JPH0145704B2 - - Google Patents
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- JPH0145704B2 JPH0145704B2 JP55057048A JP5704880A JPH0145704B2 JP H0145704 B2 JPH0145704 B2 JP H0145704B2 JP 55057048 A JP55057048 A JP 55057048A JP 5704880 A JP5704880 A JP 5704880A JP H0145704 B2 JPH0145704 B2 JP H0145704B2
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- JP
- Japan
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- tungsten
- anode
- target
- alloy
- rotating anode
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/10—Rotary anodes; Arrangements for rotating anodes; Cooling rotary anodes
- H01J35/105—Cooling of rotating anodes, e.g. heat emitting layers or structures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C27/00—Alloys based on rhenium or a refractory metal not mentioned in groups C22C14/00 or C22C16/00
- C22C27/04—Alloys based on tungsten or molybdenum
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はモリブデン合金から成る支持体とタン
グステン合金から成るターゲツトを有する回転陽
極Ｘ線管用の回転陽極（以下「回転陽極」と称す
る）の表面に熱放射改善層を被着する回転陽極の
製造方法に関するものである。
グステン合金から成るターゲツトを有する回転陽
極Ｘ線管用の回転陽極（以下「回転陽極」と称す
る）の表面に熱放射改善層を被着する回転陽極の
製造方法に関するものである。
本発明はまたこのようにして得られた回転陽極
に関するものである。
に関するものである。
西独実用新案G7807119には、回転陽極の焦点
通路を除く全表面に亘りプラズマ溶射によりタン
グステンの荒い層を被着した回転陽極が記載され
ている。このタングステンの荒い層は熱放射を改
善したことはたしかである。この既知タングステ
ン層の表面荒さは５〜10マイクロメーターであ
る。この既知回転陽極の支持体はチタン、ジルコ
ニウムおよび炭素を含有するモリブデン合金から
成り、ターゲツト層はタングステン−レニウム合
金から成る。
通路を除く全表面に亘りプラズマ溶射によりタン
グステンの荒い層を被着した回転陽極が記載され
ている。このタングステンの荒い層は熱放射を改
善したことはたしかである。この既知タングステ
ン層の表面荒さは５〜10マイクロメーターであ
る。この既知回転陽極の支持体はチタン、ジルコ
ニウムおよび炭素を含有するモリブデン合金から
成り、ターゲツト層はタングステン−レニウム合
金から成る。
従来技術の回転陽極は、タングステン層がＷ−
Re−ターゲツト層に適当に被着せず、この結果
使用中タングステン層の粒子が離れるようにな
り、これがＸ線管の操作に対し逆作用を及ぼす欠
点を有する。
Re−ターゲツト層に適当に被着せず、この結果
使用中タングステン層の粒子が離れるようにな
り、これがＸ線管の操作に対し逆作用を及ぼす欠
点を有する。
本発明の目的は、被着に関する上記問題を軽減
する回転陽極の熱放射特性の新規な改善方法を提
供することにある。
する回転陽極の熱放射特性の新規な改善方法を提
供することにある。
本発明はタングステン層をタングステン合金タ
ーゲツト上に被着する必要はないが、ターゲツト
表面（焦点通路を除く）を粗面化することで足り
るということを認知したことに基づく。
ーゲツト上に被着する必要はないが、ターゲツト
表面（焦点通路を除く）を粗面化することで足り
るということを認知したことに基づく。
本発明において、前記回転陽極の熱放射性を改
善する方法は、回転陽極の焦点通路を除いた全表
面をスチールグリツトでブラスチングすることに
より粗面化し、陽極内に埋め込まれたスチールグ
リツト粒子を酸により除去し、ターゲツトを除く
陽極のほぼ全表面を火炎溶射によりタングステン
の荒い層で被覆することを特徴とする。
善する方法は、回転陽極の焦点通路を除いた全表
面をスチールグリツトでブラスチングすることに
より粗面化し、陽極内に埋め込まれたスチールグ
リツト粒子を酸により除去し、ターゲツトを除く
陽極のほぼ全表面を火炎溶射によりタングステン
の荒い層で被覆することを特徴とする。
スチールグリツトは最適表面荒さを得るために
250〜800マイクロメーターの粒径を有し、タング
ステンの荒い層をプラズマ溶射により被着し、５
〜10マイクロメーターの表面荒さを有するのが好
