混合物をそれぞれ200mlの塩化メチレンで３回抽
出した。有機相を合して硫酸ナトリウムで脱水
し、次いで溶媒を留去した。残留物を減圧蒸留し
た。かくして、沸点33℃（８mmHg）の無色液体
としてＯ，Ｎ‐ジアリルヒドロキシルアミン25g
（理論値の44％）が得られた。 例 87 第１段階 Ｎ‐フエニル‐N′‐sec.‐ブチル‐N′‐ヒド
ロキシ尿素 500mlのエチレングリコールジメチルエーテル
と209.1g（1.5モル）の純度90％Ｎ‐sec.‐ブチ
ル‐ヒドロキシルアミン塩酸塩と151.2g（1.8モ
ル）の重炭酸ナトリウムとの混合物を室温にて１
時間撹拌し、次いで178.5g（1.5モル）のフエニル
イソシアネートを０〜５℃にて加えた。次いで、
混合物を10℃にて１時間撹拌し、次いで塩を去
しそして液を減圧蒸発させた。融点107℃の無
色粉末としてＮ‐フエニル‐N′‐sec.‐ブチル‐
N′‐ヒドロキシ尿素310g（理論値の99％）が残留
した。 第２段階 Ｎ‐フエニル‐N′‐sec.‐ブチル‐N′‐メト
キシ尿素 164g（1.3モル）のジメチル硫酸を、水500ml中
の60g（1.5モル）の水酸化ナトリウムと208g（１モ
ル）の上記ヒドロキシ尿素との溶液に30℃にて滴
加した。次いで、混合物を25〜30℃にて２時間撹
拌し、次いで沈殿した生成物を過した。このよ
うにして、融点53℃の無色結晶としてＮ‐フエニ
ル‐N′‐sec.‐ブチル‐N′‐メトキシ尿素188g
（理論値の85％）が得られた。 第３段階 Ｏ‐メチル‐Ｎ‐sec.‐ブチルヒドロキシルア
ミン 241g（2.6モル）のアニリンと288.6g（1.3モル）
の上記メトキシ尿素との混合物を160〜170℃まで
加熱した。かくして、沸点100℃／760mmHgの無
色液体としてＯ‐メチル‐Ｎ‐sec.‐ブチルヒド
ロキシルアミン83g（理論値の62％）が蒸留され
た。 式 の次の化合物を例86および87の一つと同様にして
製造することができた。
【表】 ＼
C４H９−tert.
97 CH２−CH２−OCH３ C３H７−iso 99〓10

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中、ＡはＮを示し、 ＤはＣ−R4またはＮを示し、 ＥはＣ−R5またはＮを示し、 ＧはＯまたはＳを示し、 但しＤおよびＥは同時にＮではなく、 R1は水素原子を示し、 R2はそれぞれ10個までの炭素原子を有するア
    ルキル、アルコキシアルキルもしくはアルケニル
    基を示し、 R3はそれぞれ10個までの炭素原子を有するア
    ルキル、アルコキシアルキル、アルケニルもしく
    はシクロアルキル基を示し、 R4およびR5は同一もしくは異なるものであつ
    て、それぞれハロゲン原子、シアノ基、フエニル
    基、C1〜C4‐アルキルチオ基、ベンジルチオ基、
    C1〜C4‐アルキルスルホニル基またはC1〜C6‐
    アルキル基を示し、または２個の隣接する基R4
    とR5は一緒になつて融合ベンゾ基を示し、この
    基はハロゲンまたはC1〜C4‐アルキルにより置
    換することができる〕 のアゾリルオキシ‐カルボン酸Ｎ‐オキシ‐アミ
    ド。 ２ R1が水素原子を示し、 R2がC1〜C6‐アルキル、C1〜C4‐アルコキシ
    エチルまたはアリル基を示し、 R3がC1〜C6‐アルキル、C1〜C4‐アルコキシ
    エチル、アリルまたはシクロヘキシル基を示し、 基【式】が 【式】 【式】および【式】 から選択されるアゾリル基を示し、これら式中 Ｘは酸素または硫黄を示し、 基R6、R7、R8およびR9は同一でも異なつても
