JPH0154681B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0154681B2 JPH0154681B2 JP8529384A JP8529384A JPH0154681B2 JP H0154681 B2 JPH0154681 B2 JP H0154681B2 JP 8529384 A JP8529384 A JP 8529384A JP 8529384 A JP8529384 A JP 8529384A JP H0154681 B2 JPH0154681 B2 JP H0154681B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- heating plate
- face
- jig
- magnets
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/255—Splicing of light guides, e.g. by fusion or bonding
- G02B6/2552—Splicing of light guides, e.g. by fusion or bonding reshaping or reforming of light guides for coupling using thermal heating, e.g. tapering, forming of a lens on light guide ends
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Light Guides In General And Applications Therefor (AREA)
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は光フアイバの端面処理において、容易
に鏡面状の端面を得ることのできる光フアイバ端
面処理装置に関する。
に鏡面状の端面を得ることのできる光フアイバ端
面処理装置に関する。
鏡面を有する加熱板に光フアイバ端面を接触さ
せ、上記光フアイバ端面を鏡面加工する装置にお
いて、上記光フアイバ端面を上記加熱板に接触さ
せるには、従来、ばねを使用したり、永久磁石の
ような一定磁力の磁石を使用していた。ばねを使
用したものは第１図及び第２図に示すように、光
フアイバ１を加熱板２に一定角度で接触させるた
めの治具３に脱着可能な光フアイバ支持部材４
に、上記光フアイバ１を、その端部が上記光フア
イバ支持部材４から一定量突出させるように装着
し、加熱板２及び治具３を可動にしておき、加熱
板２を押し上げるかあるいは治具３を押し下げる
ように設置したばね５により、光フアイバ端面６
を加熱板２に押し付けていた。また永久磁石を使
用したものは第３図に示すように、上記第１図、
第２図の例において、治具３には磁性体のものを
用い、固定した磁石７の吸引力により光フアイバ
端面６を加熱板２に押し付けるようになつてい
た。上記のような装置では、光フアイバ端面６に
加わる圧力の変化は、治具３と加熱板２との距離
により決まり、任意に制御できないため、良好な
光フアイバ端面が得にくいという欠点があつた。
せ、上記光フアイバ端面を鏡面加工する装置にお
いて、上記光フアイバ端面を上記加熱板に接触さ
せるには、従来、ばねを使用したり、永久磁石の
ような一定磁力の磁石を使用していた。ばねを使
用したものは第１図及び第２図に示すように、光
フアイバ１を加熱板２に一定角度で接触させるた
めの治具３に脱着可能な光フアイバ支持部材４
に、上記光フアイバ１を、その端部が上記光フア
イバ支持部材４から一定量突出させるように装着
し、加熱板２及び治具３を可動にしておき、加熱
板２を押し上げるかあるいは治具３を押し下げる
ように設置したばね５により、光フアイバ端面６
を加熱板２に押し付けていた。また永久磁石を使
用したものは第３図に示すように、上記第１図、
第２図の例において、治具３には磁性体のものを
用い、固定した磁石７の吸引力により光フアイバ
端面６を加熱板２に押し付けるようになつてい
た。上記のような装置では、光フアイバ端面６に
加わる圧力の変化は、治具３と加熱板２との距離
により決まり、任意に制御できないため、良好な
光フアイバ端面が得にくいという欠点があつた。
本発明は上記の点を改善するために成したもの
であつて、その目的とするところは、光フアイバ
端面の熱処理において、光フアイバ端面に加える
力を任意に制御することにより、良好な光フアイ
バ端面の得ることのできる光フアイバ端面処理装
置を提供することにある。
であつて、その目的とするところは、光フアイバ
端面の熱処理において、光フアイバ端面に加える
力を任意に制御することにより、良好な光フアイ
バ端面の得ることのできる光フアイバ端面処理装
置を提供することにある。
以下本発明を実施例として掲げた図面に基づき
説明する。第４図ａは本発明の一実施例を示す光
フアイバ端面処理装置の構成図である。光フアイ
バ１を鏡面を有した加熱板２に一定角度で接触さ
せるための治具３に脱着可能な光フアイバ支持部
材４に、上記光フアイバ１を、その端部が上記光
フアイバ支持部材４から一定量突出させるように
