JPH0144367B2 - - Google Patents
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- JPH0144367B2 JPH0144367B2 JP57179794A JP17979482A JPH0144367B2 JP H0144367 B2 JPH0144367 B2 JP H0144367B2 JP 57179794 A JP57179794 A JP 57179794A JP 17979482 A JP17979482 A JP 17979482A JP H0144367 B2 JPH0144367 B2 JP H0144367B2
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- Japan
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- pentene
- methyl
- modified poly
- mixed gas
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Description
発明の技術分野
本発明は、混合気体、とくに空気などの酸素含
有混合気体中の特定の成分に対して選択的透過性
を有する混合気体分離膜に関する。さらに詳細に
は、本発明は、酸素分子などの特定の成分に対す
る分離係数およびその透過率などの分離性能に優
れた混合気体分離膜を提供するものである。 発明の技術的背景 最近、液・液分離、固・液分離などの分野では
膜による分離技術の進歩が著しく、海水の淡水
化、廃液処理、濃縮などの分野で工業的規模で実
用化されている。しかし、混合ガスの膜による分
離技術分野では、一般に膜の特定の気体成分に対
する分離係数およびその透過率などの分離性能が
低く、工業的規模で気体分離に採用することは困
難であつた。たとえば、空気などの混合気体から
酸素などの特定の成分を分離するための膜とし
て、ポリ４−メチル−１−ペンテンなどのポリオ
レフインよりなる分離膜（たとえば、特開昭50−
38683号公報、特開昭55−4108号公報、特開昭55
−41809号公報、特開昭56−89803号公報、特開昭
56−92925号公報、特開昭56−92926号公報など）、
ポリ４−メチル−１−ペンテンなどのα−オレフ
イン重合体、ポリジメチルシロキサンおよびポリ
ブテンゴム伸展油よりなる組成物から形成された
分離膜（特公昭49−37639号公報）、ポリ４−メチ
ル−１−ペンテンおよびポリシロキサン・ポリカ
ーボネート共重合体よりなる組成物から形成され
た分離膜（特開昭54−40868号公報）などが提案
されているが、これらのいずれの分離膜も酸素分
子などの特定の成分に対する分離係数およびその
透過率などの分離性能が低く混合気体を効率良く
分離することはできない。したがつて、混合気体
の膜による分離技術の分野では、分離性能の優れ
た膜の開発が要望されている。 本発明者らは、空気などの混合気体中の酸素分
子などの特定の成分に対する分離係数およびその
透過率などの分離性能に優れ、混合気体を効率良
く分離することのできる分離膜の開発について検
討した結果、特定のケイ素含有変性ポリ４−メチ
ル−１−ペンテンから形成された分離膜が前記目
的を達成することを見出し、本発明に到達した。 発明の概要 本発明に係る混合気体樹脂膜は、不飽和エポキ
シド化合物がグラフト重合された不飽和エポキシ
ド変性ポリ４−メチル−１−ペンテンに、アミノ
基を有する有機ケイ素化合物、カルボキシル基を
有する有機ケイ素化合物、水酸基を有する有機ケ
イ素化合物およびヒドロキシアルキル基を有する
有機ケイ素化合物からなる群から選ばれる、上記
の変性ポリ４−メチル−１−ペンテンに導入され
たエポキシドと反応性を示す有機ケイ素化合物を
反応させて得られる、ケイ素含量が50ppm以上で
あるケイ素含有変性ポリ４−メチル−１−ペンテ
