JPH01500667A - セファロスポリン中間生成物の新規安定な結晶形 - Google Patents

セファロスポリン中間生成物の新規安定な結晶形

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JPH01500667A JP62505355A JP50535587A JPH01500667A JP H01500667 A JPH01500667 A JP H01500667A JP 62505355 A JP62505355 A JP 62505355A JP 50535587 A JP50535587 A JP 50535587A JP H01500667 A JPH01500667 A JP H01500667A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 セファロスポリン中間生成物の新規安定な結晶形本発明は、式 で示される(6 R,7R)−7−[[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)− (Z)−2−(1−第3級ブトキシカルボニル−1−メチルエトキシ)−イミノ コアセトアミド]−3−(1−ピリジニウムメチル)−3−セフェム−4−カル ボキシレート(セフクジジム−t−ブチルエステル)の新規安定な結晶形および その製造方法に関するものである。
式(I)で示される化合物は、セフタジジムの製造において重要な中間生成物で ある。セフタジジムは、微生物に対して、特にグラム陰性領域に広範囲の活性を 有することによって大きな重要性を示す高活性抗生物質であって、特に病院にお ける非経口的医薬として用いられるが、そこではシュードモナス(pseudo monas)のような問題のある細菌に対する活性がまた重要である。
セフタジジムの製造は、チアゾール環のアミノ基、側鎖のカルボキシル基、時に はまたチアゾリジン環のカルボキシル基に保護基を含む中間段階を経て、通常実 施される。これらの保護基は一つまたはいくつかの反応段階で開裂される。
式(I)で示される化合物は、たとえば酸加水分解によりさらにセフタジジムに 加工される際、イソブチンのみしか副産物として生成せず、セフタジジムが高純 度および良好な収率で分離され得るところから、これらの保護されたセフタジジ ム中間段階で注目に値する。
国際出願公開WO35/4659において、で示される活性チオールエステルの シン形をで示される化合物と反応させることにより、式(1)で式される化合物 を製造する特に簡単な方法が記載されている。
しかしながら、この出願に示される方法を用いると、式(I)で示される化合物 は分離することが難しい無定形でしか得られない。
適当な溶媒を用いる場合、式(I)で示される化合物が単なる濾過により、結晶 形で、好収率、好純度で反応混合物より分離され得、その際副産物および不純物 は溶液に残留することが、この発明により見出された。
適当な溶媒は、ハロゲン化された脂肪族炭化水素、たとえばジクロロメタンまた はクロロホルム、低級脂肪族アルコール、たとえばメタノールからn−ブタノー ル、低級脂肪族カルボン酸エステル、たとえば酢酸エチルまたは酢酸ブチル、ジ メチルホルムアミドまたはジメチルスルホキシドおよびこれら溶媒の混合物であ る。一方が低級アルコール、ジメチルホルムアミドまたはジメチルスルホキシド 、他方が芳香族炭化水素、たとえばベンゼン、トルエン、クロロベンゼンまたは アセトン、アセトニトリルである混合物も溶媒として用いられ得る。好ましい溶 媒は、一方がジクロロメタン、クロロホルム、酢酸ブチル、酢酸エチル、トルエ ン、他方がメタノールまたはジメチルスルホキシドの混合物である。混合物の比 は通常20:1および1:20の間で、最終生成物の溶解度によって異なる。
式(II)で示される活性チオールエステルはたとえばビス−(ベンゾチアゾー ル−2−イル)ジスルフィドおよびトリフェニルホスフィンと対応する酸を反応 させることにより既知の方法で製造され、その際反応混合物はチオールエステル を分離することなく、式(I[Ia)で示される化合物との反応に用いられ得る 。しかし、分離したチオールエステルを使用するとより好ましい好収率およびよ り純度の高い生成物が得られる。
式(II[a)で示される化合物は分子内塩または有機または無機酸の付加塩と して用いられ得る。これらの化合物の溶媒和化合物もまた用いられ得る。用いら れる式(I[[a)で示される化合物の形の例は、三水化物、塩酸塩−水化物、 ジ塩酸塩三水化物、よう化水素酸塩−水化物およびしゅう酸塩である。酸付加塩 を用いる場合、酸と当量である塩基(たとえばトリエチルアミン)をおそくとも 生成物の濾過前に添加されなければならない。