装着する。上記治具３と光フアイバ支持部材４と
は一体であつても良い。上記突出した光フアイバ
１の端面６は加熱板２の鏡面側に対向して設置さ
れる。加熱板２の下方には、対を成す複数個の磁
石７，７′が固定される。上記磁石７，７′の加熱
板２に関して上方における磁力を可変するため
に、磁石７，７′の下方に磁性体より成る可動短
絡板８を設置し、更に上記短絡板８の上下方向の
位置を制御するための短絡板制御機構９を設け
る。また治具３と加熱板２との間には非磁性体の
バネ１０が介在する。
説明する。第４図ａは本発明の一実施例を示す光
フアイバ端面処理装置の構成図である。光フアイ
バ１を鏡面を有した加熱板２に一定角度で接触さ
せるための治具３に脱着可能な光フアイバ支持部
材４に、上記光フアイバ１を、その端部が上記光
フアイバ支持部材４から一定量突出させるように
装着する。上記治具３と光フアイバ支持部材４と
は一体であつても良い。上記突出した光フアイバ
１の端面６は加熱板２の鏡面側に対向して設置さ
れる。加熱板２の下方には、対を成す複数個の磁
石７，７′が固定される。上記磁石７，７′の加熱
板２に関して上方における磁力を可変するため
に、磁石７，７′の下方に磁性体より成る可動短
絡板８を設置し、更に上記短絡板８の上下方向の
位置を制御するための短絡板制御機構９を設け
る。また治具３と加熱板２との間には非磁性体の
バネ１０が介在する。
次に第４図、第５図を用いて上記構成の光フア
イバ端面処理装置の動作を説明する。第５図ａは
加熱板２の表面温度の時間変化の一例であり、第
５図ｂは治具３に加える磁力の時間変化の一例で
ある。最初は加熱板２のヒータはオフ状態であ
り、短絡板８は磁石７，７′からの距離ｌが遠い
状態に設置されている。時刻t0において加熱板２
のヒータがオンされると、それに連動して短絡板
制御機構９が動作し、短絡板８は磁石７，７′に
近づけられる。この結果、磁石７，７′の磁力が
増加し、治具３はバネ１０の反発力より大きな力
で磁石７，７′即ち加熱板２の方向に引き寄せら
れ、第４図ｂに示すように、光フアイバ端面６は
加熱板２の鏡面に押し当てられる。加熱板２の表
面温度は上昇して行き、光フアイバ１の軟化点に
達し、光フアイバ端面６は融解され、第４図ｃに
示す状態に至る。この後の時刻t1において加熱板
２のヒータをオフすると、加熱板２の表面温度は
下降する。また短絡板制御機構９により、治具３
に加わる磁力を第５図ｂに示すように制御して、
光フアイバ端面６及びその近傍が完全に硬化し、
安定する時刻t2まで、光フアイバ端面６には圧力
が加えられているようにしておく。時刻t2で更び
短絡板８は磁石７，７′から遠ざけられ、治具３
に加わる磁力は減少するので、治具３はバネ１０
の力により上昇し、第４図ａの状態に戻る。以上
の過程により、鏡面状の光フアイバ端面が得られ
る。更に治具３の脱着も制御すれば、処理の完了
を容易に判断させることや、処理の自動化も可能
である。
イバ端面処理装置の動作を説明する。第５図ａは
加熱板２の表面温度の時間変化の一例であり、第
５図ｂは治具３に加える磁力の時間変化の一例で
ある。最初は加熱板２のヒータはオフ状態であ
り、短絡板８は磁石７，７′からの距離ｌが遠い
状態に設置されている。時刻t0において加熱板２
のヒータがオンされると、それに連動して短絡板
制御機構９が動作し、短絡板８は磁石７，７′に
近づけられる。この結果、磁石７，７′の磁力が
増加し、治具３はバネ１０の反発力より大きな力
で磁石７，７′即ち加熱板２の方向に引き寄せら
れ、第４図ｂに示すように、光フアイバ端面６は
加熱板２の鏡面に押し当てられる。加熱板２の表
面温度は上昇して行き、光フアイバ１の軟化点に
達し、光フアイバ端面６は融解され、第４図ｃに
示す状態に至る。この後の時刻t1において加熱板
２のヒータをオフすると、加熱板２の表面温度は
下降する。また短絡板制御機構９により、治具３
に加わる磁力を第５図ｂに示すように制御して、
光フアイバ端面６及びその近傍が完全に硬化し、
安定する時刻t2まで、光フアイバ端面６には圧力
が加えられているようにしておく。時刻t2で更び
短絡板８は磁石７，７′から遠ざけられ、治具３
に加わる磁力は減少するので、治具３はバネ１０
の力により上昇し、第４図ａの状態に戻る。以上
の過程により、鏡面状の光フアイバ端面が得られ
る。更に治具３の脱着も制御すれば、処理の完了
を容易に判断させることや、処理の自動化も可能
である。
なお上記実施例では光フアイバ１が加熱板２に
押し当てられる圧力を制御するのに、短絡板８を
光フアイバ１の軸方向に移動させて行なつている
が、棒状の短絡板８を用い、軸を中心として回転
させることにより、磁石７，７′と短絡板８との
距離を可変しても良い。また、磁石７，７′その
ものを光フアイバ１の軸方向に可動するようにし
て、磁石７，７′と治具との距離を可変するよう
にしてもよい。
押し当てられる圧力を制御するのに、短絡板８を
光フアイバ１の軸方向に移動させて行なつている
が、棒状の短絡板８を用い、軸を中心として回転
させることにより、磁石７，７′と短絡板８との
距離を可変しても良い。また、磁石７，７′その
ものを光フアイバ１の軸方向に可動するようにし
て、磁石７，７′と治具との距離を可変するよう