ンから形成されることを特徴としている。 発明の具体的説明 以下本発明に係る混合気体分離膜について具体
的に説明する。 本発明に係る混合気体分離膜は、不飽和エポキ
シド化合物がグラフト重合された不飽和エポキシ
ド変性ポリ４−メチル−１−ペンテンに、特定の
基を有する有機ケイ素化合物を反応させることに
より得られたケイ素含有変性ポリ４−メチル−１
−ペンテンからなる。換言すると、本発明で用い
られるケイ素含有変性ポリ４−メチル−１−ペン
テンは、ポリ４−メチル−１−ペンテンにグラフ
ト重合されたエポキシド成分に有機ケイ素化合物
が結合した構造を有している。 上記のようなケイ素含有変性ポリ４−メチル−
１−ペンテンでは、ケイ素含量は50〜107ppm好
ましくは50〜106ppmの量で存在していることが
望ましい。またケイ素含有変性ポリ４−メチル−
１−ペンテンのデカリン溶液中で135℃で測定し
た［η］の値は、通常0.02〜10dl／ｇ、好ましく
は0.45〜５dl／ｇの範囲である。 上記のようなケイ素含有変性ポリ４−メチル−
１−ペンテン重合体は、通常、不飽和エポキシド
化合物がグラフト共重合された不飽和エポキシド
変性ポリ４−メチル−１−ペンテンに、このエポ
キシド成分と反応性を有する有機ケイ素化合物を
反応させる方法などによつて製造することができ
る。 このようなエポキシド成分と反応性を有する有
機ケイ素化合物としては、アミノ基を有する有機
ケイ素化合物、カルボキシル基を有する有機ケイ
素化合物、水酸基を有する有機ケイ素化合物およ
びヒドロキシアルキル基を有する有機ケイ素化合
物からなる群から選ばれる有機ケイ素化合物が用
いられ、さらに具体的には、アミノ変性シリコー
ンオイル［トーレシリコーン(株)製、SF−8417、
信越化学工業(株)製、KF−857など］、アルコール
またはカルビノール変性シリコーンオイル［トー
レシリコーン(株)製、SF−8427、信越化学工業(株)
製、KF−851など］、アミノメチルトリメチルシ
ラン、３−アミノプロピルジメチルエトキシシラ
ン、ｐ−アミノフエノキシジメチルビニルシラ
ン、ブチルアミノメチルトリメチルシラン、３−
アミノプロピルジエトキシメチルシラン、トリメ
チルシラノール、ヒドロキシメチルトリメチルシ
ラン、３−ヒドロキシプロピルトリメチルシラ
ン、トリエチルシラノール、トリフエニルシラノ
ール、ジメチルヒドロキシメチルフエニルシラン
などを例示することができる。 このような不飽和エポキシド化合物をグラフト
共重合させた不飽和エポキシド変性ポリ４−メチ
ル−１−ペンテンと前記有機ケイ素化合物とを反
応させるには、通常、不飽和エポキシド変性ポリ
４−メチル−１−ペンテンと前記有機ケイ素化合
物とを有機溶媒中で必要に応じて触媒の存在下に
接触させる方法が採用される。その際の有機溶媒
としては、両反応基質を溶解させることができ、
かつ反応に不活性な溶媒が使用され、具体的に
は、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン
化炭化水素などが用いられる。また、触媒として
は、不飽和エポキシド化合物および有機ケイ素化
合物の種類によつても異なるが、通常、酸、塩
基、有機過酸化物などが使用される。反応の際の
温度は、通常、60〜300℃の範囲である。 本発明では、ベースとなるポリ４−メチル−１
−ペンテンにグラフト共重合される不飽和エポキ
シド化合物としては、一分子中に重合可能な不飽
和結合およびエポキシ基を、それぞれ１個以上有
する単量体が用いられ、具体的には、 グリシジルアクリレート、 グリシジルメタクリレート、 イタコン酸のモノおよびジグリシジルエステ
ル、 ブテントリカルボン酸のモノ、ジおよびトリグ
リシジルエステル、 シトラコン酸のモノおよびジグリシジルエステ
ル、 エンド−シス−ビシクロ［２，２，１］ヘプト
−５−エン−２，３−ジカルボン酸（商品名ナジ
ツク酸）のモノおよびジグリシジルエステル、 エンド−シス−ビシクロ［２，２，１］ヘプト
