JPH0143942B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は基質へのフイルム形成性熱可塑性重合
体の積層方法に関する。本発明は特に印刷回路基
質への光感受性層の積層方法に関する。 通常のホトレジストエレメントからの印刷回路
板の製造においては、基質板にエレメントの光感
受性層を前記層がそれに強固に吸蔵またはその他
の相不連続物例えば汚染された空気または捕捉空
気なしに接着されるような方法で積層させること
が必要である。更に、多くの製造状況においては
また、瞬間的に強い接着結合を生成させて、以後
の操作が先に進行しうるようにするのが望まし
い。 米国特許第3547730号明細書は層および基質を
加熱されたスプリング負荷積層ロールのニツプに
通すことによりホトレジスト層を基質に積層させ
ることを開示している。このホトレジスト層およ
び／または基質は積層段階の前に予熱することが
できる。この加熱の目的は、ロールの圧力下に層
を基質に強制的に緊密に接着状態とさせそれによ
つて層に以後のホトレジスト処理段階例えば溶媒
現像および基質のエツチングまたはめつきに耐え
るに充分な基質に対する接着を達成せしめること
である。 米国特許第3629036号明細書はホトレジスト溶
液を使用して積層の前にホトレジスト層で基質を
コーテイングすることを開示している。このコー
テイング溶液はその意図するところは、積層のた
めの熱を必要とすることなしに充分な接着を得る
のを可能ならしめることである。このコーテイン
グ溶液は基質に対してウイツク（wicks）スする
ことにより適用される。 従来技術積層法は多くの用途に対しては満足な
ものではあるけれども、特に非常に高い綿密度を
有する印刷回路板が成形される場合には更に一層
正確なそして均一な積層法に対する要求が存在す
る。 従つて、本発明は熱可塑性重合体そして特に光
感受性層の再現性ある均一積層に対する要求を満
足する方法に関するものであり、これは加圧手段
によつて非孔性基質表面に支持体つき光感受性層
を積層する方法は連続的な次の段階すなわち (a) 基質表面を均一な水フイルム試験により決定
したように清浄化し、 (b) 基質の清浄化後約１分以内で且つ積層の直前
に液体の薄層を適用して基質表面と光感受性層
との間に界面を生成させ、そして (c) 積層の間に光感受性層中への吸収によつて界
面からその薄層を除去することからなる。 本発明のその他の利点および詳細は添付図面を
参照することによつて明白となるであろう。この
図面は連続積層法における本発明の工程の好まし
い応用を模式的に説明するものである。 本発明の主要目的は、非常に良好な接着を得る
ことのみならず、非常に迅速に、すなわち約１秒
そして好ましくは更にそれ以下のわずかな積層の
間のニツプ接触を使用してそのような接着を得る
ことである。この目的は、(1)まず表面にまず薄い
層が生成されそして(2)第一義的には光重合体中へ
の吸収によつてそれが表面からほとんど瞬間的に
置換されるという事実によつて達成される。薄い
フイルム形成のためにより揮発性の液体が使用さ
れる場合そして特に高い積層温度が使用される場
合には、この薄いフイルムは小程度は蒸発によつ
ても除去されうる。いずれの場合にも、基質表面
からのこの薄層の迅速な置換はそれが表面上での
接着を阻害しえないということを確実ならしめ
る。 本発明の実施に当つては、基質表面の処理に使
用される液体は、積層の直前に薄いフイルムとし
て適用される。これら液体は別個の段階で適用す
ることができるし、または基質表面を機械的また
は化学的に清浄化し、場合によりすすぎそして過
剰の液体を除去して、積層用基質表面上に薄い液
体層を生成させるに充分な液体を残留させる予備
積層―清浄化操作の一体的部分として適用するこ
とができる。 本発明に有用な液体は積層される熱可塑性重合
体に対する溶媒または非溶媒でありうる。有用で
あるためにはこの液体はまたフイルムによに吸収
されうるかまたは重合体フイルムを通して拡散し
うるものでなくてはならない。本発明に有用な非
溶媒液体はホトレジスト物質のある成分を溶解さ
せるものでありうるけれども、この液体は積層条
件下にはホトレジスト下の形成に対して本質的な
成分すなわち結合剤、単量体および開始剤を溶解
しえないものでなくてはならない。 吸収性液体の適正な選択は熱可塑性層を非孔性
基質との間に瞬間的で且つ強い結合を生成させる
ために本質的である。その理由は界面に残在する
すべての液体は離型（レリース）層として作用し
そして実質的に結合を弱化させるからである。こ
の層の非性基質への積層後１〜２分（好ましくは
１〜30秒）以内にフイルム支持体が光感受性熱可
塑性層から除去される高生産性またはオンライン
過程においてはこの接着は特に重要である。好ま
しくはこの液体は迅速に拡散し、気化しまたは層
中に吸収されるものであるべきである。そのよう
な液体は熱可塑性層に対して溶媒である必要はな
く、そして事実、溶媒は不利でありうる。その理
