JPS60227203A - 光フアイバ端面処理装置 - Google Patents
光フアイバ端面処理装置Info
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- JPS60227203A JPS60227203A JP8529384A JP8529384A JPS60227203A JP S60227203 A JPS60227203 A JP S60227203A JP 8529384 A JP8529384 A JP 8529384A JP 8529384 A JP8529384 A JP 8529384A JP S60227203 A JPS60227203 A JP S60227203A
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- JP
- Japan
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- optical fiber
- jig
- heating plate
- heater
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 37
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 abstract 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
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- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/255—Splicing of light guides, e.g. by fusion or bonding
- G02B6/2552—Splicing of light guides, e.g. by fusion or bonding reshaping or reforming of light guides for coupling using thermal heating, e.g. tapering, forming of a lens on light guide ends
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Light Guides In General And Applications Therefor (AREA)
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は光ファイバの端面処理において、容易に鏡面状
の端面を得ることのできる光ファイバ端面処理袋＠に関
する。
の端面を得ることのできる光ファイバ端面処理袋＠に関
する。
鏡面を有する加熱板に光７アイパ端而を接触させ、上記
光ファイバ・端面を鏡面加工する装置において、上記光
７アイパ端面を上記加熱板に接触させるには、従来、ば
ねを使用したり、永久磁石のような一定磁力の磁石を使
用していた。ばねを使用したものは第１図及び第２図に
示すように、光ファイバ１を加熱板２に一定角度で接触
させるための治具３に脱着可能な光フアイバ支持部材４
に、上記光ファイバ１を、その端部が上記光フアイバ支
持部材４から一定量突出させるように捲着し、加熱板２
及び治具３を可動にしておき、加熱板２を押し上げるか
あるいは治具３を押し下げるように設置したばね５によ
り、光フアイバ端面６を加熱板２に押し付けていた。ま
た永久磁石を使用したものは第３図に示すように、上記
第１図、第２図の例において、治具３には磁性体のもの
を用い、固定した磁石７の吸引力により光ファイバ端面
６を加熱板２に押し付けるようになっていた。
光ファイバ・端面を鏡面加工する装置において、上記光
７アイパ端面を上記加熱板に接触させるには、従来、ば
ねを使用したり、永久磁石のような一定磁力の磁石を使
用していた。ばねを使用したものは第１図及び第２図に
示すように、光ファイバ１を加熱板２に一定角度で接触
させるための治具３に脱着可能な光フアイバ支持部材４
に、上記光ファイバ１を、その端部が上記光フアイバ支
持部材４から一定量突出させるように捲着し、加熱板２
及び治具３を可動にしておき、加熱板２を押し上げるか
あるいは治具３を押し下げるように設置したばね５によ