−５−エン−２−メチル−２，３−ジカルボン酸
（商品名メチルナジツク酸）のモノおよびジグリ
シジルエステル、 アクリルコハク酸のモノおよびジグリシジルエ
ステル、 ｐ−スチレンカルボン酸のグリシジルエステ
ル、 アクリルグリシジルエーテル、 ２−メチルアクリルグリシジルエーテル、 スチレン−ｐ−グリシジルエーテル、 ｐ−グリシジルスチレン、 ３，４−エポキシ−１−ブテン、 ３，４−エポキシ−３−メチル−１−ブテン、 ３，４−エポキシ−１−ペンテン、 ３，４−エポキシ−３−メチル−１−ペンテ
ン、 ５，６−エポキシ−１−ヘキセンおよび ビニルシクロヘキセンモノオキシド等が用いら
れる。 これらの中では、グリシジルアクリレート、グ
リシジルメタクリレートが好ましい。 このような不飽和エポキシドがグラフトされた
変性ポリ４−メチル−１−ペンテンにおける不飽
和エポキシドのグラフト割合は、ポリ４−メチル
−１−ペンテン100ｇに対して５×10-4〜0.5モ
ル、好ましくは８×10-4〜0.3モルの範囲である
ことが望ましい。 このような不飽和エポキシドで変性された変性
ポリ４−メチル−１−ペンテンは、従来から公知
の方法、たとえばポリ４−メチル−１−ペンテン
と不飽和エポキシド化合物とを溶液状態または溶
融状態で必要に応じてラジカル開始剤の存在下に
反応させる方法により製造される。 本発明に係る混合気体分離膜においてベースと
なるポリ４−メチル−１−ペンテンとしては、４
−メチル−１−ペンテンの単独重合体、あるいは
４−メチル−１−ペンテン成分単位を主成分と
し、かつ他の不飽和重合成分を少量たとえば10モ
ル％以下の割合で含有する共重合体を用いること
ができる。共重合成分としては、エチレン、プロ
ピレン、１−ブテン、１−ペンテン、３−メチル
−１−ブチル、１−ヘキセン、１−オクテン、１
−デセンなどのα−オレフイン成分単位を例示す
ることができる。該ポリ４−メチル−１−ペンテ
ンのデカリン中135℃で測定された［η］は、通
常0.5〜10dl／ｇ、好ましくは１〜10dl／ｇの範
囲である。 本発明で用いられる混合気体分離膜は、膜全体
が上記のようなケイ素含有変性ポリ４−メチル−
１−ペンテンから製膜された均質膜であつてもよ
く、あるいは不飽和エポキシド変性ポリ４−メチ
ル−１−ペンテン膜の少なくとも片面を有機ケイ
素化合物と反応させて膜表面がケイ素含有変性ポ
リ４−メチル−１−ペンテンとされた不均質膜で
あつてもよい。膜厚はとくに限定されないが、通
常、10-2〜500μｍ、好ましくは0.1〜10μｍの範囲
であることが望ましい。 上記のようなケイ素含有変性ポリ４−メチル−
１−ペンテンから均質の混合気体分離膜を作製す
るには、通常の方法、たとえばケイ素含有変性ポ
リ４−メチル−１−ペンテンの溶液から製作する
溶液製膜法、湿式製膜法、該ケイ素含有変性ポリ
４−メチル−１−ペンテン溶融物をプレス法によ
つて製作するプレス製膜法、押出製膜法などの方
法が採用される。また上記のような不均質の混合
気体分離膜を作製するには、不飽和エポキシド変
性ポリ４−メチル−１−ペンテンから膜を作成
し、この膜を有機ケイ素含有化合物が溶解された
溶液に浸漬するなどの方法が採用される。 上記のようなケイ素含有変性ポリ４−メチル−
１−ペンテンから形成された混合気体分離膜は、
前述のごとく空気などの分子状酸素含有気体中の
酸素分子成分に対する分離係数および透過率など
の分離性能が優れているが、該混合気体分離膜が
該ケイ素含有変性ポリ４−メチル−１−ペンテン
から形成された不均質膜である場合には、とくに
分離係数に優れた分離性能を示し、該ケイ素含有
変性ポリ４−メチル−１−ペンテンから形成され
た均質膜である場合には、とくに透過率に優れた
分離性能を示す。 次に、本発明を実施例によつて具体的に説明す
るが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。 実施例 １ ４−メチル−１−ペンテン・１−デセン共重合