由はそれらは界面において溶媒和し、軟化し、歪
みを形成させまたは濃縮してその液体が界面から
拡散し去つた場合におけるよりも一層弱い結合を
生成させる傾向があるからである。 適当な非溶媒液体としては水、フルオロカーボ
ン、アルコール、アルコキシアルカノール例えば
２―エトキシエタノールおよびアルキレンカーボ
ネート例えばエチレンカーボネートの水性および
フルオロカーボン溶液および、複素環式化合物例
えば米国特許第3645772号明細書に記載のものま
たは他のキレート剤の水性溶液があげられる。特
に好ましいのは水中のメタノールまたはエタノー
ルの溶液である。 光感受性層を積層するために本発明の方法にお
いて使用するための液体の適当性は次の試験法に
より決定される。９インチ×12インチのホトレジ
ストフイルム片を1800c.c.の供試液に室温で30秒間
浸し、そして次いで除去する。供試液体を蒸発さ
せて10c.c.の残渣としそしてこれを通常の顕微鏡ス
ライドガラス上にコーテイングする。このコーテ
イングしたスライドを1KW「コライト」DMVL
―HP露光源の水銀光に２分間露出させ、その後
でコーテイングの硬化および色の変化をチエツク
する。これらのいずれかが起つていればホトレジ
ストフイルムの本質的成分が溶解しそして従つて
供試液体により抽出されたことを示している。 この薄い液体層は重合体を好ましくは小さな小
滴の均一層として重合体の積層されるべき基質の
表面の少なくとも30％を覆うべきである。少くと
も80％の被覆が好ましく、そして連続フイルムの
形の本質的に完全な被覆が更により好ましい。 実際上、この薄い液体層は実用的である限り薄
いことが好ましい。特定の層の厚さは液体の性質
および適用条件によつてかなり変動するが、一般
にそれは少くとも約1μであるのが好ましい。そ
の平均層厚さは約30μまたは約10〜約50μである。 適用された薄い液体フイルムが以後の積層操作
の間に光感受性層と基質との界面から実質的に除
去されることは、本発明の本質的な点である。こ
れは主として積層重合体層中への吸収によりなさ
れる。本明細書に使用されている場合の「吸収」
なる表現は通常の単位操作の意味において使用さ
れているものではなく、基質と光感受性層との間
の界面からその薄い液体層が積層圧力下にそれの
拡散していく固体光感受性層に直接移行すること
を意味している。その薄い液体フイルムを除去す
る正確な方法は勿論使用される液体、および光感
受性層および基質の性質の函数である。より揮発
性の液体が加熱積層ロールと組合わせて使用され
る場合には、液体フイルム置換は一部は蒸発によ
り実施されうる。他方より揮発性の低い液体およ
び／またはより冷たいロールの使用は、より少い
蒸発の結果となり、そして従つて液体フイルムの
除去は大部分積層重合体層中への吸収により生ず
る。明らかに、不揮発性液体が使用される場合に
はフイルムの除去は本質的には吸収により行われ
る。液体フイルムが除去される正確な機構はその
液体が積層光感受性層と相溶性である限りは臨界
的ではない。 広範囲の熱可塑性層の積層に本発明を有利に使
用することができるけれども、本発明は印刷回路
板の製造に使用される基質への光感受性レジスト
エレメントの積層に対して特に有用である。本発
明はまた石版印刷プレートの製造における基質へ
の光感受性層の積層に対してもまた有用である。 本発明の実施においては、種々のタイプの光感
受性フイルムレジストエレメントを使用すること
ができる。一般に光硬化の陰画として働くエレメ
ントは、米国特許第3469982号明細書に開示され
たタイプの光重合性エレメントおよび米国特許第
3526504号明細書に開示されたタイプの光交叉結
合性エレメントである。陽画として働くレジスト
エレメントは、光可溶化性タイプのもの、例えば
米国特許第3837860号明細書のｏ―キノンジアジ
ドエレメントまたは光減性タイプのもの例えば米
国特許第3778270号明細書のビスジアゾニウム塩
または英国特許第1547548号明細書のニトロ芳香
族組成物である。 剥離性支持体上の画像形成性非ブロツク形成性
光重合体基質を含有するエレメントを使用するの
が好ましい。あるいはまた特にその光重合性層が
粘着性である場合には支持体つき光重合体基層の
残存表面を除去可能なカバーシートで保護するこ
とができる。またはエレメントがロール形で保存
される場合には、積層表面は支持体の隣接する逆
の表面により保護されうる。光感受性層組成物は
約0.0003インチ（〜0.0008cm）〜約0.01インチ
（〜0.025cm）はまたはそれ以上の乾燥コーテイン
グ厚さで存在せしめられる。好ましくは温度変化
に対して高度の寸法安定性を有している適当な剥
離可能な支持体は高分子重合体例えばポリアミ
ド、ポリオレフイン、ポリエステル、ビニル重合
体およびセルロースエステルよりなる広範囲のフ
イルムから選ぶことができ、そしてこれは
0.00025インチ（〜0.0006cm）〜0.008インチ（〜