ましい。250〜800マイクロメーターの粒子の大き
さを有するスチールグリツトを使用すると、一方
ではターゲツトの表面をその熱放射特性が改善さ
れる程度に高度に粗面化し、他方ではタングステ
ン層の適当な被着が得られるように支持体を粗面
化させる。陽極内に埋め込まれたスチールグリツ
ト粒子を除去するために酸処理が必要である。こ
れ等の粒子を除去しない場合には、回転陽極を使
用するＸ線管の操作は、スチールグリツト粒子の
蒸発により引き起されるＸ線管のバルブへの金属
の蒸着が行われる結果として悪影響を受ける。本
発明は、スチールグリツトが酸により除去し得る
のでこのグリツトを使用することに制限する。炭
化珪素、酸化アルミニウムまたはSiO3の如き他
の形の粒子は、容易に除去することができず、Ｘ
線管内に真空を維持する上で問題をおこす。
250〜800マイクロメーターの粒径を有し、タング
ステンの荒い層をプラズマ溶射により被着し、５
〜10マイクロメーターの表面荒さを有するのが好
ましい。250〜800マイクロメーターの粒子の大き
さを有するスチールグリツトを使用すると、一方
ではターゲツトの表面をその熱放射特性が改善さ
れる程度に高度に粗面化し、他方ではタングステ
ン層の適当な被着が得られるように支持体を粗面
化させる。陽極内に埋め込まれたスチールグリツ
ト粒子を除去するために酸処理が必要である。こ
れ等の粒子を除去しない場合には、回転陽極を使
用するＸ線管の操作は、スチールグリツト粒子の
蒸発により引き起されるＸ線管のバルブへの金属
の蒸着が行われる結果として悪影響を受ける。本
発明は、スチールグリツトが酸により除去し得る
のでこのグリツトを使用することに制限する。炭
化珪素、酸化アルミニウムまたはSiO3の如き他
の形の粒子は、容易に除去することができず、Ｘ
線管内に真空を維持する上で問題をおこす。
プラズマ溶射はタングステンを火炎溶射する最
も適当な方法であることを確かめた。
も適当な方法であることを確かめた。
本発明の方法は、チタン、ジルコニウムおよび
炭素を含むモリブデン基合金から成る支持体と、
タングステン−レニウム合金から成るターゲツト
を有するそれ自体既知の回転陽極の熱放射特性を
改善するのに特に適する。回転陽極はまた支持体
およびターゲツトの間に設けたタングステン層の
如き１個または２個以上の層を備えることができ
る。
炭素を含むモリブデン基合金から成る支持体と、
タングステン−レニウム合金から成るターゲツト
を有するそれ自体既知の回転陽極の熱放射特性を
改善するのに特に適する。回転陽極はまた支持体
およびターゲツトの間に設けたタングステン層の
如き１個または２個以上の層を備えることができ
る。
西独特許公告第207515号明細書からＸ線回転陽
極の熱放射特性を、例えばサンドブラスチングに
より表面を粗面化することによるか、或いは優れ
た熱放射特性を有する層を設けることにより、改
善することが理論的には可能であるはずであると
いうことはわかる。然し該明細書にはタングステ
ン回転陽極のサンドブラスチングは有効な結果を
提供しないと記載されている。本発明に関する実
験を行つている間、モリブデン合金から成る支持
体を有する回転陽極の底部の粗面化は熱放射を改
善しないようであつた。このことは恐らく回転陽
極をＸ線管に取付ける少し前約1500〜1700℃の温
度でガス発生するということに関連する。上記温
度で、荒くしたモリブデン合金表面は再び平滑に
なるが、ターゲツトのタングステン組面は租面の
ままである。
極の熱放射特性を、例えばサンドブラスチングに
より表面を粗面化することによるか、或いは優れ
た熱放射特性を有する層を設けることにより、改
善することが理論的には可能であるはずであると
いうことはわかる。然し該明細書にはタングステ
ン回転陽極のサンドブラスチングは有効な結果を
提供しないと記載されている。本発明に関する実
験を行つている間、モリブデン合金から成る支持
体を有する回転陽極の底部の粗面化は熱放射を改
善しないようであつた。このことは恐らく回転陽
極をＸ線管に取付ける少し前約1500〜1700℃の温
度でガス発生するということに関連する。上記温
度で、荒くしたモリブデン合金表面は再び平滑に
なるが、ターゲツトのタングステン組面は租面の
ままである。
更にサンドブラスチングは適当でなく、回転電
極内に埋め込まれた砂粒子は除去することができ
ないかまたは除去することができても極めて困難
である。然し砂粒子の除去はＸ線管内に適当な真
空を維持するために必要である。
極内に埋め込まれた砂粒子は除去することができ
ないかまたは除去することができても極めて困難
である。然し砂粒子の除去はＸ線管内に適当な真
空を維持するために必要である。
次に本発明を図面につき説明する。
添付図面は本発明の一例の回転陽極の横断面図
である。
である。
図示する陽極は、本発明の方法により熱放射特
性が改善されている。図面中１はモリブデン合金
から成る支持体を示す。適当なモリブデン合金は
例えば合金元素としてチタン、ジルコニウムおよ
び炭素またはタングステンを含有する合金であ
る。２はタングステン合金から成るターゲツトを
示す。適当なタングステン合金は、例えばレニウ
ムまたはレニウムと他の元素を含有する合金であ
る。３はタングステンの荒い層を示し、この層は
例えばプラズマ溶射またはフレームアーク溶射の
如き火炎溶射により設けられた。焦点通路を４で
示し、ブツシユを５で示す。焦点通路４を除くタ
ーゲツト２の表面はスチールグリツトブラスチン
