JPH01503737A - ポリアセチレン系記録媒体用ｕｖ安定剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ポリアセチレン系記録媒体用ＵＶ安定剤災来Ω肢玉 パターンに露光する際に、記録情報を高解像度および鮮明度で送る数種のポリア セチレン系の記録媒体が開発されている。しかしながら、これらのフィルムをＵ ν・光に長期間にわたって露光すると、高解像度および鮮明度が徐々に低下する ようにバックグラウンド密度が連続的に展開（ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ）する。

従って、本発明の目的は上述する欠点を除去するために、比較的に安価な組成物 を用いる一般的に便利な方法を提供することである。

本発明の他の目的は前記露光フィルムの偶発的なバックグラウンド露光を減少さ せ、かつ紫外線に露光する際のフィルム展開（ｆｉｌｍ　ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎ ｔ）を抑制する方法を提供することである。

本発明の他の目的は露光記録媒体を安定化する新規な組成物を提供することであ る。

本発明のこれらのおよび他の目的は以下の記載から明らかになる。

主所■説所 本発明は式： （式中、ｙおよび２はそれぞれＯ〜２の数を示し、およびｙと２の和は少なくと も１を示し、Ｒｔは水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはＣ２〜Ｃ４アルコキシを示 す）で表わされるヒドロキシル化ベンゾフェノン１重量部および構造：（式中、 ｎはｌＯ〜１０００の整数を示し、およびＲ１は１〜６個の炭素原子を有するア ルキルを示す）を有するビニルエーテル／マレイン酸エステル共重合体約１０〜 約４０重量部、好ましくは約２０〜約３０重量部を含む組成物を提供する。

上記組成物は不活性溶剤に用いて透明無色の溶液を得る。

本発明において用いる共重合体の数平均分子量は約２０００〜約２０００００の 範囲で変えることができるが、約１００００〜約３００００の範囲の分子量が好 ましい。

ベンゾフェノン共重合体組成物についての適当な溶剤としては１〜６個の炭素原 子を有する脂肪族アルコール、ケトン、エステル、ミネラルスピリットなどを例 示できる。

これらのうち、エタノールおよびプロパツールが好ましい。

一般に、上記溶剤中の組成物の濃度は約２０〜約６０重量％の範囲で変えること ができ、２０〜４０重景％が好ましい。

本発明に関連する像記録媒体は１または２層以上のポリアセチレン結晶の像形成 層を存する一般に入手しうる多層ベース　フィルムを包含している。このタイプ の代表的なフィルムは非溶媒和結合剤（ｎｏｎ−ｓｏｌｖａｔｉｎｇ　ｂｉｎｄ ｅｒ）に微結晶性ポリアセチレンを含み、約２〜約１０ミル厚さの基体に重ねる 約０．２５〜約５００マイクロメートル厚さの層を形成する。像形成に敏感なポ リアセチレン化合物は２０〜３０個の炭素原子を有し、かつ一般式Ａ−（ＣＨｚ ）　Ｆｌ−Ｃ＝Ｃ−Ｃ＝Ｃ−（Ｃ）Ｉｚ）ｌ、−８（ここにｍおよびｎはそれぞ れ６〜１４の整数を示し、およびＡおよびＢはそれぞれメチルまたはカルボキシ ル基を示す）を有する共役ジイン（ｃｏｎｊｕｇａｔｅｄ　ｄｉｙｎｅｓ）　％ 好ましくは炭化水素または酸ジインを包含している。上記ポリアセチレンの特定 例としてはペンタコサ−１０，１２−ジインイック　アシッド（ｄｉｙｎｏｉｃ 　ａｃｉｄ）　；　１３＋　１５−オクタコサジインおよびドコサ−１０，１２ −ジイン−１，２２−ジオイック　アシッド（ｄｉｏｉｃ　ａｃｉｄ）を挙げる ことができる。−しかしながら、他の普通の共役構造を有する結晶性発色ポリア セチレンの１’ｉｉ　（ｉｍａｇｅ　ｒｅｃｅｐｉｖｅ　１ａｙｅｒ）として用 いることができる。この化合物は上記構造のジインを包含するが、この場合Ａお よび／またはＢ部分が低級アルキルまたはカルボキシルのほかに、ヒドロキシ、 アミド、低級アルキル置換アミド、１０個までの炭素原子を有する脂肪族または 芳香族カルボキシレート　エステル基、−価または二価のカルボキシレート金属 塩基、ハロ、カルバミル、低級アルキル置換カルバミルまたはトシル、並びに２ ０〜６０個の炭素原子および共役構造を有する上記ポリアセチレンの相当するト リイン（ｔｒｉｙｎｅ）およびテトライン（ｔｅｔｒａｙｎｅ）生成物を包含し ている。これらの化合物としては１０．１２−ドコサジインジオール、９．１１ ニエイコサジイノイツク　アシド（ｅｉｃｏｓａｄｉｙｎｏｉｃａｃｉｄ）のジ トルエンーＰ−スルホネート、１０．１２−ドコサジインジオイック　アシッド （ｄｏｃｏｓａｄｉｙｎｅｄｉｏｉｃ　ａｃｉｄ）のモノエチルエステル、１０ ．１２−ベンタコサジイノイックアシッドのナトリウムまたはカリウム塩、１０ ．１２−ドコサジイン　クロリド、１０．１２−ペンタコサジイン（ｍ−トリル −ウレタン）　、１０．１２−ペンタコサジイン（〔（ブトキシルカルボニル） −メチル〕ウレタン）、Ｎ−（ジメチル）＝１０．１２−ペンタコサジインアミ ド、Ｎ、Ｎ’　ビス（α−メチルベンジル）　１０．１２−ペンタコサジインジ アミドを例示することができる。