0.02cm）またはそれ以上の厚さを有しうる。剥離
性支持体を除去する前に露光を実施する場合に
は、勿論それはそれに関係する活性線放射の実質
的部分を透過しなくてはならない。露光の前に剥
離性支持体が除去される場合にはそのような制約
は適用されない。特に適当な支持体は約0.001イ
ンチ（〜0.0025cm）の厚さを有する透明ポリエチ
レンテレフタレートフイルムである。 エレメントが除去可能な保護カバーシートを含
有しておらず、そしてロール形で保存されるべき
場合には、剥離性支持体の反対側に光重合性基層
とのブロツク形成を阻止するための例えばワツク
スまたはシリコーンのような物質の薄い離型層を
適用してブロツク化に対して追加の保護が場合に
より与えられる。あるいはまた、コーテイングさ
れた光重合性層に対する接着は、コーテイングす
べき支持体表面の火炎処理または放電処理によつ
て優先的に上昇させることができる。 使用される場合の適当な除去可能な保護カバー
シートは、前記の高分子重合体フイルムと同一群
から選ぶことができ、そしてこれは同一範囲の厚
さを有しうる。0.001インチ（〜0.0025cm）厚さ
のポリエチレンのカバーシートが特に適当であ
る。前記の支持体およびカバーシートは光重合性
レジスト層に対して良好な保護を与える。 本発明が、非常に迅速な接着を必要とする応
用、例えば自己トリミング過程において使用され
る場合には、重合体支持体に対する未露光光感受
性層の接着A₁が支持体なし光感受性層の破断強
度Ｂを越えていることが本質的である。同様に、
基質に対する未露光光感受性層の接着A₂は、未
露光光感受性層の破断強度Ｂを越えていなくては
ならない。更に重合体支持体は積層光重合性層か
ら剥離可能でなくてはならないのであるから、基
質への光層の接着A₂はまたその重合体支持体へ
のその接着A₁を越えたものでなくてはならない。
数学的に表現すればA₂＞A₁＞Ｂである。光感受
性系におけるこれら接着性と破断力との適切な均
衡は単量体と結合剤との相対的割合を調整するこ
とによつて得られる。 この光硬化性層は重合体成分（結合剤）、単量
体成分、開始剤および阻害剤から製造される。 単一結合剤としてかまたは他との組合せで使用
されうる適当な結合剤としては次のものがあげら
れる。ポリアクリレートおよびα―アルキルポリ
アクリレートエステル例えばポリメチルメタクリ
レートおよびポリエチレンメタクリレート、ポリ
ビニルエステル例えばポリビニルアセテート、ポ
リビニルアセテート／アクリレート、ポリビニル
アセテート／メタクリレートおよび加水分解ポリ
ビニルアセテート、エチレン／ビニルアセテート
共重合体、ポリスチレン重合体および例えばマレ
イン酸無性物およびエステルとの共重合体、ビニ
リデンクロリド共重合体例えばビニリデンクロリ
ド／アクリロニトリル、ビニリデンクロリド／メ
タクリレートおよびビニリデンクロリド／ビニル
アセテート共重合体、ポリビニルクロリドおよび
共重合体例えばポリビニルクロリド／アセテー
ト、飽和および不飽和ポリウレタン、合成ゴム例
えばブタジエン／アクリロニトリル、アクリロニ
トリル／ブタジエン／スチレン、メタクリレー
ト／アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共
重合体、２―クロロブタジエン―１，３―重合
体、塩素化ゴムおよびスチレン／ブタジエン／ス
チレン、スチレン／イソプレン／スチレンブロツ
ク共重合体、約4000〜1000000の平均分子量を有
するポリグリコールの高分子量ポリエチレンオキ
サイド、エポキシサイド例えばアクリレートまた
はメタクリレート基含有エポキサイド、コポリエ
ステル例えばHO（CH₂）_oOH（式中ｎは２〜10の
全数である）のポリスチレングリコールと、(1)ヘ
キサヒドロテレフタル酸、セバシン酸およびテレ
フタル酸、(2)テレフタル酸、イソフタル酸および
セバジン酸、(3)テレフタル酸およびセバシン酸、
または(4)テレフタル酸およびイソフタル酸とね反
応生成物から製造されたもの、および前記グリコ
ールと(i)テレフタル酸、イソフタル酸およびセバ
シン酸または(ii)テレフタル酸、イソフタル酸、セ
バシン酸およびアジピン酸から製造されたコポリ
エステル混合物、ナイロンまたはポリアミド例え
ばＮ―メトキシメチルポリヘキサメチレンアジパ
ミン、セルロースエステル例えばセルロースアセ
テート、セルロースアセテートサクシネートおよ
びセルロースアセテートブチレート、セルロース
エーテル例えばメチルセルロース、エチルセルロ
ースおよびベンジルセルロース、ポリカーボネー
ト、ポリビニルアセタール例えばポリビニルブチ
ラール、ポリビニルホルマール、ポリホルムアル
デヒド。 好ましくは結合剤は水性現像液中でその組成物
を処理可能ならしめるに充分な酸性またはその他
の基を含有しているべきである。有用な水性処理
可能な結合剤としては米国特許第3458311号およ
び英国特許第1507704号各明細書開示のものがあ