体［４−メチル−１−ペンテン（97重量％）、１
−デセン（３重量％）共重合体、極限粘度2.5
dl／ｇ］をベースとして、この共重合体を、145
℃のトルエン溶媒中で触媒としてジ−tert−ブチ
ルパーオキサイドを用いてアリルグリシジルエー
テルと反応させて、アリルグリシジルエーテルグ
ラフト変性ポリマーを合成した。該変性ポリマー
の極限粘度［η］は、1.48dl／ｇであり、アリル
グリシジルエーテルの含量は該変性ポリマー100
ｇ中に0.05モルであつた。 次いでアリルグリシジルエーテルグラフト変性
ポリマー５ｇを100c.c.のシクロヘキセンに60℃で
完全に溶解し、その後アプリケーターを用いてテ
フロン上に40℃で薄膜を作製し、真空乾燥機中で
乾燥した。このようにして得られた薄膜を、アミ
ノ変性シリコーンオイル［信越化学工業(株)製、
KF−857］のイソプロパノール溶液（シリコーン
オイル10重量％）に70℃で浸漬し、反応させ、混
合気体分離膜を調製した。得られた分離膜中のSi
含量は400ppmであつた。 このようにして得られた混合気体分離膜の酸
素、窒素の透過量を、ガス透過度測定装置［スイ
ス国LYSSY社製（Ｌ−100）］を用いて調べた。 測定結果を表１に示す。 実施例 ２ 実施例１において、混合気体分離膜中に含まれ
るSi含量を600ppmとし、膜厚を20μｍとした以外
は、実施例１と同様にした。 結果を表１に示す。 比較例 １ 実施例１において、アリルグリシジルエーテル
グラフト変性ポリマーをそのまま用いて、膜厚を
19μｍとして混合気体分離膜を得た以外は、実施
例１と同様にした。 結果を表１に示す。
有混合気体中の特定の成分に対して選択的透過性
を有する混合気体分離膜に関する。さらに詳細に
は、本発明は、酸素分子などの特定の成分に対す
る分離係数およびその透過率などの分離性能に優
れた混合気体分離膜を提供するものである。 発明の技術的背景 最近、液・液分離、固・液分離などの分野では
膜による分離技術の進歩が著しく、海水の淡水
化、廃液処理、濃縮などの分野で工業的規模で実
用化されている。しかし、混合ガスの膜による分
離技術分野では、一般に膜の特定の気体成分に対
する分離係数およびその透過率などの分離性能が
低く、工業的規模で気体分離に採用することは困
難であつた。たとえば、空気などの混合気体から
酸素などの特定の成分を分離するための膜とし
て、ポリ４−メチル−１−ペンテンなどのポリオ
レフインよりなる分離膜（たとえば、特開昭50−
38683号公報、特開昭55−4108号公報、特開昭55
−41809号公報、特開昭56−89803号公報、特開昭
56−92925号公報、特開昭56−92926号公報など）、
ポリ４−メチル−１−ペンテンなどのα−オレフ
イン重合体、ポリジメチルシロキサンおよびポリ
ブテンゴム伸展油よりなる組成物から形成された
分離膜（特公昭49−37639号公報）、ポリ４−メチ
ル−１−ペンテンおよびポリシロキサン・ポリカ
ーボネート共重合体よりなる組成物から形成され
た分離膜（特開昭54−40868号公報）などが提案
されているが、これらのいずれの分離膜も酸素分
子などの特定の成分に対する分離係数およびその
透過率などの分離性能が低く混合気体を効率良く
分離することはできない。したがつて、混合気体
の膜による分離技術の分野では、分離性能の優れ
た膜の開発が要望されている。 本発明者らは、空気などの混合気体中の酸素分
子などの特定の成分に対する分離係数およびその
透過率などの分離性能に優れ、混合気体を効率良
く分離することのできる分離膜の開発について検
討した結果、特定のケイ素含有変性ポリ４−メチ
ル−１−ペンテンから形成された分離膜が前記目
的を達成することを見出し、本発明に到達した。 発明の概要 本発明に係る混合気体樹脂膜は、不飽和エポキ
シド化合物がグラフト重合された不飽和エポキシ
ド変性ポリ４−メチル−１−ペンテンに、アミノ
