JPH01500112A - アリール‐ジエーテル - Google Patents
アリール‐ジエーテルInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
アリール−ジエーテル
本発明はビスフェノール化合物の塩から誘導されたアリール−ジエーテル類、及
びそれからポリエーテルイミド類を製造する方法に関する。特に本発明は式:の
アリール−ジエーテル類、及びこれらのアリール−ジエーテル類を酸化しそして
酸化生成物を存機ジアミンとともに重合させることによってポリエーテルイミド
類を製造する方法に関するものである。ポリエーテルイミド類は高温に耐性であ
るフィルム及び線材被覆用エナメルの製造に有用である。式Iの二価の基Rは一
般式
H3
R′
一〇−1及び−N−の二価の基からなる群の一員であり、mは0又は1であり、
yは1〜5の整数でありそしてR′は1〜5個の炭素原子をもつアルキル基から
選ばれる)の有機基である。
式Iに包含されるアリール−ジエーテル類の[:Lい一部はRが
H3
である型のものである。この群の好ましいアリールジエーテル類の範囲内には次
式のアリール−ジエーテル類が包含される。
ハロゲン什キシレン^ビ又フェノールの性、Ll−JJjflrT)塩のような
銅触媒の存在下で好ましくは100℃以上の温度で反応させる。一般に反応剤は
等モル割合で使用するのが好ましいが、いずれか一方の反応剤を過剰に使用して
もに参考文献として引用する米国特許第4,492.806号明細書に記載され
ている。典型的なビスフェノール化合物はつぎのちのを包含する。
2.2−ビス−(2−ヒドロキシフェニル)プロパン:2.4′−ジヒドロキシ
ジフェニルメタン;ビス−(2−ヒドロキシフェニル)−メタン;2.2−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパン、以下“ビスフェノールA2又は”B
PA”と称する;1.1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−エタン:1.1
−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパン;2.2−ビス−(4−ヒドロ
キシフェニル)−ペンタン:3.3−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−ペン
タン;4.4′−ジヒドロキシビフェニル:
4.4′−ジヒドロキシ−3,3’ 、5.5’ −テトラメチルビフェニル;
2.4′−ジヒドロキシベンゾフェノン;4.4′−ジヒドロキシジフェニルス
ルホン;2.4′−ジヒドロキシジフェニルスルホン;4.4′−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホキシド:4.4′−ジヒドロキシジフェニルスルフィド:等。
式Iのアリール−ジエーテル類を使用してポリエーテルイミド類を製造する方法
も本発明の範囲内に包含される。
末端アリール基上のメチル基は酸化されてテトラ酸又は芳香族(エーテル無水物
)を形成し得る。式■の好ましいアリール−ジエーテルから得られるテトラ酸の
一例は式Vによって表わされる。式Iのアリール−ジエーテル類の酸化によって
得られる芳香族ビス(エーテル無水物)は式■(式中、Rは前記定義したとおり
である)によって表わされる。
末端アリール基の酸化は当業者に既知のアルアルキル酸化法によって達成し得る
。か−る酸化法はマンガン又はコバルトのような金属イオン触媒の存在下におい
て酸素を使用する反応を包含する。Hayの米国特許第3,139.452号明
細書にはアルアルキル化合物のアルキル基と酸素とをコバルト、臭素及びカルボ
ン酸から本質的になる触媒の存在下、80℃以上の温度で液相反応させる方法が
開示されている。このHayの特許明細書の内容をニーに参考とされたい。この
酸化反応によって、Rがビスフェノール−Aから誘導される好ましい種類におけ
るごとく、特に二価有機基Rがその芳香族核に結合されたアルキル基を有する場
合に、生成物の混合物を得ることができる。酸化はこれらのアルキル基上にも同
様に生起し得る。
酸化された形のアリール−ジエーテル類は式%式%
[式中、R1は(a)6〜20個の炭素原子をもつ芳香族炭化水素基及びそれら
のハロゲン化誘導体、(b)2〜20個の炭素原子をもつアルキレン基及びシク
ロアルキレン基、及び(c)式
(式中、Z及びmは前記定義したとおりである)によって前記に定義したRの範
囲内に包含される二値の基、からなる群から選んだ二価有機基である]の有機ジ
アミンとの反応によって重合されてポリエーテルイミドを与え得る。式■の有機
ジアミンの範囲内に包含される化合物の例はっぎのごとくである。
m−フェニレンジアミン;
p−フェニレンジアミン;
4.4′−ジアミノジフェニルプロパン;4.4′−ジアミノジフェニルメタン
;ベンチジン;
4.4′−ジアミノジフェニルスルフィド;4.4′−ジアミノジフェニルスル
ホン;4.4′−ジアミノジフェニルエーテル;1.5−ジアミノナフタリン;
3.3′−ジメチルベンチジン;
3.3′−ジメトキシベンチジン;
2.4−ジアミノトルエン;2.6−ジアミツトルエン;2.4−ビス(β−ア
ミノ−t−ブチル)トルエン;ビス(p−β−メチル−〇−アミノペンチル)ベ