げられる。有用な両性重合体としてはＮ―アルキ
ルアクリルアミドまたはメタクリルアミド、酸性
フイルム形成性共単量体およびアルキルまたはヒ
ドロキシアルキルアクリレートから導かれた共重
合体、例えば米国特許第3927199号明細書に開示
のものがあげられる。 単独の単量体としてまたは他との組合せで使用
することのできる適当な単量体としては、次のも
のがあげられる。第三級ブチルアクリレート、
１，５―ペンタンジオールアクリレート、Ｎ，Ｎ
―ジエチルアミノエチルアクリレート、エチレン
グリコールジアクリレート、１，４―ブタンジオ
ールジアクリレート、ジエチレングリコールジア
クリレート、ヘキサメトチレングリコールジアク
リレート、１，３―プロパンジオールジアクリレ
ート、デカメチレングリコールジアクリレート、
デカメチレングリコールジメタクリレート、１，
４―ジクロルヘキサンジオールジアクリレート、
２，２―ジメチロールプロパンジアクリレート、
グリセロールジアクリレート、トリプロピレング
リコールジアクリレート、グリセロールトリアク
リレート、トリメチロールプロパントリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリ
アクリレートおよびトリメタククリレート、およ
び米国特許第3380831号明細書に開示の同様の化
合物、２，２―ジ（ｐ―ヒドロキシフエニル）―
プロパンジアクリレート、ペンタエリスリトール
テトラアクリレート、２，２―ジ―（ｐ―ヒドロ
キシフエニル）―プロパンジメタクリレート、ト
リエチレングリコールジアクリレート、ポリオキ
シエチル―２，２―ジ―（ｐ―ヒドロキシフエニ
ル）―プロパンジメタクリレート、ビスフエノー
ルＡのジ―（３―メタクリルオキシ―２―ヒドロ
キシプロピル）エーテル、ビスフエノールＡのジ
―（２―メタクリルオキシエチル）エーテル、ビ
スフエノールＡのジ―（３―アクリルオキシ―２
―ヒドロキシプロピル）エーテル、ビスフエノー
ルＡのジ―（２―アクリルオキシ）エーテル、テ
トラクロロビスフエノール―Ａのジ（３―メタク
リルオキシ―２―ヒドロキシプロピル）エーテ
ル、テトラクロロビスフエノールＡのジ―（２―
メタクリルオキシエチル）エーテル、テトラブロ
モビスフエノールＡのジ―（３―メタクリルオキ
シ―２―ヒドロキシプロピルエーテル、テトラブ
ロモビスフエノールＡのジ―（２―メタクリルオ
キシエチルエーテル、１，４―ブタンジオールの
ジ―（３―メタクリルオキシ―２―ヒドロキシプ
ロピル）エーテル、ジフエノール酸のジ―（３―
メタクリルオキシ―２―ヒドロキシプロピル）エ
ーテル、トリエチレングリコールジメタクリレー
ト、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパン
トリアクリレート（462）、エチレングリコールジ
メタクリレート、ブチレングリコールジメタクリ
レート、１，３―プロパンジオールジメタクリレ
ート、１，２，４―ブタントリオールメタクリレ
ート、２，２，４―トリメチル―１，３―ペンタ
ンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、１―フエニル―エチレ
ン―１，２―ジメタクリレート、ペンタエリスリ
トールテトラメタクリレート、トリメチロールプ
ロパントリメタクリレート、１，５―ペンタジオ
ールジメタクリレート、ジアリルフマレート、ス
チレン、１，４―ベンゼンジオールメタクリレー
ト、１，４―ジイソプロペニルベンゼンおよび
１，３，５―トリイソプロペニルベンゼン。 前記エチレン性不飽和単量体の他に、その光硬
化性層はまた、少くとも300の分子量を有する、
次の遊離ラジカル開始連鎖延長付加重合性エチレ
ン性不飽和化合物の少くとも１種を含有しうる。
このタイプの好ましい単量体は２〜15個の炭素原
子を含有するアルキレングリコールまたは１〜10
個のエーテル結合のポリアルキレンエーテルグリ
コールから製造されたアルキレンまたはポリアル
キレングリコールジアクリレートおよび米国特許
第2927022号明細書に開示のもの例えば特に末端
結合として存在する複数個の付加重合性エチレン
性結合を有するものである。特に好ましいものは
そのような結合の少くとも１個、そして好ましく
はほとんどが炭素―炭素二重結合および炭素―ヘ
テロ原子例えば窒素、酸素および硫黄二重結合を
含む二重結合炭素に共役しているものである。顕
著なものは、エチレン性不飽和基特にビニリデン
基がエステルまたはアミド構造に共役しているも
のである。 活性光線よりり活然化可能なそして185℃以下
では熱的に不活性である好ましい遊離ラジカル開
始寸加重合開始剤としては、置換または未置換多
核キノンがあげられる。これらは共役炭素環系の
２個の環内炭素原子を有する化合物、例えば９，
10―アントラキノン、１―クロロアントラキノ
ン、２―クロロアントラキノン、２―メチルアン
トラキノン、２―エチルアントラキノン、２―第
三級ブチルアントラキノン、オクタメチルアント