グの結果として荒い。ターゲツトは図面に示すよ
りも陽極表面の狭い部分を被覆する場合がある
が、焦点通路を含まなくてはならないことは勿論
である。
性が改善されている。図面中１はモリブデン合金
から成る支持体を示す。適当なモリブデン合金は
例えば合金元素としてチタン、ジルコニウムおよ
び炭素またはタングステンを含有する合金であ
る。２はタングステン合金から成るターゲツトを
示す。適当なタングステン合金は、例えばレニウ
ムまたはレニウムと他の元素を含有する合金であ
る。３はタングステンの荒い層を示し、この層は
例えばプラズマ溶射またはフレームアーク溶射の
如き火炎溶射により設けられた。焦点通路を４で
示し、ブツシユを５で示す。焦点通路４を除くタ
ーゲツト２の表面はスチールグリツトブラスチン
グの結果として荒い。ターゲツトは図面に示すよ
りも陽極表面の狭い部分を被覆する場合がある
が、焦点通路を含まなくてはならないことは勿論
である。
本発明の方法は以下に示す如くして行う。モリ
ブデン合金（例えば0.4〜0.5重量％のTi、0.06〜
0.12重量％のZrおよび0.01〜0.04重量％のＣを含
む）から成る支持体とタングステン合金（例えば
3.0〜5.5重量％のレニウムを含む）から成るター
ゲツトを有する回転陽極を、焦点通路を除くその
全表面に亘り粒子の大きさが250〜800マイクロメ
ーターのスチールグリツトでブラスチングするこ
とにより荒くする。ブラスチング中マスクにより
焦点通路を保護する。ホイール・アブレータより
市販されている。No.GH50形のスチールグリツト
を用いて満足な結果が得られた。陽極に埋め込ま
れたスチールグリツト粒子は、約18％塩化水素溶
液（水中の重量％）中で溶解することにより除去
する。然る後タングステン層（好ましくは20〜
200マイクロメーターの厚さ）をブラズマ溶射に
より底部に被着する。回転陽極は、Ｘ線管に取付
ける少し前に脱ガスする（例えば1600℃で1/2〜
２時間）。
ブデン合金（例えば0.4〜0.5重量％のTi、0.06〜
0.12重量％のZrおよび0.01〜0.04重量％のＣを含
む）から成る支持体とタングステン合金（例えば
3.0〜5.5重量％のレニウムを含む）から成るター
ゲツトを有する回転陽極を、焦点通路を除くその
全表面に亘り粒子の大きさが250〜800マイクロメ
ーターのスチールグリツトでブラスチングするこ
とにより荒くする。ブラスチング中マスクにより
焦点通路を保護する。ホイール・アブレータより
市販されている。No.GH50形のスチールグリツト
を用いて満足な結果が得られた。陽極に埋め込ま
れたスチールグリツト粒子は、約18％塩化水素溶
液（水中の重量％）中で溶解することにより除去
する。然る後タングステン層（好ましくは20〜
200マイクロメーターの厚さ）をブラズマ溶射に
より底部に被着する。回転陽極は、Ｘ線管に取付
ける少し前に脱ガスする（例えば1600℃で1/2〜
２時間）。
このようにして得られた回転陽極と火炎溶射タ
ングステン層の接着に関しては何等の問題はなく
（タングステン層はターゲツトに被着していない
ので）、陽極は前記西独実用新案G7807119号によ
り製造される回転陽極の熱放射特性と同等の熱放
射特性を有する。
ングステン層の接着に関しては何等の問題はなく
（タングステン層はターゲツトに被着していない
ので）、陽極は前記西独実用新案G7807119号によ
り製造される回転陽極の熱放射特性と同等の熱放
射特性を有する。
添付図面は本発明の一例の回転電極の横断面図
である。 １……支持体、２……ターゲツト、３……タン
グステンの荒い層、４……焦点通路、５……ブツ
シユ。
である。 １……支持体、２……ターゲツト、３……タン
グステンの荒い層、４……焦点通路、５……ブツ
シユ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ モリブデン合金から成る支持体およびタング
ステン合金から成るターゲツトを有するＸ線管用
の回転陽極において、該回転陽極は焦点通路を除
いてスチールグリツト粗面化した表面を有し、該
表面はターゲツトを除いて荒いタングステンの層
を備えたことを特徴とする回転陽極。 ２ モリブデン合金から成る支持体とタングステ
ン合金から成るターゲツトを有する熱放射性の改
善されたＸ線管用の回転陽極を製造するに当り、
回転陽極の焦点通路を除くほぼ全面をスチールグ
リツトでブラスチングすることにより粗面化し、
陽極内に埋め込まれたスチールグリツト粒子を酸
により除去し、ターゲツトを除く陽極のほぼ全面
を火炎溶射によりタングステンの荒い層で被覆す
ることを特徴とする回転陽極の製造方法。 ３ スチールグリツトの粒子の大きさが250〜800
マイクロメーターで、タングステンの荒い層をプ
ラズマ溶射により被着し、表面が５〜10マイクロ
メーターの荒さを有する特許請求の範囲第２項記
載の方法。 ４ 支持体がチタン、ジルコニウムおよび炭素を
含むモリブデン基合金から成り、ターゲツトがタ
ングステン−レニウム合金から成る特許請求の範
囲第２項または第３項記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL7903389A NL7903389A (nl) | 1979-05-01 | 1979-05-01 | Werkwijze voor het verbeteren van de warmte-afstra- lingseigenschappen van een roentgendraaianode en zo ver-kregen draaianode. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS55148356A JPS55148356A (en) | 1980-11-18 |