    よく、それぞれ塩素原子またはシアノ基、フエニ
    ル、C1〜C3‐アルキルチオ、C1〜C3‐アルキル
    スルホニル、C1〜C4‐アルキルもしくはベンジ
    ルチオ基を示し、 基R10〜R13は同一でも異なつてもよく、それ
    ぞれ水素もしくは塩素原子またはC1〜C2‐アル
    キル基を示す、特許請求の範囲第１項記載のアゾ
    リルオキシ‐カルボン酸Ｎ‐オキシ‐アミド。 ３ 一般式 〔式中、ＡはＮを示し、 ＤはＣ−R4またはＮを示し、 ＥはＣ−R5またはＮを示し、 ＧはＯまたはＳを示し、 但しＤおよびＥは同時にＮではなく、 R1は水素原子を示し、 R2はそれぞれ10個までの炭素原子を有するア
    ルキル、アルコキシアルキルもしくはアルケニル
    基を示し、 R3はそれぞれ10個までの炭素原子を有するア
    ルキル、アルコキシアルキル、アルケニルもしく
    はシクロアルキル基を示し、 R4およびR5は同一もしくは異なるものであつ
    て、それぞれハロゲン原子、シアノ基、フエニル
    基、C1〜C4‐アルキルチオ基、ベンジルチオ基、
    C1〜C4‐アルキルスルホニル基またはC1〜C6‐
    アルキル基を示し、または２個の隣接する基R4
    とR5は一緒になつて融合ベンゾ基を示し、この
    基はハロゲンまたはC1〜C4‐アルキルにより置
    換することができる〕 のアゾリルオキシ‐カルボン酸Ｎ‐オキシ‐アミ
    ドを製造するにあたり、一般式 〔式中、R1、R2およびR3は上記と同じ意味を有
    する〕 のα‐ヒドロキシカルボン酸Ｎ‐オキシ‐アミド
    を一般式 〔式中、Ａ、Ｄ、ＥおよびＧは上記と同じ意味を
    有し、 Halは塩素、臭素もしくは沃素原子を示す〕 のハロゲノアゾールと反応させることを特徴とす
    るアゾリルオキシ‐カルボン酸Ｎ‐オキシ‐アミ
    ドの製造方法。 ４ 反応を酸受容体の存在下で行なう、特許請求
    の範囲第３項記載の方法。 ５ 反応を、希釈剤として不活性有機溶媒を使用
    して行なう、特許請求の範囲第３項または第４項
    記載の方法。 ６ 反応を−20〜100℃の温度で行なう、特許請
    求の範囲第３〜５項のいずれか１つの項に記載の
    方法。 ７ 活性成分として、一般式 〔式中、ＡはＮを示し、 ＤはＣ−R4またはＮを示し、 ＥはＣ−R5またはＮを示し、 ＧはＯまたはＳを示し、 但しＤおよびＥは同時にＮではなく、 R1は水素原子を示し、 R2はそれぞれ10個までの炭素原子を有するア
    ルキル、アルコキシアルキルもしくはアルケニル
    基を示し、 R3はそれぞれ10個までの炭素原子を有するア
    ルキル、アルコキシアルキル、アルケニルもしく
    はシクロアルキル基を示し、 R4およびR5は同一もしくは異なるものであつ
    て、それぞれハロゲン原子、シアノ基、フエニル
    基、C1〜C4‐アルキルチオ基、ベンジルチオ基、
    C1〜C4‐アルキルスルホニル基またはC1〜C6‐
    アルキル基を示し、または２個の隣接する基R4
    とR5は一緒になつて融合ベンゾ基を示し、この
    基はハロゲンまたはC1〜C4‐アルキルにより置
    換することができる〕 のアゾリルオキシ‐カルボン酸Ｎ‐オキシ‐アミ
    ドを含有することを特徴とする除草剤組成物。 ８ 0.1〜95重量％の活性化合物を含有する、特
    許請求の範囲第７項記載の組成物。
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