にしてもよい。
第６図は本発明の他の実施例を示す光フアイバ
端面処理装置の構成図である。上記実施例と異な
る点は、治具３を加熱板２の方向に引き寄せるた
めに用いた磁石７，７′及び短絡板８、短絡板制
御機構９の替りに、電磁石１１及びその磁力を制
御する磁力制御器１２を用いることにある。上記
電磁石１１を加熱板２の下方に設置し、上記磁力
制御器１２により電磁石１１への電流を可変し
て、治具３に対する吸引力を制御する。他の構成
及び動作は前記実施例と同等であるので説明を省
略する。
端面処理装置の構成図である。上記実施例と異な
る点は、治具３を加熱板２の方向に引き寄せるた
めに用いた磁石７，７′及び短絡板８、短絡板制
御機構９の替りに、電磁石１１及びその磁力を制
御する磁力制御器１２を用いることにある。上記
電磁石１１を加熱板２の下方に設置し、上記磁力
制御器１２により電磁石１１への電流を可変し
て、治具３に対する吸引力を制御する。他の構成
及び動作は前記実施例と同等であるので説明を省
略する。
上記のように本発明によれば、光フアイバ端面
の熱処理において、磁石及びその磁石の吸引力を
制御する手段を設けたことにより、鏡面を有する
加熱板と光フアイバ端面間の接触圧力を、上記加
熱板の表面温度あるいはヒータ電流、加熱時間等
で任意に変化させることができるので、より均一
で良好な光フアイバ端面の得られる光フアイバ端
面処理装置を提供できた。
の熱処理において、磁石及びその磁石の吸引力を
制御する手段を設けたことにより、鏡面を有する
加熱板と光フアイバ端面間の接触圧力を、上記加
熱板の表面温度あるいはヒータ電流、加熱時間等
で任意に変化させることができるので、より均一
で良好な光フアイバ端面の得られる光フアイバ端
面処理装置を提供できた。
第１図〜第３図は従来の光フアイバ端面処理装
置の構成図、第４図ａ〜ｃは本発明の一実施例の
光フアイバ端面処理装置の構成及び動作を示す断
面図、第５図ａは加熱板の時間変化の一例を示す
グラフ、第５図ｂは治具に加わる磁力の時間変化
の一例を示すグラフ、第６図は本発明の他の実施
例の構成を示す断面図を表わす。 １…光フアイバ、２…加熱板、３…治具、６…
光フアイバ端面、７，７′…磁石、８…短絡板、
９…短絡板制御機構、１０…バネ、１１…電磁
石、１２…磁力制御器。
置の構成図、第４図ａ〜ｃは本発明の一実施例の
光フアイバ端面処理装置の構成及び動作を示す断
面図、第５図ａは加熱板の時間変化の一例を示す
グラフ、第５図ｂは治具に加わる磁力の時間変化
の一例を示すグラフ、第６図は本発明の他の実施
例の構成を示す断面図を表わす。 １…光フアイバ、２…加熱板、３…治具、６…
光フアイバ端面、７，７′…磁石、８…短絡板、
９…短絡板制御機構、１０…バネ、１１…電磁
石、１２…磁力制御器。
Claims (1)
- １ 鏡面を有する加熱板と、光フアイバ端面を上
記加熱板に所定角度で接触融解させるための治具
とより成る光フアイバ端面処理装置において、上
記治具を磁性体で形成すると共に、上記加熱板の
下方に設置した磁石と、上記磁石の吸引力を制御
する手段とを設けたことを特徴とする光フアイバ
端面処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8529384A JPS60227203A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 光フアイバ端面処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8529384A JPS60227203A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 光フアイバ端面処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60227203A JPS60227203A (ja) | 1985-11-12 |
| JPH0154681B2 true JPH0154681B2 (ja) | 1989-11-20 |
Family
ID=13854531
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8529384A Granted JPS60227203A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 光フアイバ端面処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60227203A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6291604U (ja) * | 1985-11-29 | 1987-06-11 |
-
1984
- 1984-04-25 JP JP8529384A patent/JPS60227203A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60227203A (ja) | 1985-11-12 |
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