結合剤材料は、例えば天然および合成プラスチックス、樹脂、ワックス、コロイ ド、ゲルなどを包含しており、例えばゼラチン、所望の写真等級のゼラチン、種 々の多糖類、例えばデキストラン、デキストリン、親水性セルロースエーテルお よびエステル、アセチル化殿粉、天然および合成ワックス、例えばパラフィン、 みつろう、ポリビニル−ラクタム、アクリルおよびメタアクリルエステルおよび アミドの重合体、酢酸ビニルの加水分解共重合体、および不飽和付加重合性化合 物、例えば無水マレイン酸、アクリルおよびメタアクリル酸エステルおよびスチ レン、酢酸ビニル重合体および共重合体およびその誘導体、例えばその完全およ び部分加水分解生成物、ポリ＠酸ビニル、ポリビニルアルコール、酸化ポリエチ レン重合体、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアセクール、例えばポリビニル 　アセトアルデヒド　アセクール、ポリビニル　ブチルアルデヒドアセクール、 ポリビニル　ナトリウム−〇−スルホベンズアルデヒド　アセクール、ポリビニ ル　ホルムアルデヒドアセクールを挙げることができ、および多くの他の既知の 写真用結合材料、例えば感光性ポリアセチレン組成物を混入するための、ドープ 、溶液、分散物、ゲルなどの形態にでき、かつ物質の感光性結晶性ポリアセチレ ン組成物の分散結晶を含有する固体形態に処理できる大部分の上述するプラスチ ックおよび樹脂支持材料を挙げることができる。結合剤材料のなめらかで均一な 連続被覆の製造技術においてよく知られているように、少量の普通の被覆助剤（ ｃｏａｔｉｎｇｓｉｄｓ）を粘度制御剤、界面活性剤、均展剤、分散剤などとし て用いることができる。

本発明のフィルムを露光するエネルギー源は電子ビームが好ましい。一般に、電 子はフィルムの表面に約１０−　″〜約１Ｏ−９）ル、好ましくは約１０−５〜 約１０４トルの範囲の高真空下で衝突させて上記フィルムに像を伝達して光学表 示に展開する。電子ビーム記録技術は周知のことであり、更に説明を要しないも のと思う。しかしながら、説明の目的のために、本発明において適当な代表的な 電子ビーム記録操作には、ビームエネルギーが約１０〜３０ＫｅＶで、電流の流 れが約１０−９〜１０−６アンペアで、ドウエル時間が約１０−３〜約１０−１ １秒のような速度でターゲット区域を走査するのに適用する電子ビームを用いる ことができる。フィルム　チャンバーにおける真空圧は、−最に１０−３〜１０ −’　）ルの範囲にする。

、本発明においては、上述するタイプの露光記録フィルムは上述する組成物の溶 液を約５〜約３０マイクロメートルの厚さに塗布して作る。フィルムの記録表面 を吹付、浸漬またはドクター処理する普通の塗布方法を用いることができる。ま た、塗布条件は慣習的なものであり、周囲温度および圧力で行うのが好ましい。

塗布後、フィルムを空気乾燥するか、または約３０〜約１２０°Ｃの範囲の温度 、または被覆組成物が明るく、かつ透明にとどまるような温度で炉内に配置する 。かようにして、被覆フィルムは長期間にわたるＵＶ露光に安定になる。