ンゼン;1.3−ジアミノ−4−イソプロピルベンゼン;1.2−ビス(3−ア
ミノプロポキシ)エタン;m−キシリレンジアミン;
p−キシリレンジアミン;
ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン;デカメチレンジアミン;
3−メチルへブタメチレンジアミン;
4.4−ジメチルへブタメチレンジアミン;2.11−ドデカンジアミン;
2.2−ジメチルプロピレンジアミン:オクタメチレンジアミン;
3−メトキシヘキサメチレンジアミン;2.5−ジメチルへキサメチレンジアミ
ン;2.5−ジメチルへブタメチレンジアミン;3−メチルへブタメチレンジア
ミン:
5−メチルノナメチレンジアミン:
1.4−シクロヘキサンジアミン。
1,12−オクタデカンジアミン;
ビス(3−アミノプロピル)スルフィド;N−メチル−ビス(3−アミノプロピ
ル)アミン;ヘキサメチレンジアミン;
ヘプタメチレンジアミン;2,4−ジアミノトルエン;ノナメチレンジアミン;
2.6−ジアミツトルエン:ビス−(3−アミノプロピル)テトラメチルジシロ
キサン;等。
酸化されたアリール−ジエーテル及びジアミンの重合は溶剤を使用し又は使用す
ることなしに達成され得る。有機ジアミンとの溶融重合は約200℃以上でかつ
好ましくは350℃より低い温度で達成され得る。タケコシ(Takek。
shl )は特にこ〜に参考文献として引用する米国特許第3゜833.546
号明細書において適当な溶融重合方法を記載している。
溶液重合はより低い温度を使用し得るので溶融重合よりもしばしばより好都合で
ある。非酸性の窒素及び/又は酸素含有溶剤であるジメチルスルホキシド、N、
N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、N、N−ジメチルホルムア
ミド、N、N−ジエチルホルムアミド等のごとき両性非プロトン性溶剤が好まし
い。用語“両性非プロトン性溶剤”はニーに記載した反応を妨害し得る活性プロ
トンをもたない任意の有機溶剤を意味することを意図するものである。両性非プ
ロトン溶剤とベンゼン、トルエン、キシレン及び塩化メチレンのような他の不活
性有機溶剤の混合物も使用し得る。溶液重合のためには約100℃以上の温度が
好ましく、300℃より低い温度がもつとも好ましい。
当業者に本発明をよりよ〈実施せしめるために、つぎの実施例を例証の目的で示
すが、これらは本発明を限定するものではない。すべての部は重量によるもので
ある。
実 施 例 I
N−メチル−2−ピロリドン中のビスフェノール−Aのジカリウム塩(0,76
g、2.5ミリモル)、4−ブロム−オルト−キシレン(1,11mg、6.0
ミリモル)及び塩化銅塩CuC1(37,1mg、0. 38ミリモル)の溶液
を油浴中に浸漬したフラスコ中で撹拌しつつ約175℃に3時間加熱した。冷却
した混合物をエーテル(約60m1)及び水(約30m1)で稀釈しそして分液
ロートに移した。
この稀釈溶液をHCf (30ml、1. ON)で洗滌し、ついでNaOH(
30ml、I N)で及びその後に食塩水で洗滌した。
このエーテル性溶液を無水Ca5Oaのコーンに通ずることによって乾燥しそし
て減圧蒸留によってエーテルを除去した。
残渣(1,09g)を5%酢酸エチル/ヘキサンで稀釈されたシリコンゲル75
g上でクロマトグラフ処理して式Iのアリール−ジエーテル776mg(収率7
1.2%)を得た。CDCfz中でのプロトンNMRは6.90(多重線)、2
.05(−重線)及び1.51(−重線) ppmにピークを与えた。強度はそ
れぞれ14.12及び6でありだ。2.05pp11+及び1.51ppmにお
けるピークはそれぞれメチル−芳香族核及びメチーgam核に合致した。
実 施 例 ■
N−メチル−2−ピロリドン(約100m1)中のビスフェノール−Aのジナト
リウム塩(75ミリモル)、4−ブロム−オルト−キシレン(80ミリモル)及
び塩化銅塩ムCj(2,5モル96)の溶液を油浴中で撹拌しつつ約150℃に
約2〜4時間加熱した。冷却した混合物をエーテル(約60m1)で稀釈しそし
て分液ロートに移し、そこで有機相を水(30ml)、HCf (1,ON、3
0m1)及び食塩水で洗滌した。エーテル抽出物を無水Ca So 4のコーン
に通ずることによって乾燥した。減圧蒸留によってエーテルを除去しモして残渣
をカラムクロマトグラフィーによって精製した。式lのアリール−ジエーテルの
単離された収率は48.6%であった。
国際調査報告
−惨鴫一一ム紳−沖−II@、p(τ/US 11610138)ANNEX
To T!:E INTERNAT工0NAL 5EARCHFLE?OR丁O
N
Claims (11)
- 1.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Rは一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Zは式−CyH2y−,▲数式、化学式、表等があります▼,▲数式、 化学式、表等があります▼,−S−,−O−,及び▲数式、化学式、表等があり ます▼の二価の基からなる群の一員であり;mは0又は1であり;yは1〜5の 整数でありそしてR′は1〜5個の炭素原子をもつアルキル基から選ばれる)の 二価の有機基である]のアリール−ジエーテル。