り、光フアイバ端面６を加熱板２に押し付けていた。ま
た永久磁石を使用したものは第３図に示すように、上記
第１図、第２図の例において、治具３には磁性体のもの
を用い、固定した磁石７の吸引力により光ファイバ端面
６を加熱板２に押し付けるようになっていた。
上記のような装置では、光ファイバ端面６に加わる圧力
の変化は、治具３と加熱板２との距離により決まり、任
意に制御できないため、良好な光フアイバ端面が得にく
いという欠点があった。
の変化は、治具３と加熱板２との距離により決まり、任
意に制御できないため、良好な光フアイバ端面が得にく
いという欠点があった。
本発明は上記の点を改善するために成したものであって
、その目的とするところは、光ファイバ端部の熱処理に
おいて、光フアイバ端面に加えふ力を任意に制御するこ
とにより、良好な光フアイバ端面の得ることのできる光
ファイバ端部処理装置を提供することにある。
、その目的とするところは、光ファイバ端部の熱処理に
おいて、光フアイバ端面に加えふ力を任意に制御するこ
とにより、良好な光フアイバ端面の得ることのできる光
ファイバ端部処理装置を提供することにある。
以下本発明を実施例として掲げた図面に基づき説明する
。第４図（ａ）は本発明の一実施例を示す光フアイバ端
面処理装置の構成図である。光ファイバ１を鏡面を有し
た加熱板２に一定角変で接触させるための治具３に脱着
可能な光フアイバ支持部材４に、上記光ファイバ１を、
その端部が上記光フアイバ支持部材４から一定量突出さ
せるように装着する。上記治具３と光フアイバ支持部材
４とは一体であっても良い。上記突出した光ファイバ１
の端部６は加熱板２の鏡面側に対向して設置される。加
熱板２の下方には、対を成す複数個の磁石７．７′が固
定される。上記磁石７．７／の加熱板２に関してｔ方に
おける磁力を可変すみために、磁石７．７１の下方に磁
性体より成る可動短絡板８を設置し、更に上記短絡板８
の上下方向の位置を制御するための短絡板制御機構９を
設ける。また治具３と加熱板２との間には非磁性体のバ
ネ１０か介在する。
。第４図（ａ）は本発明の一実施例を示す光フアイバ端
面処理装置の構成図である。光ファイバ１を鏡面を有し
た加熱板２に一定角変で接触させるための治具３に脱着
可能な光フアイバ支持部材４に、上記光ファイバ１を、
その端部が上記光フアイバ支持部材４から一定量突出さ
せるように装着する。上記治具３と光フアイバ支持部材
４とは一体であっても良い。上記突出した光ファイバ１
の端部６は加熱板２の鏡面側に対向して設置される。加
熱板２の下方には、対を成す複数個の磁石７．７′が固
定される。上記磁石７．７／の加熱板２に関してｔ方に
おける磁力を可変すみために、磁石７．７１の下方に磁
性体より成る可動短絡板８を設置し、更に上記短絡板８
の上下方向の位置を制御するための短絡板制御機構９を
設ける。また治具３と加熱板２との間には非磁性体のバ
ネ１０か介在する。
次に第４図、第５図を用いて上記構成の光フアイバ端面
処理装置の動作を説明する。第５図（ａ）は加熱板２の
表面温度の時間変化の一例であり、第５図（ｂ）は治具
３に加える磁力の時間変化の一例であ石。最初は加熱板
２のヒータはオフ状態であり、短絡板８は磁石７．７１
からの距離ｌが遠い状態に設置されている。時刻ｔｏに
おいて加熱板２のヒータがオンされると、それに連動し
て短絡板制御機構９が動作し、短絡板８は磁石７．７／
に近づけられる。この結果、磁石７．７／の磁力が増加
し、治具３はバネ【０の反発力より大きな力で磁石７゜
７／即ち加熱板２の方向に引き寄せられ、第４図（ｂ）
に示すように、光ファイバ端部６は加熱板２の鏡面に押
し当てられる。加熱板２の表面温度は上昇して行き、光
ファイバ１の軟化点に達し、光フアイバ端面６は融解さ
れ、第４図（ｃ）に示す状態に至る。この後の時刻１１
において加熱板２のヒータをオフすると、加熱板２の表
面温度は下降する。また短絡板制御機構９により、治具
３に加わる磁力を第５１ｉ（ｂ）に示すように制御して
、光ファイバ端部６及びその近傍が完全に硬化し、安定
する時刻ｔ１まで、光フアイバ端面６には圧力が加えら
れていみようにしておく。時刻ｔ２で再び短絡板８は磁
石７．７／から遠ざけられ、治具３に加わる磁力は減少
するので、治具３はバネｌＯの力により上昇し、第４図
（ａ）の状態に戻る。以上の過程により、鏡面状の光フ
アイバ端面が得られる。更に治具３の脱着も制御すれば
、処理の完了を容易に判断させふことや、処理の自動化