ラキノン、１，４―ナフトキノン、９，10―フエ
ナントレンキノン、１，２―ベンズアントラキノ
ン、２，３―ベンズアントラキノン、２―メチル
―１，４―ナフトキノン、２，３―ジクロロナフ
トキノン、１，４―ジメチルアントラキノン、
２，３―ジメチルアントラキノン、２―フエニル
アントラキノン、２，３―ジフエニルアントラキ
ノン、アントラキノンα―スルホン酸ナトリウム
塩、３―クロロ―２―メチルアントラキノン、レ
テンキノン、７，８，９，10―テトラヒドロナフ
タセンキノンおよび１，２，３，４―テトラヒド
ロベンゼン(a)アントラセン―７，12―ジオンであ
る。これまた有用なその他の光開始剤は、（ある
ものは85℃程度の低い温度で熱的に活性でありう
る）米国特許第2760863号明細書に記載されてお
りそしてこれらとしてはビシナル（Vicinal、隣
接（ケトアルドニル繁アルコール例えばベンゾイ
ン、ピバロイン、アシロインエーテル例えばベン
ゾインメチルおよびエチルエーテル、α―メチル
ベンゾイン、α―アリルベンゾインおよびα―フ
エニルベンゾインを含めてα―炭化水素置換芳香
族アシロインがあげられる。米国特許第2850445
号、同第2875047号、同第3097096号、同第
3074974号、同第3097097号および同第3145104号
各明細書に開示の光還元可能な染料および還元
剤、ならびにフエナジン、オキサジンおよびキノ
ン群の染料、ミヒラーのケトン、ベンゾフエノ
ン、２，４，５―トリフエニル―イミダゾリル二
量体と水素ドナーとの組合せおよび米国特許第
3427161号、同第3479185号および同第3549367号
各明細書記載のその混合物を開始剤として使用で
きる。また米国特許第4162162号明細書に開示さ
れた光開始剤および光阻害剤と共に増感剤もまた
有用である。 光重合性組成物中に使用しうる光重合阻害剤は
ｐ―メトキシフエノール、ヒドロキノンおよびア
ルキルおよびアリール置換ヒドロキノンおよびキ
ノン、第三級ブチルカテコール、ピロガロール、
樹脂酸銅、ナフチルアミン、β―ナフトール、塩
化第一銅、２，６―第三級ブチル―ｐ―クレゾー
ル、フエノチアジン、ピリジン、ニトロベンンゼ
ンおよびジニトロベンゼン、ｐ―トルキノンおよ
びクロラニルである。また熱重合阻害に対しては
米国特許第4168982号明細書に開示のニトロソ化
合物もまた有用である。 種々の染料および顔料を添加してレジスト画像
の可視性を上昇させることができる。しかしなが
ら使用される着色剤はすべて好ましくは使用され
る活性線放射に対して透明であるべきである。 一般に印刷回路の形成を含む本発明の方法に適
当な基質は機械的強度、化学的耐性および良好な
誘電性を有するものである。すなわち、印刷回路
用のほとんどの板材料は通常は補強充填剤を組合
せた熱硬化性または熱可塑性樹脂である。補強充
填剤を有する熱硬化性樹脂は通常剛性板に対して
使用され、一方補強されていない熱可塑性軸脂は
通常可撓性回路板用のために使用される。セラミ
ツクおよび誘電体コーテイングした金属もまた有
用である。板が製造される材料は勿論薄層用液体
の選択に影響を与えうる。 典型的な板構造は、紙または紙ガラス複合体上
のフエノールまたはエポキシ樹脂ならびにガラス
上のポリエステル、エポキシ、ポリイミド、ポリ
テトラフルオロエチレンまたはポリスチレンを包
含している。ほとんどの場合、板は電気伝導性金
属の薄い層で被覆されているがこの中で銅が圧倒
的に最も一般的である。 石版印刷プレートの製造を含む本発明の方法に
対して適当な基質は機械的強度、および親水性ま
たは親油性の点でそれに積層されている画像形成
された光感受性部分の表面とは異質の表面を有し
ているものである。そのような基質は米国特許第
4072528号明細書に開示されている。この目的に
対しては多くの物質が満足すべきものであけれど
も、薄いアノード処理アルミニウムプレート例え
ば米国特許第3458311号明細書に開示のものが特
に有用である。 前述のように、基質例えば銅またはアルミニウ
ムに対する未露光光感受性層の接着性A₂は、そ
の支持体への接着性A₁よりも大でなくてはなら
ない。A₂に対する高い値はまた強い化学的また
は機械的条件に曝されている間ホトレジスト層を
基質に接着残留させておかなければならないよう
な本発明の多くの適用に対しても要求される。 本発明の方法で用いられる印刷回路基質は清浄
でありかつ有意量の表面非濡れ性を示しうるよう
なすべての外来性物質が存在していないことが必
須である。この理由の故に積層の前に、いつくか
の印刷回路板製造分野には周知の清浄化法の一つ
またはそれ以上によつて印刷回路基質を清浄化す
るのが望ましい。清浄の具体的タイプは、汚染の
タイプ（有機性、微粒子状物または金属性）に依
存する。そのような方法としては溶媒および溶媒
エマルジヨンによる脱脂、機械的スクラビングア
ルカリ含浸、酸性化その他およびそれにつづくす
すぎおよび乾燥があげられる。 適当な清浄度は、基質を水に浸し、それを水か