基を有する有機ケイ素化合物、カルボキシル基を
有する有機ケイ素化合物、水酸基を有する有機ケ
イ素化合物およびヒドロキシアルキル基を有する
有機ケイ素化合物からなる群から選ばれる、上記
の変性ポリ４−メチル−１−ペンテンに導入され
たエポキシドと反応性を示す有機ケイ素化合物を
反応させて得られる、ケイ素含量が50ppm以上で
あるケイ素含有変性ポリ４−メチル−１−ペンテ
ンから形成されることを特徴としている。 発明の具体的説明 以下本発明に係る混合気体分離膜について具体
的に説明する。 本発明に係る混合気体分離膜は、不飽和エポキ
シド化合物がグラフト重合された不飽和エポキシ
ド変性ポリ４−メチル−１−ペンテンに、特定の
基を有する有機ケイ素化合物を反応させることに
より得られたケイ素含有変性ポリ４−メチル−１
−ペンテンからなる。換言すると、本発明で用い
られるケイ素含有変性ポリ４−メチル−１−ペン
テンは、ポリ４−メチル−１−ペンテンにグラフ
ト重合されたエポキシド成分に有機ケイ素化合物
が結合した構造を有している。 上記のようなケイ素含有変性ポリ４−メチル−
１−ペンテンでは、ケイ素含量は50〜107ppm好
ましくは50〜106ppmの量で存在していることが
望ましい。またケイ素含有変性ポリ４−メチル−
１−ペンテンのデカリン溶液中で135℃で測定し
た［η］の値は、通常0.02〜10dl／ｇ、好ましく
は0.45〜５dl／ｇの範囲である。 上記のようなケイ素含有変性ポリ４−メチル−
１−ペンテン重合体は、通常、不飽和エポキシド
化合物がグラフト共重合された不飽和エポキシド
変性ポリ４−メチル−１−ペンテンに、このエポ
キシド成分と反応性を有する有機ケイ素化合物を
反応させる方法などによつて製造することができ
る。 このようなエポキシド成分と反応性を有する有
機ケイ素化合物としては、アミノ基を有する有機
ケイ素化合物、カルボキシル基を有する有機ケイ
素化合物、水酸基を有する有機ケイ素化合物およ
びヒドロキシアルキル基を有する有機ケイ素化合
物からなる群から選ばれる有機ケイ素化合物が用
いられ、さらに具体的には、アミノ変性シリコー
ンオイル［トーレシリコーン(株)製、SF−8417、
信越化学工業(株)製、KF−857など］、アルコール
またはカルビノール変性シリコーンオイル［トー
レシリコーン(株)製、SF−8427、信越化学工業(株)
製、KF−851など］、アミノメチルトリメチルシ
ラン、３−アミノプロピルジメチルエトキシシラ
ン、ｐ−アミノフエノキシジメチルビニルシラ
ン、ブチルアミノメチルトリメチルシラン、３−
アミノプロピルジエトキシメチルシラン、トリメ
チルシラノール、ヒドロキシメチルトリメチルシ
ラン、３−ヒドロキシプロピルトリメチルシラ
ン、トリエチルシラノール、トリフエニルシラノ
ール、ジメチルヒドロキシメチルフエニルシラン
などを例示することができる。 このような不飽和エポキシド化合物をグラフト
共重合させた不飽和エポキシド変性ポリ４−メチ
ル−１−ペンテンと前記有機ケイ素化合物とを反
応させるには、通常、不飽和エポキシド変性ポリ
４−メチル−１−ペンテンと前記有機ケイ素化合
物とを有機溶媒中で必要に応じて触媒の存在下に
接触させる方法が採用される。その際の有機溶媒
としては、両反応基質を溶解させることができ、
かつ反応に不活性な溶媒が使用され、具体的に
は、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン
化炭化水素などが用いられる。また、触媒として
は、不飽和エポキシド化合物および有機ケイ素化
合物の種類によつても異なるが、通常、酸、塩
基、有機過酸化物などが使用される。反応の際の
温度は、通常、60〜300℃の範囲である。 本発明では、ベースとなるポリ４−メチル−１
−ペンテンにグラフト共重合される不飽和エポキ
シド化合物としては、一分子中に重合可能な不飽
和結合およびエポキシ基を、それぞれ１個以上有