式(I[Ia)で示される化合物は、それ故一般に次の様に定義され得ここで、 HXは有機または無機酸を意味し、LMは水または有機溶媒を意味し、nおよび mは01または2である。
反応温度は0℃と室温の間であることが好ましい。しかしながら、反応はより低 温または高温で実施され得、その際、より長い反応時間または副反応の増加が考 慮されなければヅらない。
生成物の濾過は普通反応と同じ温度で実施される;生成物の収率を高かめるかま たは純度を改善するために、濾過はまたより低温かまたは高温で行なわれ得る。
同じ根拠で(収率、純度)、反応混合物は、既に用いられる溶媒または別の溶媒 により濾過前に希釈していてもよく、また用いられる溶媒の一部を蒸溜して除去 してもよい。
既述のように、セフクジジム−t−ブチルエステルは、結晶形で得られ、偏光顕 微鏡下腹屈折である小針状の形で得られる。生成物の結晶性は粉末試料のX線回 折法により確認された:3.3 W w=低位 m=中位 この結晶形を以下α−形と称する。このα−形は本発明の方法で高収率で得られ るが、それぞれ保存中の安定性は低い。たとえば、この生成物が室温(〜25℃ )で数日間保存される場合、分解が観察される、この分解性(ピリジン臭を伴な う)は好ましくなく、乾燥の問題は別として、保存および別の加工の間中、経費 の増加に関する問題を起す。
式(1)で示される化合物が最高の純度(≧−97%)で、別の、さらに安定な 形で、得られ得ることがこの発明により見出された。以下β−形と称するこの新 規の結晶性修飾物は、無定形から、または、α−形の中間分離を経るかまたは経 ずしてα−形製造の分離法を修飾することにより製造され得る。新規の修飾物は 、偏光顕微鏡下で小複屈折性針状結晶として認められ、そのX線スペクトルがα −形のスペクトルと異なる特性を示す結晶性粉末として存在する:5.6 m 5.3 wd 3.94 at w:低位 3.82 W m:中位 3.7 w d:拡散 3.3 w 本発明の本方法に対応している式(1)で示される化合物の新規β−形は水相か ら回収され、その際、水相はまた水と混合され得る溶媒を含んでいてもよい。
本発明の方法は、無定形またはα−形で反応混合物中に含有される式(I)で示 される化合物が、水または水と混合され得る溶媒と水の混合物による抽出により 、pH値3以下、特にpH1,0−2,0で水相に転溶され、その際少くとも5 0%の水が用いられ、この水相はまた水と混合され得る溶媒を含有し得ることを 特徴とする。この水相から、式(1)で示される化合物の等電点の範囲またはそ の付近すなわち、3.5−7.5、特に4.2−5.2の範囲にp)(値を調節 することにより、β−形の式(1)で示される化合物は結晶化する。
式(I)で示される化合物は、こうして高結晶性、無色の沈澱物の形で得られ、 濾過により容易に分離され得る。しかしながら、無定形またはα−形として分離 された化合物もまた水または水と混合され得る1ないし数種の溶媒と水の混合物 に(有利には高濃度溶液として)所望により約pH2,0または、その付近まで 酸を添加して、溶解され得、次に本発明の新規の結晶性β−形はpH値を3.5 −7゜5特に4.2−5.2に調節することにより晶出し、こうして容易に分離 され得、高純度の形で(≧−98%)本発明の式(I)で示される化合物のβ− 形を示す無色の結晶性沈澱物を得る。
上記のように、方法が無定形または分離したα−形で始まる場合、α−形は水ま たは中和域または3.5および7.5の間のpH値で水と混合され得る溶媒と水 との混和物によく溶解するから、3.0以下にpH値を定めることは絶対に必要 ではない。実際、溶解の際、発明の式(1)で示される化合物の新規β−形が、 α−形が全部溶解する前に既に晶出し始めることもあり得る。このことは、特に 高濃度溶液(>10%)を用い溶媒を添加することなく、純水を用いる場合に起 る。原則的に、中間に透明な溶液が得られなかった場合でも、出発物質が既存の 懸濁液(既に沈澱した新規β−形が存在する)に完全に溶解し、本発明の新規β −形に変換されるから、本発明の新規のβ−形が沈澱する前に、全てのα−形が 溶液中に入ることが必要ではない。
特に、大規模の場合に、これをさらに澄明化して、安定、澄明な溶液を得るため (異物の濾過または精製の目的で活性炭などの補助剤の添加後の濾過の可能性に 備えて)、透明な、耐性の溶液(新規β−形が晶出することを予想する必要がな い)を製造する試みがなされるべきである。このことは、酸を添加することによ り達成され得、その際、式(1)で示される化合物が酸付加物(塩)として溶液 に保有されるように、少くとも、1当量の酸を用いることが好適である。