ら取出しそしてその板の表面を観察することによ
つて容易に決定することができる。均一な水のフ
イルムが観察された場合には板は充分にきれいで
あるがしかし不連続な線条のついたフイルムまた
は大きな水滴が形成された場合には、その板は積
層後の瞬間的接着を要求する本発明の方法に使用
するに充分なだけ清浄ではない。本発明によれば
清浄化表面の劣化を阻止するためには、１分以内
に積層が実施されなくてはならない。 薄いフイルム形成に使用される不活性液体はい
くつかの方法例えばブラシがけ、ウイツキングに
よるかまたは多孔性または有孔ロールを使用して
それをロールがけして適用することができる。 次の実施例および以下の図面の詳細な記載を参
照することによつて本発明は一層明白に理解され
る。 例 レジスト性質 カバーシートを有していないホトレジストフイ
ルムロールを次のように製造する。 次の組成を有する光感受性コーテイング溶液を
調製する。

【表】 前記コーテイング溶液中に、その85％が10μ以
下の直径を有しそして15％が10〜20μの直径を有
しているポリエチレンビーズ13重量部を分散させ
た。この混合物をその裏側にカルナバワツクスお
よびポリ（ビニリデンクロリド）の混合物の薄い
層を塗布した0.00127cm厚さのポリ（エチレンテ
レフタレート）ウエブ上に塗布する。光重合性層
を乾燥させると0.00254cm乾燥厚さを与える。こ
の乾燥コーテイングエレメントの約30.5ｍをロー
ルに巻く。 ここで添付図面について述べると、印刷回路１
に対する一連の基質のそれぞれを連続的様式で清
浄化チヤンバー３を通るローラーコンベアー上を
機械的に前進させる。この清浄化チヤンバー中で
はその上および下側方の銅被覆表面が多量の
（heavy）水スプレー下での機械的スクラビング
によつて清浄化される。この板はフアイバーグラ
ス補強エポキシ樹脂からつくられている。均一水
フイルム試験により定義されるような清浄さを有
するこの基質板を更に板の側面を正確に整合され
る整合ロール５を経て前進させる。整合ロール５
から各整合された板が出てき、そしてこれはその
内側にライン７を通して薄層液体（この場合には
水）が送られてくる中空液体適用ロール６の間を
通される。好ましくはこの適用ロール６は線布
（薄層液体がそれを通過しそして基質上にコーテ
イングされる）でおおつた硬質多孔性ポリエチレ
ンスリーブをその上に有する規則的パターンで孔
をあけた金属コアより構成されている。適用ロー
ル６中での液体水準は固定された水準排出ライン
８により限定されている。両表面を水の薄い層で
おおわれた板を次いで１組の上側および下側供給
ロール９に前進させる。このロール９の各々は例
からの連続レジストフイルム１１の光感受性層
の保護されていない方の表面を前記の水の薄い層
に対向するように位置している。供給ロール９は
板１を前進させるために使用される機構に機械的
に接続されている。その際、板が供給ロール９に
入る際にそれらが互に衝合しそして各板の後方端
および先行端の間にフイルム１１により有意量の
ブリツジ形成がなされないようにする。例に記
載のようにして製造された積層フイルムは供給ロ
ール１２から供給される。定位置に置いたフイル
ムレジスト１１を有する衝合した板を次いで加熱
積層ロール１３のニツプを通して前進させる。こ
こにおいてフイルム層１１は圧力および熱の両方
にかけられる。それによつて光感受性層上の薄い
水の層は主として光感受性層中への吸収によつて
基質から除去される。積層ロール表面の温度は約
230〓であり、そしてこの積層装置を通しての板
の線速度は約６フイート／分である。小量の水は
蒸気により除去される。積層は、板の清浄化後約
40秒以内に完了する。表面処理と積層との間の経
過時間は約５秒であつた。まだ相互に衝合されて
いる積層板１を均一の速度でウエツジ１５の間に
前進させる。ウエツジ１５の出口において、連続
フイルムの外側表面上のポリエチレンテレフタレ
ートウエブ１７は基質から鈍角の角度（ここでは
150゜）で均一に後方に引張られ、これは板１の先
行端に沿つて直線で光感受性層をトリミングす
る。ウエブ１７は巻取りロール１９の作用および
板の前進作用によつて後方に引張られる。基質板
１がウエツジ１５の間から出てくる際に進行につ
れて光感受性層のより多くが被覆除去される。最
終的には板は１対のクラツチ作動高速回転トリワ
ミングロール２１（１個のみが図示されている）
（それらはパネルのサイドを捕えるまでは前進す
る板の線速度よりも大なる速度で回転している）
の方に前進しそしてその間にそのサイドにおいて
しつかりと捕えられる。次いで、このトリミング
ロールは作動速度の差を補償するスリツプクラツ
チにより板の線速度で移動する。トリミングロー
ル２１は板に横方向引張り応力を与える。これは
ウエツジ１５の間からそれが出て来る時に板の後
方端に沿つて熱可塑性層を平滑にトリミングさせ
る。後方端のトリミングが完了したら（すなわち