する単量体が用いられ、具体的には、 グリシジルアクリレート、 グリシジルメタクリレート、 イタコン酸のモノおよびジグリシジルエステ
ル、 ブテントリカルボン酸のモノ、ジおよびトリグ
リシジルエステル、 シトラコン酸のモノおよびジグリシジルエステ
ル、 エンド−シス−ビシクロ［２，２，１］ヘプト
−５−エン−２，３−ジカルボン酸（商品名ナジ
ツク酸）のモノおよびジグリシジルエステル、 エンド−シス−ビシクロ［２，２，１］ヘプト
−５−エン−２−メチル−２，３−ジカルボン酸
（商品名メチルナジツク酸）のモノおよびジグリ
シジルエステル、 アクリルコハク酸のモノおよびジグリシジルエ
ステル、 ｐ−スチレンカルボン酸のグリシジルエステ
ル、 アクリルグリシジルエーテル、 ２−メチルアクリルグリシジルエーテル、 スチレン−ｐ−グリシジルエーテル、 ｐ−グリシジルスチレン、 ３，４−エポキシ−１−ブテン、 ３，４−エポキシ−３−メチル−１−ブテン、 ３，４−エポキシ−１−ペンテン、 ３，４−エポキシ−３−メチル−１−ペンテ
ン、 ５，６−エポキシ−１−ヘキセンおよび ビニルシクロヘキセンモノオキシド等が用いら
れる。 これらの中では、グリシジルアクリレート、グ
リシジルメタクリレートが好ましい。 このような不飽和エポキシドがグラフトされた
変性ポリ４−メチル−１−ペンテンにおける不飽
和エポキシドのグラフト割合は、ポリ４−メチル
−１−ペンテン100ｇに対して５×10-4〜0.5モ
ル、好ましくは８×10-4〜0.3モルの範囲である
ことが望ましい。 このような不飽和エポキシドで変性された変性
ポリ４−メチル−１−ペンテンは、従来から公知
の方法、たとえばポリ４−メチル−１−ペンテン
と不飽和エポキシド化合物とを溶液状態または溶
融状態で必要に応じてラジカル開始剤の存在下に
反応させる方法により製造される。 本発明に係る混合気体分離膜においてベースと
なるポリ４−メチル−１−ペンテンとしては、４
−メチル−１−ペンテンの単独重合体、あるいは
４−メチル−１−ペンテン成分単位を主成分と
し、かつ他の不飽和重合成分を少量たとえば10モ
ル％以下の割合で含有する共重合体を用いること
ができる。共重合成分としては、エチレン、プロ
ピレン、１−ブテン、１−ペンテン、３−メチル
−１−ブチル、１−ヘキセン、１−オクテン、１
−デセンなどのα−オレフイン成分単位を例示す
ることができる。該ポリ４−メチル−１−ペンテ
ンのデカリン中135℃で測定された［η］は、通
常0.5〜10dl／ｇ、好ましくは１〜10dl／ｇの範
囲である。 本発明で用いられる混合気体分離膜は、膜全体
が上記のようなケイ素含有変性ポリ４−メチル−
１−ペンテンから製膜された均質膜であつてもよ
く、あるいは不飽和エポキシド変性ポリ４−メチ
ル−１−ペンテン膜の少なくとも片面を有機ケイ
素化合物と反応させて膜表面がケイ素含有変性ポ
リ４−メチル−１−ペンテンとされた不均質膜で
あつてもよい。膜厚はとくに限定されないが、通
常、10-2〜500μｍ、好ましくは0.1〜10μｍの範囲
であることが望ましい。 上記のようなケイ素含有変性ポリ４−メチル−
１−ペンテンから均質の混合気体分離膜を作製す
るには、通常の方法、たとえばケイ素含有変性ポ
リ４−メチル−１−ペンテンの溶液から製作する
溶液製膜法、湿式製膜法、該ケイ素含有変性ポリ
４−メチル−１−ペンテン溶融物をプレス法によ
つて製作するプレス製膜法、押出製膜法などの方
法が採用される。また上記のような不均質の混合
気体分離膜を作製するには、不飽和エポキシド変
性ポリ４−メチル−１−ペンテンから膜を作成
し、この膜を有機ケイ素含有化合物が溶解された
溶液に浸漬するなどの方法が採用される。 上記のようなケイ素含有変性ポリ４−メチル−
１−ペンテンから形成された混合気体分離膜は、
前述のごとく空気などの分子状酸素含有気体中の
酸素分子成分に対する分離係数および透過率など
の分離性能が優れているが、該混合気体分離膜が
該ケイ素含有変性ポリ４−メチル−１−ペンテン
