【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]
産業上の利用分野
本発明は、半導体の製造に使用する薬剤を充填
収納する容器のシール部材に関するものである。
従来の技術
集積回路、トランジスターなどの微細加工技術
の進歩は目ざましいものがあり、その製造に使用
されるレジストおよび現像液、リンス液など有機
薬剤の品質管理に対する要求は、とみに厳しくな
つてきている。特に製品歩留に直接影響する微細
粒子、異物の混入は禁忌であり、そのため該液は
通常精密濾過され、清浄な環境(クリーンルーム
内)下で清浄な容器に充填されて製品となる。一
般には、その容器としてポリエチレンなどのプラ
スチツク製の内蓋でシールされたガラス製のび
ん、或いは、NBR、シリコーンゴムなどのゴム
製のパツキングでシールされた防食性の金属容器
が用いられている。
ところが、かかる容器での保存中に、折角精密
濾過してピンホール・フリーにした内容物に微細
粒子や異物が混入し、半導体の製造に使用した
際、レジスト塗布工程においてピンホールが発生
し、パターン形成時に欠損部を生ずるという問題
がある。
本発明者らはかかる問題点を解決すべく、先
ず、微細粒子や異物の混入原因を調査した。その
結果、容器のシール部材として使用しているプラ
スチツク製の内蓋、或いは、ゴム製パツキングが
内容物の薬剤により犯され、該シール部材より溶
出した高沸点化合物が微細粒子や異物の原因とな
つていることを究明した。
発明が解決しようとする問題点
本発明者らは、現在賞用されているシール部材
のかかる欠点を解決すべく鋭意検討した結果、容
器接液部の部材としてフツ素含有重合体を使用す
ることにより、かかる問題を解決できることを見
い出し、本発明を完成するに到つた。
問題点を解決するための手段
本発明の目的は、半導体用薬剤の容器保存時に
おける微細粒子や異物の混入を防止し、レジスト
塗布工程におけるピンホール発生を低減すること
にある。
本発明のこの目的は、半導体用薬剤収納容器の
接液部部材としてフツ素含有重合体を使用するこ
とにより達成される。
本発明において使用されるフツ素含有重合体は
特に限定されず、いわゆるフツ素樹脂、フツ素ゴ
ムであれば使用することができる。例示するなら
ば、フツ化ビニリデンと例えばヘキサフルオロプ
ロペン、クロロトリフルオロエチレン、ペンタフ
ルオロプロペン、テトラフロロエチレン、パーフ
ロロアルコキシフロロエチレンなどの共重合体が
挙げられる。
本発明で使用する薬剤の収納容器としては、現
在賞用されているガラス製びん、防食性の金属容
器の何れでもよく特に限定されない。
本発明が適用される半導体用薬剤は、ヘキサメ
チルジシラザン、シランカツプリング剤、チタネ
ートカツプリング剤などのレジスト定着剤であ
る。
実施例
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に
説明する。
実施例 1
クリーンルーム内において精密洗浄したガラス
製びんに、0.22ミクロンのフイルターで精密濾過
したヘキサメチルジシラザン(以下、HMDSと
略称する)、ポリイソプレン系ネガ型フオトレジ
スト(商品名OMR83(東京応化工業社製))、ノ
ボラツク系ポジ型フオトレジスト(商品名OFPR
―800 東京応化工業社製)を各々充填し、表―
1に示す材質の内蓋でシール密栓し、常温で1日
1回1分間横倒しにし、1ケ月間保存し、レジス
ト塗布時におけるピンホールを測定した。結果を
表−2に示す。
INDUSTRIAL APPLICATION FIELD The present invention relates to a sealing member for a container filled and stored with a chemical used in the manufacture of semiconductors. Conventional Technology Advances in microfabrication technology for integrated circuits, transistors, etc. have been remarkable, and requirements for quality control of organic chemicals such as resists, developers, and rinse solutions used in their manufacture are becoming increasingly strict. In particular, the contamination of fine particles and foreign matter that directly affects product yield is contraindicated, so the liquid is usually microfiltered and filled into a clean container in a clean environment (in a clean room) to become a product. Generally, the container used is a glass bottle sealed with an inner lid made of plastic such as polyethylene, or a corrosion-resistant metal container sealed with rubber packing such as NBR or silicone rubber. However, during storage in such a container, fine particles and foreign matter get mixed into the contents, which have been carefully filtered to be pinhole-free, and when used for semiconductor manufacturing, pinholes occur during the resist coating process. There is a problem in that defects occur during pattern formation. In order to solve this problem, the present inventors first investigated the cause of the contamination of fine particles and foreign matter. As a result, the plastic inner lid or rubber packing used as a sealing member of the container was damaged by the drug contents, and high-boiling compounds eluted from the sealing member became the cause of fine particles and foreign matter. I found out that there is. Problems to be Solved by the Invention As a result of intensive study in order to solve the drawbacks of the sealing members currently in use, the present inventors have discovered the use of a fluorine-containing polymer as a member of the liquid-contacting part of the container. The inventors have discovered that this problem can be solved, and have completed the present invention. Means for Solving the Problems An object of the present invention is to prevent the contamination of fine particles and foreign matter when semiconductor chemicals are