- 2.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、yは1〜5の整数である)のアリール−ジエーテル。
- 3.式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ 及び ▲数式、化学式、表等があります▼ からなる群から選んだ式のアリール−ジエーテル。
- 4.式 ▲数式、化学式、表等があります▼及び▲数式、化学式、表等があります▼から なる群から選んだ式のハロゲン化キシレン及び式▲数式、化学式、表等がありま す▼ をもつビスフェノール−Aのアルカリ金属塩(上式中、Qはハロゲンでありそし てMはアルカリ金属である)を銅触媒の存在下で反応させることによって得られ る請求項3記載のアリール−ジエーテル。
- 5.Qが塩素及び臭素からなる群から選ばれそしてMがナトリウム及びカリウム からなる群から選ばれる請求項4記載のアリール−ジエーテル。
- 6.a)式 ▲数式、化学式、表等があります▼及び▲数式、化学式、表等があります▼(式 中、Qはハロゲンである)からなる群から選んだ式をもつハロゲン化キシレン及 び式 +M−O−R−O−M+ [式中、Mはアルカリ金属でありそしてRは一般式▲数式、化学式、表等があり ます▼ (式中、Zは式−CyH2y,▲数式、化学式、表等があります▼,▲数式、化 学式、表等があります▼,−S−,−O−,及び▲数式、化学式、表等がありま す▼の二価の基からなる群の一員であり、mは0又は1であり、yは1〜5の整 数でありそしてR′は1〜5個の炭素原子をもつアルキル基から選ばれる)の二 価の有機基である]をもつビスフェノール化合物のアルカリ金属塩を、銅触媒の 存在下、約100℃以上の温度で反応させ、 b)工程aのアリール−ジエーテルを液相中で、カルボン酸及びマンガン及びコ バルトからなる群から選んだ触媒の存在下、約80℃以上の温度で酸素と反応さ せることによって酸化させ、そして c)工程bで形成されたジ無水物又はテトラ酸を両性非プロトン性溶剤の存在下 、100〜350℃の範囲の温度で式H2N−R1−NH2(式中、R1は(i )6〜20個の炭素原子をもつ芳香族炭化水素基及びそのハロゲン化誘導体、 (ii)2〜20個の炭素原子をもつアルキレン基及びシクロアルキレン基、及 び (iii)前記定義したごときRの範囲内に包含される二価の基、 からなる群から選んだ二価の有機基である)の有機ジアミンと反応させる、こと からなるポリエーテルイミドの製造法。
- 7.銅触媒はCuClであり、Qは塩素及び臭素からなる群のハロゲンから選ば れ、Mはナトリウム及びカリウムからなる群のアルカリ金属から選ばれそしてカ ルボン酸は酢酸である請求項6記載の方法。
- 8.ZはC3H6でありそしてmは1である請求項7記載の方法。
- 9.有機ジアミン及びジ無水物又はテトラ酸の間の反応を溶剤の不存在下、20 0℃以上の温度で行なう請求項8記載の方法。
- 10.両性非プロトン性溶剤はN,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ キシド、N,N−ジメチルアセトアミド及びN−メチルピロリドンからなる群か ら選ばれる請求項8記載の方法。
- 11.酸化触媒は臭素を促進剤とするコバルトでありそして温度は80℃〜11 5℃の範囲内である請求項10記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/US1986/001387 WO1988000178A1 (en) | 1986-07-02 | 1986-07-02 | Aryl-diethers |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01500112A true JPH01500112A (ja) | 1989-01-19 |
Family
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61503758A Pending JPH01500112A (ja) | 1986-07-02 | 1986-07-02 | アリール‐ジエーテル |
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| JP (1) | JPH01500112A (ja) |
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-
1986
- 1986-07-02 WO PCT/US1986/001387 patent/WO1988000178A1/en not_active Ceased
- 1986-07-02 EP EP19860904598 patent/EP0274465A1/en not_active Withdrawn
- 1986-07-02 JP JP61503758A patent/JPH01500112A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO1988000178A1 (en) | 1988-01-14 |
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