から形成された不均質膜である場合には、とくに
分離係数に優れた分離性能を示し、該ケイ素含有
変性ポリ４−メチル−１−ペンテンから形成され
た均質膜である場合には、とくに透過率に優れた
分離性能を示す。 次に、本発明を実施例によつて具体的に説明す
るが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。 実施例 １ ４−メチル−１−ペンテン・１−デセン共重合
体［４−メチル−１−ペンテン（97重量％）、１
−デセン（３重量％）共重合体、極限粘度2.5
dl／ｇ］をベースとして、この共重合体を、145
℃のトルエン溶媒中で触媒としてジ−tert−ブチ
ルパーオキサイドを用いてアリルグリシジルエー
テルと反応させて、アリルグリシジルエーテルグ
ラフト変性ポリマーを合成した。該変性ポリマー
の極限粘度［η］は、1.48dl／ｇであり、アリル
グリシジルエーテルの含量は該変性ポリマー100
ｇ中に0.05モルであつた。 次いでアリルグリシジルエーテルグラフト変性
ポリマー５ｇを100c.c.のシクロヘキセンに60℃で
完全に溶解し、その後アプリケーターを用いてテ
フロン上に40℃で薄膜を作製し、真空乾燥機中で
乾燥した。このようにして得られた薄膜を、アミ
ノ変性シリコーンオイル［信越化学工業(株)製、
KF−857］のイソプロパノール溶液（シリコーン
オイル10重量％）に70℃で浸漬し、反応させ、混
合気体分離膜を調製した。得られた分離膜中のSi
含量は400ppmであつた。 このようにして得られた混合気体分離膜の酸
素、窒素の透過量を、ガス透過度測定装置［スイ
ス国LYSSY社製（Ｌ−100）］を用いて調べた。 測定結果を表１に示す。 実施例 ２ 実施例１において、混合気体分離膜中に含まれ
るSi含量を600ppmとし、膜厚を20μｍとした以外
は、実施例１と同様にした。 結果を表１に示す。 比較例 １ 実施例１において、アリルグリシジルエーテル
グラフト変性ポリマーをそのまま用いて、膜厚を
19μｍとして混合気体分離膜を得た以外は、実施
例１と同様にした。 結果を表１に示す。
【表】
実施例 ３〜４
実施例１で得られたアリルグリシジルエーテル
グラフト変性ポリ４−メチル−１−ペンテン膜
に、表２に示すような各種ケイ素化合物を反応さ
せてケイ素含有変性ポリ４−メチル−１−ペンテ
ンを調製し、これから実施例１と同様にして混合
気体分離膜を製造した。 得られた混合気体分離膜のO2／N2分離能を測
定して表２に示す。 比較例 ２ 実施例１で用いられたベースポリマーとしての
ポリ４−メチル−１−ペンテンを用いて膜厚51μ
ｍの混合気体分離膜を製造した。 得られた混合気体分離膜のO2／N2分離能を測
定して表２に示す。
グラフト変性ポリ４−メチル−１−ペンテン膜
に、表２に示すような各種ケイ素化合物を反応さ
せてケイ素含有変性ポリ４−メチル−１−ペンテ
ンを調製し、これから実施例１と同様にして混合
気体分離膜を製造した。 得られた混合気体分離膜のO2／N2分離能を測
定して表２に示す。 比較例 ２ 実施例１で用いられたベースポリマーとしての
ポリ４−メチル−１−ペンテンを用いて膜厚51μ
ｍの混合気体分離膜を製造した。 得られた混合気体分離膜のO2／N2分離能を測
定して表２に示す。
【表】
実施例 ５〜８
実施例１において、ベースとしての４−メチル
−１−ペンテン・１−デセン共重合体にアリルグ
リシジルエーテルを表３に示すような量でグラフ
ト変性させ、アリルグリシジルエーテルグラフト
変性ポリマーを合成した。このようにして得られ
たアリルグリシジルエーテルグラフト変性ポリマ
ーを用いて実施例１と同様にして薄膜を作り、ア
ミノ変性シリコーンオイル［信越化学工業(株)製、
KF−857］を反応させて混合気体分離膜を作製
し、ガス透過率を測定した。 結果を表３に示す。
−１−ペンテン・１−デセン共重合体にアリルグ
リシジルエーテルを表３に示すような量でグラフ
ト変性させ、アリルグリシジルエーテルグラフト