上述するように本発明を一般的に記載してきたが、次に被覆および非被覆ポリア セチレン系りイブのフィルムについての比較試験結果を示す第１０に基づいて説 明する。しかしながら、図面に示す曲線にプロットされた試験数値は請求の範囲 に規定する広範囲にわたる本発明の範囲を制限するものではない。

第１図に示す例では、２５ｇのジー、ニー、エフ　ガントレゼＥＳ−４２５（Ｇ ＡＰ　Ｇａｎｔｒｅｚ　ＥＳ−４２５）　（メチルビニルエーテル／マレイン酸 モノブチル半エステル共重合体）をエタノールに５０％の割合で含む塗布溶液を １．２５ｇのシアナミドＵｖ−２４（Ｃｙａｎａｎｉｄ　Ｕシー２４）　（２， ２′　−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）および２８．７５ｇのエ タノールと均質に混合して透明溶液を作った。

４ミルのポリエステル　フィルム　ベース基体上に４．０マイクロメートル厚さ のペンタコサ−１０，１２−ジイノイ７り　アシッドの記録層をそれぞれ有する 第１および第２フイルム試料を約１５Ｘｅνの電子ビームエネルギーに露光して 同じパターンで像形成し、その上に記録情報を０．１〜３．４の範囲の像密度で 記録した。

第１の像形成試料はその露光表面に上記溶液を手作業で塗布し、溶液を乾燥して １０マイクロメートル厚さの全く透明な被覆層を形成した。

第２の像形成試料には被覆しなかった。被覆および非被覆像形成フィルムを日光 に２７日までの期間にわたって露光した。

第１図において、曲線ＡおよびＡ′は非被覆フィルムを示す。曲線Ａ’　（破線 ）は日光に露光しない非被覆フィルムを示す。曲線Ａは日光に２７日間露光した 非被覆フィルムを示す。第１図に示すように、日光に露光した非被覆フィルムの バンクグラウンド密度は８倍増大していることがわかる。

曲線Ｂは上述するように被覆したフィルムを示す。曲線Ｂは、同し強さの日光に ２７日間露光した後、バンクグラウンド密度が僅かした増大しないことがわかる 。

また、第１図に示す有意な改良は上述する他の組成物によっても達成することが できた。

音度 国際調査報告

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. １．式： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｙおよびｚはそれぞれ０〜２の数を示し、およびｙとｚの和は少なくと も１を示し、Ｒ２は水素、Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはＣ１〜Ｃ４アルコキシを示 す）で表わされるヒドロキシル化ベンゾフェノン１重量部および構造：▲数式、 化学式、表等があります▼ （式中、ｎは１０〜１０００の整数を示し、およびＲ１は１〜６個の炭素原子を 有するアルキルを示す）を有するビニルエーテル／マレイン酸エステル共重合体 約１０〜約４０重量部を含み、不活性溶剤に溶解して全く無色の溶液を生成する 記録フイルム被覆組成物。
2. ２．Ｒ２はメチルを示し、ｚは０を示しおよびＲ１はブチルを示す請求の範囲１ 記載の組成物。
3. ３．ｙおよびｚはそれぞれ１を示し、およびＲ２はメトキシを示す請求の範囲１ 記載の組成物。
4. ４．放射エネルギー露光および像形成ポリアセチレン記録フイルムに、有効なＵ Ｖ展開抑制量の請求の範囲１に規定した組成物を被覆することからなる方法。
5. ５．放射エネルギー露光および像形成ポリアセチレン記録フイルムに、有効なＵ Ｖ展開抑制量の請求の範囲２に規定した組成物を被覆することからなる方法。
6. ６．放射エネルギー露光および像形成ポリアセチレン記録フイルムに、有効なＵ Ｖ展開抑制量の請求の範囲３に規定した組成物を被覆することからなる方法。
7. ７．被覆組成物を前記フイルムの表面上に約５〜約３０マイクロメートルの範囲 の厚さに乾燥する請求の範囲４記載の方法。
8. ８．前記フイルムに、１重量部の２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾ フエノンおよび約２０〜約３０重量部のメチルビニルエーテル／モノブチルマレ エート共重合体をエタノールに４０〜６０％の割合で含む組成物を１８〜１０マ イクロメートルの厚さに被覆して前記露光フイルム表面上に全く透明なフイルム を形成する請求の範囲４記載の方法。