も可能である。
処理装置の動作を説明する。第５図（ａ）は加熱板２の
表面温度の時間変化の一例であり、第５図（ｂ）は治具
３に加える磁力の時間変化の一例であ石。最初は加熱板
２のヒータはオフ状態であり、短絡板８は磁石７．７１
からの距離ｌが遠い状態に設置されている。時刻ｔｏに
おいて加熱板２のヒータがオンされると、それに連動し
て短絡板制御機構９が動作し、短絡板８は磁石７．７／
に近づけられる。この結果、磁石７．７／の磁力が増加
し、治具３はバネ【０の反発力より大きな力で磁石７゜
７／即ち加熱板２の方向に引き寄せられ、第４図（ｂ）
に示すように、光ファイバ端部６は加熱板２の鏡面に押
し当てられる。加熱板２の表面温度は上昇して行き、光
ファイバ１の軟化点に達し、光フアイバ端面６は融解さ
れ、第４図（ｃ）に示す状態に至る。この後の時刻１１
において加熱板２のヒータをオフすると、加熱板２の表
面温度は下降する。また短絡板制御機構９により、治具
３に加わる磁力を第５１ｉ（ｂ）に示すように制御して
、光ファイバ端部６及びその近傍が完全に硬化し、安定
する時刻ｔ１まで、光フアイバ端面６には圧力が加えら
れていみようにしておく。時刻ｔ２で再び短絡板８は磁
石７．７／から遠ざけられ、治具３に加わる磁力は減少
するので、治具３はバネｌＯの力により上昇し、第４図
（ａ）の状態に戻る。以上の過程により、鏡面状の光フ
アイバ端面が得られる。更に治具３の脱着も制御すれば
、処理の完了を容易に判断させふことや、処理の自動化
も可能である。
なお上記実施例では光ファイバ１が加熱板２に押し当て
られる圧力を制御するのに、短絡板８を光ファイバ１の
軸方向に移動させて行なっているが、棒吠の短絡板８を
用い、軸を中心として回転させることにより、磁石７．
７１と短絡板８との距離を可変しても良い。また、磁石
７．７／そのものを光ファイバ１の軸方向に可動するよ
うにして。
られる圧力を制御するのに、短絡板８を光ファイバ１の
軸方向に移動させて行なっているが、棒吠の短絡板８を
用い、軸を中心として回転させることにより、磁石７．
７１と短絡板８との距離を可変しても良い。また、磁石
７．７／そのものを光ファイバ１の軸方向に可動するよ
うにして。
磁石７．７１と治具との距離を可変するようにしてもよ
い。
い。
第６図は未発明の他の実施４？ｊｌ ％示す光フアイバ
端面処理装置の構成図である。上記実施例と異なる点は
、治具３を加熱板２の方向に引き寄せるために用いた磁
石７．７１及び短絡板８、短絡板制御機＄９の替りに、
電磁石１１及びその磁力を制御する磁力制御群臣を用い
ることにある。Ｌ配電磁石１１を加熱板２の下方に設置
し、上記磁力制御器しにより電磁石１１への電流を可変
して、治具３に対する吸引力を制御器る。他の構成及び
動作は前記実施例と同等であるので説明を省略する。
端面処理装置の構成図である。上記実施例と異なる点は
、治具３を加熱板２の方向に引き寄せるために用いた磁
石７．７１及び短絡板８、短絡板制御機＄９の替りに、
電磁石１１及びその磁力を制御する磁力制御群臣を用い
ることにある。Ｌ配電磁石１１を加熱板２の下方に設置
し、上記磁力制御器しにより電磁石１１への電流を可変
して、治具３に対する吸引力を制御器る。他の構成及び
動作は前記実施例と同等であるので説明を省略する。
上記のように本発明によれば、光ファイバ鰺面の熱処ｊ
里において、磁石及びその磁石の吸引力を制御する手段
を設けたことにより、Ｎ面を有する加熱板と光ファイバ
・喘面間の接触圧力を、上記加・熱板の表面温度あるｂ
はヒータ電埼１．加熱時間等で任意に変化させ′ること
かできるので、より均一で良好な光フアイバ端面の得ら
れる光フアイバ端面処理装置を提供できた。
里において、磁石及びその磁石の吸引力を制御する手段
を設けたことにより、Ｎ面を有する加熱板と光ファイバ
・喘面間の接触圧力を、上記加・熱板の表面温度あるｂ
はヒータ電埼１．加熱時間等で任意に変化させ′ること
かできるので、より均一で良好な光フアイバ端面の得ら
れる光フアイバ端面処理装置を提供できた。
＃１図〜第３図は従来の光フアイバ端面処理装置の構成
図、第４図（ａ）〜（ｃ）は本発明の一実施例の光フア
イバ端面処理装置の構成及び動作を示す断面図、第５図
（ａ）は加熱板の時間変化の一例を示すし グラフ、第５図（６）は治具に加わる磁力の時間変化の
一例を示すグラフ、第６図は本発明の他の実施例の構成
を示す断面図を表わす。 １・・・光ファイバ、２・・・加熱板、３・・・治具、