変性ポリマーを合成した。このようにして得られ
たアリルグリシジルエーテルグラフト変性ポリマ
ーを用いて実施例１と同様にして薄膜を作り、ア
ミノ変性シリコーンオイル［信越化学工業(株)製、
KF−857］を反応させて混合気体分離膜を作製
し、ガス透過率を測定した。 結果を表３に示す。
Claims (1)
- １ 不飽和エポキシド化合物がグラフト重合され
た不飽和エポキシド変性ポリ４−メチル−１−ペ
ンテンに、アミノ基を有する有機ケイ素化合物、
カルボキシル基を有する有機ケイ素化合物、水酸
基を有する有機ケイ素化合物およびヒドロキシア
ルキル基を有する有機ケイ素化合物からなる群か
ら選ばれる、上記の変性ポリ４−メチル−１−ペ
ンテンに導入されたエポキシドと反応性を示す有
機ケイ素化合物を反応させて得られる、ケイ素含
量が50ppm以上であるケイ素含有変性ポリ４−メ
チル−１−ペンテンから形成される混合気体分離
膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17979482A JPS5969104A (ja) | 1982-10-15 | 1982-10-15 | 混合気体分離膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17979482A JPS5969104A (ja) | 1982-10-15 | 1982-10-15 | 混合気体分離膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5969104A JPS5969104A (ja) | 1984-04-19 |
| JPH0144367B2 true JPH0144367B2 (ja) | 1989-09-27 |
Family
ID=16072006
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17979482A Granted JPS5969104A (ja) | 1982-10-15 | 1982-10-15 | 混合気体分離膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5969104A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0256530B1 (en) * | 1986-08-14 | 1991-04-10 | Toray Industries, Inc. | Gas separation membrane |
| US5073175A (en) * | 1988-08-09 | 1991-12-17 | Air Products And Chemicals, Inc. | Fluorooxidized polymeric membranes for gas separation and process for preparing them |
| CN114713049B (zh) * | 2022-04-22 | 2023-05-23 | 中国乐凯集团有限公司 | 气体分离膜及其制备方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4937639A (ja) * | 1972-08-07 | 1974-04-08 | ||
| JPS5930121B2 (ja) * | 1979-08-17 | 1984-07-25 | 松下電器産業株式会社 | 気体透過膜 |
-
1982
- 1982-10-15 JP JP17979482A patent/JPS5969104A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5969104A (ja) | 1984-04-19 |
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