本発明の目的とする新規結晶性β−形を得るためには、あらかじめ添加された酸 を中和するのに必要とする量の塩基が次に添加され、その際式(I)で示される 化合物の新規β−形が水溶液から晶出され、分離され得る。
反応混合物からの分離の間、および分離したα−形からの変換による新規β−形 の製造用に用いられる酸類は、全ての既知の無機酸および有機酸、特に硫酸およ び塩酸であり得、特に、塩酸が適当である。
水と混合され得る溶媒は、アルコール類、アセトン、アセトニトリルおよび本発 明の式(I)で示される化合物のβ−形が溶解しないかまたはわずかにしか溶解 しない溶媒であり得る。
アルコール類の中では、エタノール、イソプロパツール、n−プロパツールおよ びまたn−ブタノールが適当であり、一方メタノールは、高濃度では式(1)で 示される化合物の新規β−形の溶解度が高すぎるから、低濃度でのみ適合してい る。一般に、水と混合され得る溶媒の添加は必要ではなく、本発明の式(1)で 示される化合物の新規β−形の溶解度が最低であるとき最高の収率が得られるか ら、抽出または溶解および沈澱の媒体として水のみを用いることが好適である。
下記の実施例は、本発明を説明するものであり、いかなる意味でもその範囲を制 限するものでなく、全ての温度は摂氏で示される。
比旋光度[α]20は1g/100II112の濃度で水とメタノールl:l中 り で測定された。
生成物の同定は核磁気共鳴分析で調べられた: プロトン磁気共鳴(90メガヘ ルツ、DMSO−d、/重水/DCL):8.1−9.1(5H1ピリジニウム );7.15(IH,s、チアゾール):5.92(I H1dSJ=5ヘルツ 、H7);5.6(2H,CH,−N);5.32(IH,d。
J=5ヘルツ、Ha);3 、6 (2H%S CHt);1.55(6H,S 。
C(CHs)y); 1.40 (9H,C(CH3)5)。
実施例1: (6R,7R)−7−[[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−(Z)−2− (1−第3級−ブトキシカルボニル−1−メチルエトキシ)イミノコアセトアミ ド]−3−(1−ピリジニウム−メチル)−3−セフェム−4−カルボキシレー ト(α−形):2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−(Z)−2−[[1−第 3級ブトキシカルボニル−1−メチルエトキシコイミノコチオ酢酸−8−ベンゾ チアゾール−2−イル−エステル12g、(6R,7R)−7−アミノ−3−( l−ピリジニウムメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸・クロリド・−水和 物7.7gおよびトリエチルアミン3 、8 to(1をジクロロメタン7 、 5 m12およびメタノール5m12の混合物中、0℃で10時間撹拌する。固 体物質を濾過し、ジクロロメタンで洗浄し、室温で真空乾燥する。標記の化合物 10.5gを無色の結晶性粉末の形で得る。(=理論値の78%)。
純度=97%;[αコ”=−36,4°。
実施例2: (6R,7R)−7−[[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−CZ”)−2 −(1−13級ブトキシカルボニル−1−メチルエトキシ)イミノ]アセトアミ ド]−3−(1−ピリジニウム−メチル)−3−セフェム−4−カルボキシレー ト(α−形):実施例1記載の標品をジクロロメタン80−中で室温で4時間撹 拌する。反応懸濁液を40℃に加温し、固体物質を濾過する。標記の化合物JO gを結晶性の形で得る(=理論値の75%)。
純度:95%;[αコ”=−36,2°。
実施例3: (6R,7R)−7−[[2−(2−アミノ−4−チアゾリル>−<2)−2− (1−第3級ブトキシカルボニル−1−メチルエトキシ)イミノコアセトアミド ]−3−(1−ピリジニウム−メチル)−3−セフェム−4−カルボキシレート (α−形):実施例1記載の標品をメタノール50m(2中O℃で20時間、次 いで一20℃で2時間撹拌する。固体物質を実施例1記載の通り分離する。標記 の化合物9gを結晶性形で得る(=理論値の67%)。
純度=98%;[α]”=−35,6°。
実施例4: (6R,7R)−7−[[2−(2−アミノ−4−チアゾリル>−CZ)−2− (1−第3級ブトキシカルボニル−1−メチルエトキシ)イミノコアセトアミド ]−3−(1−ピリジニウム−メチル)−3−セフェム−4−カルボキシレート (α−形):反応を実施例1記載の通り実施するが、ジクロロメタン70m(l およびジメチルスルフオキシド10−の混合物中で実施する。標記の化合物8g を結晶として得る(=理論値の60%)。