６・・・光フアイバ端面、７．７／・・・磁石、８・・
・短絡板、９・・・短絡板制御機構、１０・・・バネ、
１１・・・電磁石、１２・・・磁力制御器。 特許出願人 桧下電工株式会社 代理人弁理士 竹元敏丸（ほか２名） 第１図 特許庁長官 殿 １．事件の表示 穐。 昭和５９年 特許願 第０８５２９３号２、発明の名称 光フアイバ端面処理装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪府門真市大字門真１０４８番地名 称 （
５８３）松下電工株式会社 代表者 小 林 −郁 ４、代理人 住 所 大阪府門真市大字門真１０４８番地６、補正の
対象 図面 第５図
図、第４図（ａ）〜（ｃ）は本発明の一実施例の光フア
イバ端面処理装置の構成及び動作を示す断面図、第５図
（ａ）は加熱板の時間変化の一例を示すし グラフ、第５図（６）は治具に加わる磁力の時間変化の
一例を示すグラフ、第６図は本発明の他の実施例の構成
を示す断面図を表わす。 １・・・光ファイバ、２・・・加熱板、３・・・治具、
６・・・光フアイバ端面、７．７／・・・磁石、８・・
・短絡板、９・・・短絡板制御機構、１０・・・バネ、
１１・・・電磁石、１２・・・磁力制御器。 特許出願人 桧下電工株式会社 代理人弁理士 竹元敏丸（ほか２名） 第１図 特許庁長官 殿 １．事件の表示 穐。 昭和５９年 特許願 第０８５２９３号２、発明の名称 光フアイバ端面処理装置 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 大阪府門真市大字門真１０４８番地名 称 （
５８３）松下電工株式会社 代表者 小 林 −郁 ４、代理人 住 所 大阪府門真市大字門真１０４８番地６、補正の
対象 図面 第５図
Claims (1)
- （１）鏡面を有する加熱板と、光フアイバ端面を上記加
熱板に所定角度で接触融解させるための治具とより成る
光フアイバ端面処理装置において。 上記治具を磁性体で形成すると共に、上記加熱板の下方
に設置した磁石と、上記磁石の吸引力を制御する手段と
を設けたことを特徴とする光フアイバ端面処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8529384A JPS60227203A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 光フアイバ端面処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8529384A JPS60227203A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 光フアイバ端面処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60227203A true JPS60227203A (ja) | 1985-11-12 |
| JPH0154681B2 JPH0154681B2 (ja) | 1989-11-20 |
Family
ID=13854531
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8529384A Granted JPS60227203A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 光フアイバ端面処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60227203A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6291604U (ja) * | 1985-11-29 | 1987-06-11 |
-
1984
- 1984-04-25 JP JP8529384A patent/JPS60227203A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6291604U (ja) * | 1985-11-29 | 1987-06-11 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0154681B2 (ja) | 1989-11-20 |
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