一連のものの先行のおよび後方の板が分離された
時）この積層板は通常のホトレジスト技術による
回路板製造用に準備されたことになる。 前進する基質エレメントを先行する板の後縁と
それに続く板の先行縁との間に有意の間隔が存在
しないようにして相互につき合わせた場合には、
層に対する横方向引張り応力の適用が先行板の後
縁および後続板の前縁の両方から同時に層をトリ
ミングさせるように働く。他方、連続する板が、
先行する板の後縁とそれに続く板の前縁との間に
ギヤツプをひろげる光感受性層の「動き
（budge）」が存在する場合には、２個の縁部を
別々にトリミングすることが必要である。この場
合、板の前縁をトリミングするための横方向引張
り応力は好ましくは前進する層の長手方向の軸に
沿つてフイルムを鈍角に後方に曲げることによつ
て積層ロールのニツプから積層基質エレメントが
出てきた時に層から支持体フイルムを除去するこ
とによつて適用されるが、その曲げの半径は基質
エレメントの前縁上の層の破壊強度以上となるよ
うに充分に小さいものである。 好ましい態様においては、この方法を一連の基
質の両面において同時に実施して光重合性層を基
質の両面に積層される。この場合、基質の孔の中
に液体が存在していないことが特に重要である。
そうでない場合には、積層の熱が、その液体を蒸
発させそして基質中の孔の上の光感受性層の「テ
ント」を膨腸および破裂させる。また、一連の基
質が充分に接近していて、積層のために通常使用
されるスプリング負荷積層ロールが基質の間で沈
まないようにすることもまた好ましい。このこと
は連続的な基質の間に延在している２枚の光重合
性層が一緒に結合することすなわち連続する基質
間の「ヒンジ形成」も阻止する。その理由はその
うな結合は支持体フイルムが除去される場合に先
行端の自己トリミングを多分妨害するからであ
る。あるいはまた積層ロールの圧力を低下させて
層の結合を最小化することができる。しかしなが
ら「ヒンジ形成」自体を最小に保つて自己トリミ
ング（self―trimming）機能を容易ならしめるの
が好ましい。 前記のように本発明の方法は連続的に実施され
るけれども、この方法はまた間欠的にも実施しう
ることを認められたい。 例 清浄化の重要性 銅表面上に取扱いによるフインガープリントを
有する例記載のタイプの２枚の板を次の試験に
使用する。１枚の板を前記の方法で清浄化しそし
て乾燥する。これは前記水フイルム試験により判
定して「清浄」であることが見出されている。水
で飽和したテイツシユペーパーで表面をぬぐうこ
とによつて両板の表面に水が適用される。 清浄な板上では水は一見不連続性のない均一な
フイルムであるが、しかし清浄でない板上では水
は表面に筋をえがく。次いで両方の板に、して
230〓のロールがけ表面温度の加熱ニツプロール
を使用して前記例のフイルムを積層させる。以
下に記載のテープ離層試験に付した場合、清浄な
板に積層された重合体は離層しないがしかし清浄
化されていなかつた板に積層された重合体は実質
的な離層を生ぜしめる。 前記に参照されているテープ離層試験において
は、１インチ幅で６インチ長さの「スコツチ」印
ブラツクポリ／ペーパーマスクテープをこの積層
光感受性表面にしつかりと適用しそして次いでそ
の一端を表面から引張る。光感受性層の若干がテ
ープと共に引き剥がされる場合には、その積層は
満足できないものである。 例 陽画ホトレジスト積層 次のようにして光感受性コーテイング組成物を
製造する。

【表】 この混合物を0.00127cm厚さのポリエチレンテ
レフタレートウエブ上にコーテイングしそして乾
燥させて0.00254cm厚さの光感受性層を生成させ
る。 この光感受性層を例のようにして清浄化され
た銅被覆基質板の一表面に積層させそして自己ト
リミングさせるが、ただしこの薄層の液体はここ
では水中の30％エタノールよりなつている。 印刷回路パターンに相当するホトツール
（photo tool）の透明部分を通して「コライト」
DMVL―HP光源からの紫外線照射にこの光感受
性層を60秒間露出させることによつてこの積層お
よびトリミングした各板に像形成させる。次いで
このホトツールを除去し、そして4000Å以下の紫
外線照射に対しては不透明のフイルターで置換し
そしてこの板を「コライト」DMVL―HP光源の
可視光線に60秒間均一に露出させる。９％エチレ
ングリコールモノブチルエーテルおよび１％硼酸
ナトリウムの水性溶液中で現像することによつて
像様露光部分を完全に除去する。像形成しそして
現像された積層物はここに通常のめつきおよびエ
ツチングホトレジスト技術による回路板製造に準
備された状態となる。 例 石版印刷プレートの製造 次の組成を有する光感受性組コーテイング混合
物を製造する。

【表】 この混合物を0.00127cm厚さのポリエチレンテ
レフタレートウエブ上にコーテイングしそして乾
燥させて0.00254cm厚さの光感受性層を生成させ
る。 この光感受性層を例の積層法を使用して薄い
アルミニウム板のきれいなアノード処理表面に積