純度=95%:[α]”=−35,8゜実施例5: (6R,7R)−7−[C2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−(Z)−2− (1−第3級ブトキシカルボニル−1−メチルエトキシ)イミノコアセトアミド ]−3−(1−ピリジニウム−メチル)−3−セフェム−4−カルボキシレート (α−形):2−(2−アミノ−4−チアゾリル’)−(Z)−2−[(1−第 3級ブトキシカルボニル−1−メチル−1−メチルエトキシ)イミノ]チオ酢酸 −8−ベンゾチアゾール−2−イル−エステル2.4gおよび(6R,7R)− 7−アミノ−3−(l−ピリジニウムメチル)−3−セフェム−4−カルボキシ レート・l水和物1.3gをジクロロメタン15m(lおよびメタノール5m( の混合物中、0℃で6時間撹拌する。固体物質を実施例!記載の通り分離する。
標記の化合物1.9gを結晶形で得るに理論値の75%)。
純度=98%:[α]”=−36,5°。
実施例6: (6R,7R)−7−[[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−(Z)−2− (第3級ブトキシカルボニル−1−メチルエトキシ)イミノコアセトアミド]− 3−(1−ピリジニウム−メチル)−3〜セフェム−4−カルボキシレート(α −形): 2−(2−アミノル4−チアゾリル)−(Z)−2−[(1−第3級ブトキシカ ルボニル−夏−メチルエトキシ)イミノ〕チオ酢酸−8−ベンゾチアゾール−2 −イル−エステル19.1g、(6R,7R)−7−アミノ−3−(1−(1− ピリジニウムメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸・ヨウ化物・−水化物1 4.6gおよびトリエチルアミン5 、6 mQをジクロロメタン142.5− およびメタノール7.5mQの混合物中、0℃で24時間撹拌する。固体物質を 濾過し、ジクロロメタンで洗浄し、室温で真空乾燥する。標記の化合物16.0 gを結晶形で得る(−理論値の79.6%)。純度:97%:[α]to=−3 6,7°。
実施例7: (6R,7R)−7−[[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−(Z)−2− (1−第3級ブトキシカルボニル−1−メチルエトキシ)イミノ]アセトアミド ]−3−(1−ピリジニウムメチル)−3−セフェム−4−カルボキシレート( β−形): (6R,7R)−7−[[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−(Z)−2− (1−第3級ブトキシカルボニル−1−メチルエトキシ)イミノ]アセトアミド ]−3−(1−ピリジニウム−メチル)−3−セフェム−4−カルボキシレート (α−形)40gを水400m(!に溶解する。
この溶液にβ−形の結晶を注入する。その際無色の結晶性沈澱物を生成する。約 +4℃に冷却後、結晶を分離し、水で洗浄および乾燥後、β−形27gを得る。
実施例8: (6R,7R)−7−[[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−(Z)−2− (1−第3級ブトキシカルボニル−1−メチルエトキシ)イミノコアセトアミト コ−3−(1−ピリジニウム−メチル)−3−セフェム−4−カルボギシレート (β−形):2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−(Z)−2−[1−第3級 ブトキシカルボニル−1−メチルエトキシ)イミノコチオ酢酸−8−ベンゾチア ゾール−2−イル−エステル24g、(6R,7R)−7−アミノ−3−(1− ピリジニウムメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸・クロリド15.4gお よびトリエチルアミン7.6−をジクロロメタン150−およびメタノール5m Cの混合物中で、0℃で20時間撹拌する。次に、水100m12および濃塩酸 20+n12を反応混合物に添加し、相を分離する。冷水相を濾過し、次に溶液 のpH値を3N水酸化ナトリウムで4.8−5.0に調節する。その際温度は2 0−22℃に上昇し、標記の化合物が晶出する。2時間約4℃で冷却後、結晶を 濾過し、少量の冷水で洗浄し、真空乾燥後、標記の化合物16gをβ−形で得る 。