| JPH0145704B2 true JPH0145704B2 (ja) | 1989-10-04 |
Family
ID=19833074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5704880A Granted JPS55148356A (en) | 1979-05-01 | 1980-04-28 | Method of improving heat emission of rotary anode for xxray tube |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4320323A (ja) |
| EP (1) | EP0018685B1 (ja) |
| JP (1) | JPS55148356A (ja) |
| AT (1) | ATE337T1 (ja) |
| DE (1) | DE3060045D1 (ja) |
| NL (1) | NL7903389A (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL8300251A (nl) * | 1983-01-25 | 1984-08-16 | Philips Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een draaianode voor roentgenbuizen en zo verkregen anode. |
| GB2170951B (en) * | 1984-06-08 | 1988-06-08 | Maiya Feodosievna Boyarina | Rotating anode for x-ray tube and x-ray tube with that anode |
| AT381805B (de) * | 1984-07-16 | 1986-12-10 | Plansee Metallwerk | Roentgendrehanode mit oberflaechenbeschichtung |
| NL8402828A (nl) * | 1984-09-14 | 1986-04-01 | Philips Nv | Werkwijze voor de vervaardiging van een roentgendraaianode en roentgendraaianode vervaardigd volgens de werkwijze. |
| US4943989A (en) * | 1988-08-02 | 1990-07-24 | General Electric Company | X-ray tube with liquid cooled heat receptor |
| US5008918A (en) * | 1989-11-13 | 1991-04-16 | General Electric Company | Bonding materials and process for anode target in an x-ray tube |
| DE4443074C1 (de) * | 1994-12-03 | 1995-12-14 | Winter & Sohn Ernst | Verfahren zur Herstellung von abrasiv belegten Einkegelscheiben, insbesondere Abrichtscheiben |
| US5629970A (en) * | 1996-01-11 | 1997-05-13 | General Electric Company | Emissivity enhanced x-ray target |
| US6863930B2 (en) | 2002-09-06 | 2005-03-08 | Delphi Technologies, Inc. | Refractory metal mask and methods for coating an article and forming a sensor |
| DE102005003445B4 (de) * | 2005-01-21 | 2009-06-04 | H.C. Starck Hermsdorf Gmbh | Metallsubstrat-Werkstoff für die Anodenteller von Drehanodenröntgenröhren, Verfahren zur Herstellung eines solchen Werkstoffes sowie Verfahren zur Herstellung eines Anodentellers unter Verwendung eines solchen Werkstoffes |
| US9159523B2 (en) | 2007-08-28 | 2015-10-13 | General Electric Company | Tungsten oxide coated X-ray tube frame and anode assembly |