層させそして自己トリミングさせるがこの薄い層
の液体はここでは水中の30％エタノールよりなつ
ている。 ハーフトーン透明画を通して「コライト」
DMVL―HP光源からの紫外線照射にこの光感受
性層を60秒間露出させることによつてこの積層お
よびトリミングされた板に像形成させる。炭酸ナ
トリウムの水性溶液中で現像することによつてこ
の未露光部分を完全に除去して、裸のアルミニウ
ム表面の相補的画像部分を有するハーフトーン重
合体画像を生成させる。得られた石版印刷プレー
トを通常の方法でガム処理し、インクづけしそし
て使用して多数の印刷コピーを生成させる。 例 薄い液体層としてベンゾトリアゾール塩酸塩の
１％水性溶液を使用し、そしてトリクロロトリフ
ルオロエタン中の10％メタノール溶液を使用して
例をくりかえす。両方の場合、積層および自己
トリミングは満足すべきものでありそして得られ
た積層板は通常の方法で画像形成させそして処理
して印刷回路を生成させることができる。 例 石版印刷プレートの製造 光感受性コーテイング混合物を製造し、塗布し
そして例のようにして積層したがただしここで
はそこに使用されているビーズの代りにコーテイ
ング溶液中に16重量部の1μポリエチレンビーズ
（「マイクロフアイン―Ｆゴールド」、デユラ・
コンモデイテイーズ・コーポレーシヨンの商品
名）を分散させた。0.023cm厚さのアルミニウム
板の表面を「ケムカツト （Chemcut） 」型
式107機械的清浄化系〔ケムカツト・コーポレー
シヨン製品〕を使用して水中でタングステンカー
バイドブラシでスクラビングし、そしてそのスク
ラビングした表面を光感受性層に積層させそして
例に記載のようにしてこの層をトリミングし
た。 積層させそしてトリミングした板をその光感受
性層をハーフトーンおよび線透明画を通して60秒
間フリツプ・トツププレートマーカー中で2000ワ
ツトパルス式キセノンアーク光源からの紫外線照
射に露出させることにより画像形成させた。炭酸
ナトリウムの１％水性溶液で現像することによつ
て未露光部分を完全に除去して裸のアルミニウム
表面の相補的画像部分を有するハーフトーン重合
体画像を生成させた。得られた石版印刷プレート
を「リデツクス （Lydex）」仕上げ溶液
（LDFS）（デユポン社製品）で通常の方法でガム
処理させ、そしてA.B.デツク型式380オフセツト
印刷プレス上に載置した。標準的インクおよびフ
アウンテイン溶液を使用してこの印刷プレートか
ら少くとも3500枚の良好な品質のコピーが得られ
た。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の方法の一態様を示す略図であ
る。 １…印刷回路板、３…清浄化チヤンバー、５…
整合ロール、６…適用ロール、７…蒸気チヤンバ
ー、８…ライン、９…供給ロール、１１…フイル
ム、１２…供給ロール、１３…積層ロール、１５
…ウエツジ、１７…ウエブ、１９…巻取りロー
ル、２１…トリミングロール。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 加圧手段によつて清浄な基質表面に支持体付
   き光感受性層を積層するにあたり、 (a) 均一水フイルム試験により定義されるように
   基質表面に清浄にすること、 (b) 基質を清浄にしてから約１分以内でそして積
   層の直前に液体の薄層を適用して基質表面と光
   感受性層との間に界面を形成させること、そし
   て (c) 光感受性層中への吸収によつて積層の間に界
   面からこの液体の薄い層を除去させること の一連の段階を包含する、改善された積層方法。 ２ 薄い層を基質上への液体のロールがけ、刷毛
   塗りまたはウイツキシグにより適用する、前記特
   許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 積層が加熱ニツプロールにより実施される、
   前記特許請求の範囲第１項記載の方法。 ４ 液体が水性である、前記特許請求の範囲第１
   項記載の方法。 ５ 液体が水、C_1〜4アルカノールおよびC_1〜4アル
   カノールの水性溶液よりなる群から選ばれる、前
   記特許請求の範囲第４項記載の方法。 ６ 液体がその中に固体を溶存している、前記特
   許請求の範囲第１項記載の方法。 ７ 液体がその中に基質表面に対するキレート剤
   である化合物を溶存している、前記特許請求の範
   囲第６項記載の方法。 ８ 積層後30秒以内に、光感受性層の長手方向の
   軸に沿つて後方に支持体を曲げることによつて基
   質から光感受性層を離層させることなく光感受性
   層に対る支持体がそれから除去される、前記特許
   請求の範囲第１項記載の方法。 ９ 支持体の曲げ半径が充分に小さくてその結果
   基質の先行端における光感受性層の破壊強度が凌
   馮されて光感受性層をそれから均一にトリミング
   させる、前記特許請求の範囲第８項記載の方法。