stored in containers, and to reduce the occurrence of pinholes in the resist coating process. This object of the present invention is achieved by using a fluorine-containing polymer as a liquid contact member of a semiconductor drug storage container. The fluorine-containing polymer used in the present invention is not particularly limited, and any so-called fluorine resin or fluorine rubber can be used. Examples include copolymers of vinylidene fluoride and hexafluoropropene, chlorotrifluoroethylene, pentafluoropropene, tetrafluoroethylene, perfluoroalkoxyfluoroethylene, and the like. The container for storing the drug used in the present invention is not particularly limited, and may be either a currently used glass bottle or a corrosion-resistant metal container. The semiconductor chemicals to which the present invention is applied are resist fixing agents such as hexamethyldisilazane, silane coupling agents, and titanate coupling agents. EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to Examples below. Example 1 Hexamethyldisilazane (hereinafter abbreviated as HMDS), which had been precisely filtered with a 0.22 micron filter, and polyisoprene-based negative photoresist (trade name OMR83 (Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) were placed in a glass bottle that had been precisely cleaned in a clean room. )), novolak positive photoresist (product name: OFPR)
―800 manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) respectively, and fill them with
The container was sealed tightly with an inner lid made of the material shown in 1. The container was placed on its side for 1 minute once a day at room temperature, and stored for 1 month. Pinholes during resist application were measured. The results are shown in Table-2.
【表】
カーボン重合体
ピンホール測定法
1 HMDSピンホール測定
常法により、厚さ4000Åの酸化シリコン層を
有するシリコンウエハにHMDSを回転塗布し
た後、ポジ型フオトレジスト(商品名
OFPR800 東京応化工業社製)を該シリコン
ウエハ上に回転塗布し、温度90℃で20分間ベー
クし、膜厚1μmのフオトレジスト皮膜を形成し
た。
表面欠陥検査装置(サーフエススキヤン
Tencor社製)にてピンポール数を測定した。
単位面積(1cm2)当りのピンポール数を5回測
定し、その平均値をもつてピンポール数とし
た。
2 フオトレジストピンホール数
常法により、厚さ4000Åの酸化シリコン層を
有するシリコンウエハに回転塗布し、温度85℃
で20分間プリベークし、膜厚1μmのフオトレジ
スト皮膜を形成した以外は、HMDSピンホー
ル測定の場合と全く同様に行つた。[Table] Carbon polymer pinhole measurement method 1 HMDS pinhole measurement After spin-coating HMDS on a silicon wafer having a silicon oxide layer with a thickness of 4000 Å by a conventional method, positive photoresist (product name
OFPR800 (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) was spin-coated onto the silicon wafer and baked at a temperature of 90°C for 20 minutes to form a photoresist film with a thickness of 1 μm. Surface defect inspection equipment (Surf S Scan)
The number of pin poles was measured using a Tencor Co., Ltd.).
The number of pinpoles per unit area (1 cm 2 ) was measured five times, and the average value was taken as the number of pinpoles. 2 Number of photoresist pinholes Spin coating on a silicon wafer with a 4000 Å thick silicon oxide layer using a conventional method, and at a temperature of 85°C.
The measurement was carried out in exactly the same manner as in the case of HMDS pinhole measurement, except that a photoresist film with a thickness of 1 μm was formed by prebaking for 20 minutes.
【表】
発明の効果
上記の本発明例と比較例に示されるように、本
発明によれば、長時間に亙り、充填当初と変わら
ない状態で半導体用薬剤を安定して保存すること
ができるので、半導体用薬剤の品質管理がきわめ
て容易となり、半導体の製造に対し有用な発明と
いうことができる。[Table] Effects of the Invention As shown in the above-mentioned examples of the present invention and comparative examples, according to the present invention, semiconductor chemicals can be stably stored for a long period of time in the same state as when they were filled. Therefore, quality control of chemicals for semiconductors becomes extremely easy, and this invention can be said to be useful for semiconductor manufacturing.