| US20090060139A1 (en) * | 2007-08-28 | 2009-03-05 | Subraya Madhusudhana T | Tungsten coated x-ray tube frame and anode assembly |
| CN111415852B (zh) * | 2020-05-06 | 2024-02-09 | 上海联影医疗科技股份有限公司 | X射线管的阳极组件、x射线管及医疗成像设备 |
| US12183536B2 (en) * | 2021-12-21 | 2024-12-31 | GE Precision Healthcare LLC | X-ray cathode focusing element |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2376219A (en) * | 1944-01-28 | 1945-05-15 | Gen Electric | Fabrication of quartz resonators |
| DE1050457B (de) * | 1956-03-15 | 1959-02-12 | Compagnie Generale De Radiologie, Paris | Röntgenröhre mit vorzugsweise rotieren der hochtemperaturfester Anode |
| FR73772E (fr) * | 1958-06-24 | 1960-09-05 | Radiologie Cie Gle | Amélioration des tubes radiogènes |
| US3188776A (en) * | 1962-08-20 | 1965-06-15 | Wheelabrator Corp | Surface treatment of steel |
| NL295542A (ja) * | 1963-07-19 | 1900-01-01 | ||
| US3400010A (en) * | 1964-09-28 | 1968-09-03 | Standard Internat Corp | Method of making a composite metal article |
| US3731128A (en) * | 1972-03-08 | 1973-05-01 | Siemens Ag | X-ray tube with rotary anodes |
| US3753021A (en) * | 1972-04-03 | 1973-08-14 | Machlett Lab Inc | X-ray tube anode target |
| JPS5120763Y2 (ja) * | 1972-04-14 | 1976-05-29 | ||
| US4038786A (en) * | 1974-09-27 | 1977-08-02 | Lockheed Aircraft Corporation | Sandblasting with pellets of material capable of sublimation |
| DE7807119U1 (de) | 1978-03-09 | 1978-06-29 | N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken, Eindhoven (Niederlande) | Geschichtete Röntgendrehanode mit einer die Wärmeabstrahlung verbessernden Schicht |
-
1979
- 1979-05-01 NL NL7903389A patent/NL7903389A/nl not_active Application Discontinuation
-
1980
- 1980-03-31 US US06/135,964 patent/US4320323A/en not_active Expired - Lifetime
- 1980-04-23 DE DE8080200370T patent/DE3060045D1/de not_active Expired
- 1980-04-23 EP EP80200370A patent/EP0018685B1/en not_active Expired
- 1980-04-23 AT AT80200370T patent/ATE337T1/de not_active IP Right Cessation
- 1980-04-28 JP JP5704880A patent/JPS55148356A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ATE337T1 (de) | 1981-11-15 |
| EP0018685A1 (en) | 1980-11-12 |
| EP0018685B1 (en) | 1981-10-21 |
| JPS55148356A (en) | 1980-11-18 |
| US4320323A (en) | 1982-03-16 |
| NL7903389A (nl) | 1980-11-04 |
| DE3060045D1 (en) | 1981-12-24 |
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