実施例9: (6R,7R)−7−[[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−(Z)−2− (1−第3級ブトキシカルボニル−1−メチルエトキシ)イミノ]アセトアミド ]−3−(1−ピリジニウム−メチル)−3−セフェム−4−カルボキシレート (β−形):(6R,7R)−7−[[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)− (Z)−2−(1−第3級ブトキシカルボニル−1−メチルエトキシ)イミノコ アセトアミド]−3−(1−ピリジニウム−メチル)−3−セフェム−4−カル ボキシレート(α−形:85%)70gを濃塩酸25−および氷水500mf2 の混合物に添加する。約pHi、sの透明な溶液を得る。pH値を次に2N水酸 化ナトリウムで4.8−5.0に調節し、温度は18−22℃に上昇する。標記 の化合物は無色の沈澱物の形で晶出する。ついで冷却は+4℃で2時間行ない、 次に結晶を分離し、冷水で洗浄し、湿ったケーキを45−50℃の空気により、 流動床上で乾燥する。この方法で、β−形の高純度(≧98%)で含水量8.6 %の標記の化合物52gを得る。
国際調査報告 SA 1ε631

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (1)X線スペクトル α(Å)I 17.0w 15.5m 5.9w 5.0w 4.15ww=低位 3.84wn=中位 3.3w を有している式 ▲数式、化学式、表等があります▼(I)で示される(6R,7R)−7−[[ 2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−(Z)−2−(1−第3級プトキシカル ボニル−1−メチルエトキシ)−イミノ]アセトアミド〕−3−(1−ピリジニ ウムメチル)−3−セフェム−4−カルボキシレートの新規結晶性、安定形(α −形)。 (2)式 ▲数式、化学式、表等があります▼(II)で示される化合物のシン形を式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III)[ここで、HXは有機または無機 酸を意味し、LMは水または有機溶媒を意味し、nおよびmは0、1または2で ある。]で示される化合物と所望により塩基を加えて反応させることによる、式 (I)で式される(6R,7R)−7−[[2−(2−アミノ−4−チアゾリル )−(Z)−2−(1−第3級プトキシカルボニル−1−メチルエトキシ)イミ ノ〕アセトアミド]−3−(1−ピリジニウムメチル)−3−セフェム−4−カ ルボキシレートの新規結晶性、安定形(α−形)の製造方法であって、反応を式 (I)で示される化合物溶解の溶解性が小さい溶媒または溶媒混合物、たとえば ハロゲン化炭化水素、低級脂肪族カルボン酸エステル、低級脂肪族アルコール、 ジメチルホルムアミドもしくはジメチルスルホキシドまたはこれらの溶媒の混合 物中で実施し、反応直後、式(I)で示される化合物を反応混合物から津過する ことを特徴とする方法。 (3)用いる溶媒が、一方が低級脂肪族アルコール、ジメチルホルムアミドまた はジメチルスルホキシド、他方が芳香族炭化水素、アセトンまたはアセトニトリ ルの混合物でありうることを特徴とする請求の範囲2記載の方法。 (4)ジクロロメタンおよびメタノールの混合物を用いることを特徴とする請求 の範囲2記載の方法。 (5)X線スペクトル α(Å)I 22.0m 10.0w 8.5m 7.3w 6.7m 5.9md 5.6m 5.3wd 4.2w 3.94ww:低位 3.82wm:中位 3.7wd:拡散 3.3w を有している式(I)で示される(6R.7R)−7−[[2−(2−アミノ− 4−チアゾリル)−(Z)−2−(1−第3級プトキシカルボニル−1−メチル エトキシ)イミノ]−アセトアミド]−3−(1−ピリジニウムメチル)−3− セフェム−4−カルボキシレート(セフタジジム−t−ブチルエステル)の新規 結晶性、安定形(β−形)。 (6)式(I)で示される化合物をpH3.5−7,5で水性溶液から晶出させ ることを特徴とする請求の範囲5記載の式(I)で示される化合物の新規結晶性 、安定形(β−形)の製造方法。
JP62505355A 1986-09-10 1987-09-09 セファロスポリン中間生成物の新規安定な結晶形 Expired - Lifetime JP2539872B2 (ja)

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